Физика высокочастотного разряда пониженного давления в процессах обработки капиллярно-пористых и волокнистых материалов тема автореферата и диссертации по физике, 01.04.08 ВАК РФ

ШАЕХОВ Марс Фаритович

На правах рукописи

ФИЗИКА ВЫСОКОЧАСТОТНОГО РАЗРЯДА ПОНИЖЕННОГО ДАВЛЕНИЯ В ПРОЦЕССАХ ОБРАБОТКИ КАПИЛЛЯРНО-ПОРИСТЫХ И ВОЛОКНИСТЫХ МАТЕРИАЛОВ

Специальность 01.04.ОБ - физика плазмы Автореферат Диссертации па соискание ученой степени доктора технических наук

Москва 2006

Работа выполнена в государственном образовательном учреждении

высшего профессионального образования «Казанский государственный технологический университет»

Научный консультант: — доктор технических наук, профессор

Абдуллин Илъдар Шаукатович

Официальные оппоненты: —доктор технических наук, профессор

Николаев Анатолий Владимирович

— доктор технических наук, профессор

Пузряков Анатолий Филиппович

- доктор технических наук, профессор

Лозован Александр Александрович

Ведущая организация: Институт Нефтехимического Синтеза

им. A.B. Топчиева РАН

Защита состоится «¿f_» 2006 г. в «4/» час. на заседании

диссертационного совета Д 002.060.03 при Институте металлургии и материаловедения им. A.A. Байкова РАН по адресу 119991, Россия, Москва, Ленинский пр-т., 49.

С диссертацией можно ознакомиться в библиотеке Института металлургии и материаловедения им. A.A. Байкова РАН.

Автореферат разослан «Ü.» мол^Л 2006 г.

Ученый секретарь

диссертационного совета, _К_Д<Григорович

доктор технических наук, профессор ^

Общая характеристика работы* : ! - • < | к

Актуальность проблемы. Неорганические и органические, синтетические и натуральные: капиллярно-пористые и: волокнистые материалы широко применяются в промышленности и в быту. Физические и механические свойства этих материалов не удовлетворяют современным требованиям, в связи с чём возникает необходимость их модификации. Возможности модификации свойств этих материалов традиционными методами практически исчерпаны. Поэтому в настоящее время интенсивно исследуются возможности применения новых технологий, в том числе с использованием неравновесной низкотемпературной плазмы. I

Эффективным методом модификации материалов различной физической природы является обработка в плазме- высокочастотного (ВЧ) струпного разряда при пониженном давлении в диапазоне от 13,3 до 133 Па. Этот вид разряда характеризуется следующими параметрами: в разряде концентрация электронов «,,= 1017 — 1019 м~\ температура электронов ~ 1 - 3 эВ, температура Тяжелых частиц до1 Ту= 0,27 эВ4 в плазменной струе ■п^ 1016 — 1018 м0','1 Т?¡= 1 - 2 эВ, температура тяжелых частиц до Тг 0,02 эВ. Плазма ВЧ разряда понт жетгого давления позволяет эффективно обрабатывать порошковые материалы, малогабаритные изделия, внутренние и наружные поверхности изделий сложной конфигурации. В последнее время плазменные технологии стали применять длй обработки тканей, нитей, полимерных материалов; обладающих капиллярно-гтсфистой И ВОЛОКНИСТОЙ структурой. '>'.':',•. " ■ ■; •'«• 11!!;К1 п,1

Обработка в ВЧ разряде пониженного давления позволяет ¡увеличить адгсзшо полимерны:-; материалов к покрытию, изменить физические свойства натуральных, ' искусственных и синтетических капиллярночтористых ..и; волокнистых матеуЗййлов. Однако в настоящее время физика "ВЧ- разряда пониженного давления- в процессах обработки капидлярно-пористыхыи волокнистых материалов :№с изучена, не установлена физическая ¡сущность процесса взаимодействия'ВЧ разряда пониженного давления гсокапиллярно'-: пористыми и волокНиС+ьийМ ' материалами, Все это^сдержипает^разработк^ плазменных установок и технологических процессов для модификации капиллярно-пористых й'волокНйЬШх тел и внедрение-их[в производство.

Диссертационная 11 работа" "направлена патл решении ('актуальной проблемы комплексного'--'¡исследования высо'кочастотнргсИ и': разряда пониженного давления«1!» процесекк' модификации капиллярнониористых-и-волокнистых материалов. ' ¡позволяющих существенно-- ^ '.'''''''Повысить технологические и эксплуатационные характеристики изделий .мз'.оэгмие материалов ¿а счет нелейаправ'Ленного изменения их структуры,' физических и механических свойств. '■■" ■' •••■••у:- ¿мгмкяптооп

В диссертации изложены результаты работы автора по исследованию высокочастотного разряда понижшйо№!'Аав.чения с продувомтяза в^роиессах

. '. ..->'„ .1 Г.ч , ■ : . XWr.lulWW.Of ; ' ' < "''К ¡.""1-- I ¡1

' выражаю "свонЬ ''благода^йосУи з£ 'ШйуМ¥'йЙик)!и'#ос|>., <гд'Л'пУ'К^Яйиаьу Владимиру Владимировичу ' • "^жчг/оя

-3 -

обработки различных капиллярно-пористых и волокнистых материалов, а также материалов компактной структуры в период 1998 — 2006 г.г..

Работа выполнялась в Казанском государственном технологическом университете в рамках программы Министерства образования РФ №417 "Взаимодействие атомных частиц с поверхностью - новые методы и технологии", по теме "Взаимодействие низкотемпературной плазмы с поверхностью твердых тел" 1992 - 2000 гг.. Федеральной программы «Концепция развития мехового комплекса России на 1999-2005 г.г.», Федеральной программы "Экологическая безопасность России" (шифр 8.1.38), при поддержке грантов ЛИ РТ № 06-6.4-113 и № 06-6.4-299 по теме «Высокочастотная плазменная струйная обработка твердых тел компактной и капиллярно-пористой структур» 2002 - 2005 г.

Цель и задачи исследования. Целью работы являются комплексные исследования высокочастотного разряда пониженного давления с продувом газа в процессах модификации капиллярно-пористых и волокнистых материалов, результаты которых позволяют создавать на их основе технологические процессы для направленного изменения структуры, физических и механических свойств этих материалов.

Поставленная цель достигается решением следующих основных

задач:

1) Комплексные экспериментальные исследования параметров ВЧ разряда пониженного давления с продувом газа в процессах взаимодействия с капиллярно-пористыми и волокнистыми материалами в сравнении с обработкой материалов компактной структуры;

2) Исследование характеристик высокочастотного разряда внутри пористого объема капиллярно-пористых и волокнистых материалов.

3) Разработка математической модели взаимодействия ВЧ разряда пониженного давления с капиллярно-пористыми и волокнистыми материалами.

4) Изучение и установление закономерностей изменения свойств капиллярно-пористых и волокнистых материалов в результате воздействия ВЧ-разряда пониженного давления в сравнении с материалами компактной структуры.

5) Создание физической модели объемной обработки в ВЧ разрядах пониженного давления капиллярно-пористых и волокнистых материалов.

6) Разработка применений объемной обработки капиллярно-пористых и волокнистых материалов с помошыо ВЧ разрядов пониженного давления в технологических процессах модификации материалов различной физической природы.

Методики исследований. В диссертационной работе для решения поставленных задач применены современные методы и методики исследований.

Для исследований параметров плазменной струи при обработке капиллярно-пористых и волокнистых материалов с использованием высокочастотного ■ разряда пониженного давления создан измерительный комплекс, состоящий из: ...

1. модифицированной трубки Пито для измерения скорости плазменного потока в процессах обработки капиллярно-пористых и волокнистых материалов;

2. измерителя лучистых потоков и проточных калориметров для определения плотности теплового потока при обработке капиллярно-пористых и волокнистых материалов;

3. миниатюрного магнитного зонда для определения напряженности магнитного поля в ВЧ разряде и окрестности капиллярно-пористых и волокнистых материалов;

4. миниатюрного пояса Роговского для измерения плотности тока в ВЧ разряде и окрестности капиллярно-пористых и волокнистых материалов;

5. системы СВЧ измерения концентрации электронов методом свободного пространства, резонаторным методом и методом отсечки сигнала при обработке в ВЧ разряде капиллярно-пористых и волокнистых материалов;

6. топографического интерферометра для измерения концентрации электронов и толщины слоя положительного заряда (СПЗ) в окрестности капиллярно-пористых и волокнистых материалов;

7. анализатора с осесимметричным электрическим полем для измерения энергии ионов, бомбардирующих поверхность, и плотности ионного тока поступающего на поверхность капиллярно-пористых и волокнистых материалов;

8. одиночного зонда Ленгмюра для измерения постоянного потенциала плазмы в окрестности капиллярно-пористых и волокнистых материалов и внутри пористого объема.

Для определения степени воздействия ВЧ разряда пониженного давления на свойства капиллярно-пористых и волокнистых материалов использовались электронная микроскопия, рентгеноструктурный и рентгенографический анализ, ИК спектроскопия, стандартные методики измерения физико-механических свойств.

Теоретические исследования процесса взаимодействия ВЧ разряда пониженного давления с капиллярно-пористыми и волокнистыми материалами проводились с помощью математического моделирования, на основе современных численных методов с использованием вычислительной техники.

Достоверность сформулированных в диссертации научных положений и практических рекомендаций обеспечена применением комплекса современных методов экспериментальных и теоретических исследований, их статистической обработкой и согласованием экспериментальных и теоретических результатов и в сравнении с результатами других авторов.

Научная новизна.

1. Впервые проведены комплексные экспериментальные исследования ВЧ разрядов пониженного давления в процессах обработки капиллярно-пористых и волокнистых материалов с размерами пор 5-*- 200 мкм, в результате которых установлено, что концентрация электронов, напряженность магнитного поля и плотность тока в плазме уменьшаются на 5- 10% в окрестности образцов, по сравнению с аналогичными характеристиками плазмы, измеренны-

ми при обработке материалов компактной структуры. Характеристики ВЧ разряда и настройка генератора практически не изменяются.

2. Впервые экспериментально установлено, что образец капиллярно-пористого и волокнистого материала в ВЧ разряде пониженного давления становится дополнительным электродом, в его окрестности образуется слой положительного заряда толщиной до 2,5 мм, а на его поверхность поступает поток ионов с энергией 10 - 100 эВ и плотностью ионного тока 0,5 -25 А-м"2.

3. Впервые экспериментально установлено, что при воздействии ВЧ разряда пониженного давления на капиллярно-пористые и волокнистые материалы внутри пористого объема формируется несамостоятельный разряд без положительного столба, положительный потенциал зонда Ленгмюра составляет 5 - 7 В.

4. Впервые с помощью построенной математической модели теоретически обоснована возможность модификации капиллярно-пористых и волокнистых материалов внутри пористого объема. Показано, что в порах и капиллярах создается электрическое поле напряженностью ~ 104 - 105 В-м"1, за счет которого возможно зажигание несамостоятельного разряда.

5. Впервые установлен физический механизм объемной обработки в высокочастотном разряде пониженного давления капиллярно-пористых и волокнистых материалов с размером пор 5 200 мкм. В результате возникновения у поверхности образца слоя положительного заряда, внутри пористого объема зажигается несамостоятельный разряд. Рекомбинация на внутренней поверхности пор и капилляров заряженных частиц, образующихся при пробое газов в объеме пор, приводит к модификации физических свойств материалов.

Практическая ценность работы.

На основе результатов выполненных экспериментальных и теоретических исследований разработаны следующие технологии ВЧ плазменной обработки материалов различной физической природы:

• Плазменная осушка и активация силикагеля, позволяющая уменьшить энергозатраты технологического процесса в 30 раз по сравнению с традиционной технологией, увеличить поглощение катализатора в 1,5 раза;

• Обработка сорбентов, приводящая к увеличению сорбционной емкости за счет вскрытия закрытых пор, увеличения размеров пор.

• Обработка синтетических волокон, позволяющая увеличить прочность сцепления полиэтиленовых волокон с эпоксидной матрицей ЭД20 на 122%, улучшить смачиваемость волокон материалом матрицы;

• Модификация капиллярно-пористых волокнистых материалов животного и растительного происхождения, позволяющая улучшать физико-механические характеристики материала, изменять пористость и аморфно-кристаллическую структуру материала.

• Газонасыщение стали и сплава карбида вольфрама с кобальтом, за счет чего увеличивается срок службы изделий в 4 раза;

Созданные технологические процессы и специальное оборудование для модификации капиллярно-пористых и волокнистых материалов внедрены

в промышленное производство в ПТПТ ОАО «Мелита» и ООО «Фреза» с суммарным экономическим эффектом 15 млн. руб.

На защиту выносятся:

1. Результаты экспериментальных исследований характеристик ВЧ разряда пониженного давления с продувом газа в присутствии капиллярно-пористого и волокнистого материала, характеристик СПЗ, возникающего в окрестности обрабатываемого тела, и характеристик несамостоятельного разряда в пористом объеме материала.

2. Математическая модель СПЗ, описывающая взаимодействие ВЧ разряда пониженного давления с поверхностью в процессе обработки капиллярно-пористых и волокнистых материалов различной физической природы.

3. Закономерности изменения свойств капиллярно-пористых и волокнистых материалов неорганической и органической природы, а также материалов компактной структуры в результате воздействия ВЧ разряда пониженного давления.

4. Физическая модель ВЧ плазменной обработки капиллярно-пористых и волокнистых материалов, описывающая механизм возникновения несамостоятельного разряда в капиллярах и порах изделия.

5. Технологии модификации капиллярно-пористых и волокнистых материалов с применением ВЧ разрядов пониженного давления, позволяющие за счет объемной обработки регулировать эксплуатационные свойства материалов.

Таким образом, диссертационная работа представляет собой научно обоснованную технологическую разработку, обеспечивающую решение ряда важнейших прикладных задач, имеющих большое народнохозяйственное и социальное значение и заключающуюся в создании комплекса новых процессов модификации капиллярно-пористых и волокнистых материалов для улучшения эксплуатационных, потребительских и технологических свойств изделий, с применением ВЧ разряда при пониженном давлении.

Апробация работы. Основные результаты работы докладывались на 17-м Менделеевском съезде по общей и прикладной химии (Казань, 2003), 16-й международной конференции «Thermal Plasma Processes» (Strasbourg, 2000), 3-й, 4-й международных конференциях «Физика плазмы и плазменные технологии» (Minsk, 2000, 2003), международной научно-технической конференции "Актуальные проблемы науки, техники и экономики легкой промышленности" (Москва, 2000), 17-й международной конференции "Взаимодействие ионов с поверхностью (ВИП - 2005)" (Звенигород, 2005), всероссийской научно-практической конференции «Инновации в машиностроении - 2001» (Пенза, 2001), всероссийских научных конференциях по физике низкотемпературной плазмы ФНТП-2001, 2004 (Петрозаводск, 2001, 2004), 4-й международной научно-практической конференции «Хозяйственно-питьевая и сточные воды: проблемы очистки и использования» (Пенза, 2002), 5-й Всероссийской научно-

практической конференции «Современные технологии в машиностроении» (Пенза, 2002), международной студенческой конференции "Фундаментальные науки специалисту нового века" (Иваново, 2002), 11-й конференции по физике газового разряда (Рязань, 2002), 30-й, 31-й, 32-й, 33-й Звенигородской конференции по физике плазмы и УТС (Звенигород, 2003 - 2006), 4-й международной научной конференции "Полимерные композиты, покрытия, пленки" (Гомель, 2003), 3-й Всероссийской конференции «Физическая электроника-2003» (Махачкала, 2003), международной научной конференции "Актуальные проблемы науки, техники и экономики производства изделий из кожи" (Витебск, 2004), отчетной научно-методической конференции КГТУ "Образовательный процесс в КГТУ: вчера, сегодня, завтра" (Казань, 2004) ,4-м Российском семинаре "Современные средства диагностики плазмы и их применение для контроля веществ и окружающей среды" (Москва, 2003), 3-м международном симпозиуме «Вакуумные технологии и оборудование» (Харьков, 1999), 3-м и 4-м Международных симпозиумах по теоретической и прикладной плазмохи-мин (Иваново, 2002, 2005), 16-м международном симпозиуме «Plasma Chemistry» (Taormina, 2003), на круглом столе «Легкая промышленность» (Казань, 2000), первой окружной ярмарке бизнес- ангелов и инноваторов "Российским инновациям - Российский капитал" (Нижний Новгород, 2003), на ежегодной научной сессии КГТУ (1998 - 2006).

Основные результаты изложены в 108 публикациях, в том числе в ведущих рецензируемых научных журналах -14, одной монографии.

За внедрение технологии в ТПТП ОАО «Мелита» в 2003 г. присуждена государственная премия Республики Татарстан в области науки и техники.

Личный вклад автора в опубликованных в соавторстве работах состоит в постановке цели и задач исследований, выборе методики эксперимента, непосредственном участии в их проведении, анализе и обобщении экспериментальных результатов, в разработке математической модели взаимодействия ВЧ разряда пониженного давления с материалами, разработке физической модели возникновения несамостоятельного разряда в капиллярно-пористом объеме, разработке технологии обработки материалов ВЧ разрядом пониженного давления. Вклад автора является решающим на всех стадиях работы.

Структура и объем диссертации. Диссертационная работа состоит из введения, 6 глав, выводов, библиографии (452 наименования) и приложения. Изложена на 350 страницах машинописного текста, содержит 110 рисунков и 35 таблиц.

Содержание работы

Во введении обоснована актуальность темы исследования, изложена основная цель, поставлены задачи и представлена структура диссертации, сформулирована научная новизна, практическая значимость работы, основные положения, выносимые на защиту.

В первой главе дан обзор известных экспериментальных и теоретических результатов, методов исследований и применений ВЧ разрядов

пониженного давления. Проведен анализ наиболее распространенных методов модификации капиллярно-пористых и волокнистых материалов и рассмотрены их возможности в формировании различных свойств изделий. Установлено, что наиболее перспективными методами обработки капиллярно-пористых и волокнистых материалов являются разряды, создаваемые за счет высокочастотного электромагнитного поля при пониженном давлении.

На основе анализа литературных данных по модификации капиллярно-пористых и волокнистых материалов сформулированы цель и основные задачи работы.

Во второй главе приведены результаты экспериментальных исследований ВЧ плазмы при пониженном давлении в процессах обработки капиллярно-пористых и волокнистых материалов в сравнении с материалами компактной структуры.

В качестве образцов для обработки взяты капиллярно-пористые и волокнистые материалы (силикагель, сорбенты, полученные из рисовой лузги и гречишной шелухи, полиэтилен в виде мононитей, натуральная кожа и мех и целлюлозные нити), проводящие и диэлектрические материалы компактной структуры (нержавеющие и конструкционные стали, твердые сплавы, полиэтилен в виде пластин).

Обработка проводилась на ВЧ плазменной установке, состоящей из стандартных блоков и элементов, включающих в себя генератор, ВЧ индуктор и ВЧ — электроды, вакуумную систему, систему подачи плазмообразующего газа и диагностической аппаратуры (рис. 1). Высокочастотный генератор, собранный по одноконтурной схеме с общим катодом, может быть настроен на индуктивную и емкостную нагрузку и позволяет получать ВЧ разряды различных типов.

На основании анализа характерных особенностей процессов, протекающих в потоке неравновесной низкотемпературной плазмы при пониженном давлении, разработан исследовательский комплекс для экспериментальных исследований параметров ВЧ разрядов при обработке материалов различной внутренней структуры.

Исследования проводили при варьировании входных параметров установки в следующих пределах: давление от 13,3 Па до 133 Па, частота генератора от 1,76 МГц до 13,56 МГц, расход плазмообразующего газа от 0 до 0,18 г-с"1. В качестве плазмообразующего газа в экспериментах использовался аргон высшего сорта, воздух, азот, пропан и их смеси с Аг (до 30 %).

В исследуемом диапазоне реализованы ВЧ разряды индукционного типа с соленоидальным индуктором и емкостного типа с кольцевыми и плоскими электродами. Потребляемая мощность генераторов от 10 до 90 кВт.

Изучены энергетические, газодинамические и электрические параметры ВЧ разрядов пониженного давления в присутствии материалов различной внутренней структуры: мощность разряда, скорость потока плазмы, концентрация электронов, плотность ВЧ тока, напряженность магнитного поля, и положительный потенциал плазменного столба, плотность ионного тока и энергия ионов бомбардирующих поверхность материалов, толщина слоя положи-

тельного заряда в окрестности обрабатываемых тел, ток утечки разряда внутри пористой системы. (Табл. 1).

Поскольку капиллярно-пористые и волокнистые материалы содержат значительное количество различных сорбированных веществ, которые в процессе обработки ВЧ плазме пониженного давления поступают в плазму и изменяют её свойства, проведены сравнительные исследования параметров разряда в присутствии различных материалов.

Измерения концентрации электронов методами СВЧ зондирования показали, что при обработке металлов концентрация электронов в высокочастотном индукционном (ВЧИ) разряде

пониженного

давления

Рис. 1: Функциональная схема экспериментальной ВЧ плазменной установки для обработки капиллярно-пористых и волокнистых материалов с различными конструкциями разрядных устройств. 1 - ВЧ - генератор, 2 -цилиндрическое разрядное устройство с или кольцевыми электродами, камера, 4 - разрядное плоскопараллельными ■ вакуумный насос, 6 -аппаратура, 7 - система регулирования и питания газом, 8 - блоки питания, 9 - система водоохлаждения, 10 -поворотное устройство.

индуктором 3 - вакуумная устройство с электродами, 5 диагностическая

достигает значения 3-1018 м"3. При пропускании через разряд силикагеля

концентрация электронов уменьшается до значения 5 — 6 -(10П) м"3, а при обработке сорбентов до 2-10 объясняется интенсивным сорбированых сравнению с силикагеля. В газов входит

17

-3

м", что более выделением газов по обработкой состав этих воздух, пары воды, пары нефтепродуктов, в связи с этим, часть энергии вкладываемой в разряд расходуется на процессы диссоциации, возбуждения вращательных и

колебательных степеней свободы молекулярных

примесей.

В высокочастотном емкостном (ВЧЕ) разряде пониженного давления концентрация электронов при обработке металлов меньше, чем ВЧИ разряде при одинаковой вводимой мощности Рр = 2,0 кВт в разряд и составляет (0,5 -2)-1017 м~3.

При обработке полиэтилена Рр = 1,2 кВт, р= 53,2Па, йлг— 0,04 г-с"1 концентрация электронов повышается до 10 м"3, а при обработке натуральных полимеров уменьшается до (4 - 8)-1016м"3. Это объясняется тем, что при обработке проводящего материала по сравнению с диэлектрическими

материалами часть заряда стекает даже при отсутствии заземления, что приводит к уменьшению концентрации электронов в объеме плазмы. При обработке натуральных капиллярно - пористых и волокнистых материалов, также как при обработке сорбентов, в плазму поступают из капилляров и пор сорбированные газы, пары воды, и остатки химических реагентов, применяемых в процессе переработки, что приводит к уменьшению концентрации электронов в окрестности образца.

Таблица 1.

Характеристики ВЧ разрядов при одинаковых параметрах разряда и варьированием в диапазоне мощности разряда 0,5 — 3 кВт, давлении 13,3 — 133 Па,

Характеристики разрядов и СПЗ Типы разрядов

индукционный емкостный

Частота генератора 1,76 МГц 13,56 МГц

Плотность общего теплового потока, Вт-м"3 5 103 - 5 104 102-103

Скорость потока м-с"1 150-500 150-570

Концентрация электронов, Гм"'' 10'6 - 10|у 1016 — 101У

Напряженность магнитного поля, А-м"1 50-200 5-130

Плотность электрического тока в плазме, А-м"2 1,3-10"6 1,0-10"4

Потенциал плазменного столба, В 10 100

Энергия ионов поступающая на поверхность, эВ 10-55 65-100

Плотность ионного тока, поступающая на поверхность, А-м"2 15-25 0,5-2,5

Толщина СПЗ в окрестности тела, мм 0,1-0,3 3-7

Потенциал капиллярно - пористом объеме, В 0,5-2 4-10

Напряженность магнитного поля и плотности тока в разряде в присутствии капиллярно-пористых и волокнистых материалов снижается примерно на 5 - 10 % по сравнению с образцами материалов компактной структуры.

За образцом в струйном ВЧИ разряде наблюдается снижение напряженности магнитного поля у ткани на 5%, у кожи примерно на 8%, у полиэтилена на 10 % по сравнению с металлическими образцами. Это говорит о том, что СПЗ формируется с обеих сторон капиллярно-пористых и волокнистых материалов.

В ВЧЕ разряде при обработке капиллярно-пористых и волокнистых материалов наблюдается появления электромагнитных полей в окрестности

образца как у электродов, это доказывает, что образец становится дополнительным электродом (Рис. 2).

Температура натуральных полимеров при обработке ВЧ разрядом пониженного давления по сравнению с начальной температурой изменяется незначительно, повышается не более чем на 50 °С за 40 минут обработки, это объясняется тем что в натуральных полимерах насыщение водой достигает более 16% поэтому малое увеличение температуры можно объяснить интенсивным испарением влаги.

Анализ полученных результатов позволяет заключить, что введение капиллярно-пористых и волокнистых материалов в струю плазмы незначительно изменяет параметры плазмы у поверхности капиллярно-пористых и волокнистых материалов в сравнении с материалами компактной структуры и практически не влияет на характеристики ВЧ разряда и на настройку генератора.

Полученные результаты показывают, что любое тело, независимо от его внутренней структуры (компактное или пористое), является дополнительным электродом, что подтверждается наличием электромагнитных полей между верхним витком индуктора или электрода и телом, повышенной концентрацией заряженных частиц в плазменной струе (на 8 — 9 порядков) по сравнению с рекомбинирующей плазмой.

У поверхности любого тела, независимо от его проводящих свойств и внутренней структуры, создается СПЗ, что подтверждается голографическими измерениями плазмы в окрестности образ-ца(Рис. 3), результатами измерения энергии ионов (Рис. 4) и плотности ионного тока поступающих на поверхность образца, а также результатами измерений потенциала плазмы относительно тела.

Обнаружено, что при введении электростатического зонда внутрь капиллярно-пористого и волокнистого материала наблюдается ток утечки 4-6 мкА. Потенциал на электростатическом зонде внутри пористого объема зависит от размеров пор материала, значение его составляет от 0,5 до 10 В, что коррелирует с ВАХ несамостоятельного разряда. Это говорит о зажигании несамостоятельного разряда без положительного столба.

Выполненные экспериментальные исследования позволили установить, что основными воздействующими факторами, способными модифициро-

Рис. 2. Распределение магнитного поля между электродами

(ВЧЕ-разряд, /=13,56 МГц, РР=0,5 кВт, Р=53 Па, О,,,,,,>ух =0,04 г-с"1), 1 - без образца, 2 - кожа, 3- ткань, 4 -полиэтилен.

вать поверхность тела, являются ннзкоэнергетичная ионная бомбардировка, энергия рекомбинации ионов и термическое воздействие на внешнюю геометрическую поверхность образца. Внутренняя поверхность материала модифицируется под воздействием энергии рекомбинации ионов, возникающих при зажигании несамостоятельного разряда без положительного столба в норовом объеме.

р- - -'—1

/

у //

Рис. 3 Интерферограмма слоя положительного заряда в окрестности образца. (ВЧИ разряд, Рр= 2,0 кВт, Р= 53,2 Па, СДГ 0,04 г-с').

0.5 1.0 1.5 /',,кВг

Рис. 4 Зависимость энергии ионов от мощности разряда (Р=53,2 Па, САГ 0,04 г-с1).

1, 3, 4 - ВЧИ разряд; 2, 5, 6, 7 -ВЧЕ разряд; 1, 2, - сталь 20X13; 3, 5- силикагель; 4, 7 — кожа и мех; 6 — полиэтилен.

В третьей главе, с целью выяснения причин обнаруженного эффекта, разработана математическая модель взаимодействия высокочастотных разрядов пониженного давления с диэлектрическими капиллярно-пористыми и волокнистыми материалами.

Модель построена в предположении, что рабочий газ является инертным и плазма состоит из частиц трех сортов: нейтральные атомы, электроны и

положительные однозарядные ионы. В диапазоне давлений 13,3 - 133 Па и частот 1, 76 — 13,56 МГц плазму высокочастотных разрядов пониженного давления можно считать сплошной средой, функцию распределения электронов по энергиям максвелловской.

Плоский образец, помещенный в ВЧ плазму пониженного давления, рассекает ее на 2 части, в каждой из которых электроны продолжают совершать «качания» в своих промежутках. Поэтому рассмотрим модель, которая описывает свойства СПЗ с обеих сторон образца, (рис. 5).

^Образец1 КПИ

7П

Рис. 5 Структура слоя положительного заряда возле обрабатываемого изделия в ВЧ разряде пониженного давления

Система, описывающая свойства СПЗ, включает в себя:

1) уравнение Пуассона для мгновенного значения потенциала <рпО,х) электрического поля относительно плазмы:

е

дх' еп

(1)

с граничными условиями

дх

2еп

дх

2е„

2) уравнения неразрывности электронного и ионного газов

дП ;

Г

ох

а

с граничными и начальными условиями

= у,пс, (1,<х<-аь; аь<х<с1,, 1>0,

пе\т

ехр| I—ЖЕ~ еф

кТР

1/2

У ¡Л ~]ае

х = ±аь, V/ >0,

дп.

",'т..

1 + -

леЕ

х = ±аь, V/ > 0,

",0,0) =

(2)

(3)

(4)

(5)

(6)

= ,-(1ч<х<-аь; аь<х<(1,. В уравнении (3) знак «минус» относится к электронам, «плюс» - к ио-

(7)

нам.

3) задачу Коши для уравнения динамики плотности поверхностного заряда (О тела

ш

<7,(0) =

(В)

(9)

4) уравнение Пуассона для потенциала электрического поля в капиллярно-пористом теле

8хУ ° дх ) 8„

Ы±а1)=<Рп(±аь)

= -(<-«;). -а„<х<а„ - 14 -

Здесь ¡иЛ1 - подвижности электронов и ионов, г,, - диэлектрическая постоянная, ел - диэлектрическая проницаемость капиллярно-пористого и волокнистого материала, <рц - плавающий потенциал тела; <рь - потенциал электрического поля, у, - коэффициент вторичной ионно-электронной эмиссии,

- толщина образца, Д.., - коэффициент электронной и ионной диффузии, г/, -

толщина СПЗ; е - заряд электрона. Е=Е.+Ер, Еп = -1 , - напряженность

сх

электрического поля, создаваемого зарядами, Е. - напряженность электрического ВЧ поля, создаваемого плазмотроном, - плотность электронного тока на поверхность тела,)ш, - плотность тока автоэлектронной эмиссии, к - постоянная Больцмана, я'0' - концентрация электронов на границе квазинейтральной плазмы и СПЗ, - концентрация свободных ионов и электронов в КПМ, I

- время, п - частота ионизации, г(, - частоты упругих столкновений, соответственно, электронов и ионов с атомами и ионами, уг , - средние теп-

ловые скорости электронов и ионов,

'ВкТ^У" ~ я«/ е, =-г£

ут =

-Г

юпе1 J

»',- '«Л,

В результате исследования основных обобщенных параметров ВЧ разряда (энергии ионов и плотности ионного тока) получены зависимости их изменения от расхода плазмообразуьОщего газа, давления, мощности разряда, расстояния от среза плазмотрона, вида газа и обрабатываемого материала. При этом значения основных обобщенных параметров И',, /',, ответственных за обработку и за получение приемлемых выходных характеристик процесса для каждого типа разряда заключены в определенный диапазон значений: в ВЧ разряде емкостного типа \¥, — 50 - 100 эВ, у, - 0,5 - 1,5 Л-м"~; в разряде индукционного типа И', - 10-30 эВ, /, = 5-25 А-м"2. Разрабатывается инженерная методика расчета характеристик ВЧ плазмы пониженного давления, ответственных за модификацию поверхности твердых тел.

В результате проведенных расчетов установлено, что процессы зарядки и разрядки поверхностей протекают со сдвигом на половину периода колебаний электрического поля. При этом в силу синхронности колебаний, электронное облако приближается к образцу поочередно, то с одной стороны, то с другой, так что СПЗ с разных сторон образца пульсируют в противофазе друг с другом.

В силу большей подвижности электронов, поверхность образцов в ВЧ плазме пониженного давления в целом заряжается отрицательно относительно плазмы. В среднем за период колебания поля электронный и ионный потоки на поверхности равны. Однако динамика их разная. Поток ионов поступает на электрод в течение всего, периода колебания ВЧ поля под влиянием отрицательного заряда тела, а электроны поступают из плазмы в полупериод

положительной напряженности поля в виде импульса тока, длительность которого зависит от условий в разряде.

Ионы, поступающие на поверхность тела рекомбинируют на ней, уменьшая заряд тела. Дополнительными факторами, уменьшающими поверхностный заряд образца, являются вторичная ионно-электронная и авто электронная эмиссии. Токи вторичной ионно-электронной и автоэлектронной эмиссии имеют импульсно-периодический характер, их максимальное значение соответствует пику отрицательной фазы напряженности электрического поля.

Поэтому в каждый момент времени плотность поверхностного заряда <7,(У каждой из сторон образца равна

■ - о-, (0=-1[/,(0■+■],(0+./„,(О- Мк • (ю)

ео

где ]\.(т), ],(г) — плотности электронного и ионного токов на поверхности тела, )ас(?) - плотность тока автоэлектронной эмиссии,_/'„(т) — плотность тока ионно-электронной эмиссии, т- переменная интегрирования.

В соответствии с динамикой поступления ионов и электронов на поверхность образца, плотности поверхностного заряда противоположных сторон образца и потенциал, создаваемый этими зарядами увеличиваются и уменьшаются в противофазе Друг с другом (рис. 5).

Результаты расчета показали, что минимальное значение потенциала каждой стороны соответствует плавающему потенциалу

= да,пЫи6 + 20Л, (П)

г/>пе)

где у= 2ж/е2, с= 1,247 [11], т, - масса иона, те - масса электрона. Максимальное значение потенциала

9П.НШ** 10+ 100 Я, (12)

Таким образом, амплитуда разности потенциалов противоположных сторон образца СОСТО.ВЛЯСГ А(р — (рп^пах ~~ фП>пип ^ 20 - 200 В (рис. 5). Поскольку толщина образцов А = 0,9-2,5 мм, то внутри образцов амплитуда средней напряженности поля

Ет1 ~ (0,2 - 17,6)Т04 В/м. (13)

Напряженности электрического поля, создаваемой в порах и капиллярах капиллярно-пористого и волокнистого материала в процессе обработки ВЧ плазмой пониженного давления достаточно для их пробоя. Пробой газа в порах и капиллярах происходит в моменты наибольшей напряженности электрического поля с частотой 2со (рис. 6).

Следовательно, при взаимодействии ВЧ плазмы пониженного давления с натуральными капиллярно-пористыми и волокнистыми материалами внутри пористого объема возможно зажигание несамостоятельного разряда. Возникающие в результате пробоя электроны и ионы поступают "на внутреннюю поверхность пор и капилляров, где рекомбинируют с выделением энергии рекомбинации.

100

о 50

5

•л 0

41

О

с -50

•100

1 /

\ ' / //Л / р\ / 1

|г Т\\ Ж-

\-у/, - Ч

7С 2к Зл ■4л

Таким образом, отличительной особенностью воздействия ВЧ разряда пониженного давления является то, что за счет разности потенциалов с противоположных сторон образца капиллярно-пористого волокнистого материала в пористом объеме создается периодическое элек-Циклнческая частота <о,> трическое поле, напряженности

Рис. 6 Динамика потенциалов которого которое достаточно для противоположных сторон плоского зажигания несамостоятельного образца в ВЧ плазме пониженного ВЧ разряда, давления (штриховая линия) и разность

потенциалов (сплошная линия). Четвертая глава содер-

Закрашенные области соответствуют жит результаты эксперименталь-пробою в пористом объеме. ных исследований ВЧ плазмен-

ной модификации капиллярно-пористых и волокнистых материалов при пониженных давлениях.

В главе описаны комплекс методик исследования свойств капиллярно-пористых и волокнистых и материалов компактной структуры. Методик проведения экспериментальных исследований по взаимодействию ВЧ разряда пониженного давления с капиллярно-пористыми и волокнистыми материалами и телами компактной структуры, представлены результаты исследований изменения состава, структуры, физико-механических и физико-химических свойств в результате обработки ВЧ разрядом пониженного давления. На основании анализа результатов ВЧ плазменной обработки всего комплекса материалов (силикагеля, сорбентов, синтетических нитей, полиэтилена в виде пластин, натуральных высокомолекулярных материалов, нержавеющих и конструкционных сталей, твердых сплавов) определены значения обобщенных параметров обработки, обеспечивающие оптимальные изменения свойств модифицируемых материалов.

Установлено, что поверхность силикагеля, обработанного в ВЧ разряде пониженного давления, имеет более развитую поверхность по сравнению с традиционной термической обработкой.

В результате активации сорбентов из рисовой лузги и гречневой шелухи происходит перераспределение пор на поверхности сорбента. В сорбенте из шелухи риса до обработки имеются поры диаметром от. 15 до 50 мкм. В результате плазменной обработки происходит увеличение размеров пор до 75 мкм.

ВЧ плазменная обработка поверхностей синтетических нитей и полиэтиленовых пластин позволяет проводить очистку, полировку и активацию их поверхности перед созданием композиционной матрицы. Одновременно происходит ликвидация примесных дефектов.

ВЧ плазменная обработка природных высокомолекулярных материалов капиллярно-пористой и волокнистой структуры увеличивает скорость впитывания жидкости на 150 — 200 %. После ВЧ плазменной обработки многослойного пакета материала происходит увеличение скорости впитывания как наружных слоев пакета, так и материала расположенного во внутренних слоях. Скорость впитывания внутренних слоев капиллярно-пористого и волокнистого материала меньше, чем расположенного снаружи, но больше чем у контрольного. Это можно объяснить тем, что материал напрямую не связан с высокочастотной плазмой, но разряд горит и внутри пористого объема.

С целью установления закономерностей и выявления особенностей обработки капиллярно-пористых и волокнистых материалов проведены исследования обработки материалов компактной структуры. Наиболее близким к рассматриваемым процессам является газонасыщение, так как при лом модификации подвергается подповерхностные слои материала.

ВЧ плазменная обработка позволяет имплантировать ноны газов на глубину до 20 нм, что позволяет насытить весь объем металла при толщине меньше 40 нм. При увеличении толщины образца больше 40 нм не происходит насыщение среднего слоя.

Результаты исследований показали, что плазмохимическое газонасыщение металлов, с использованием ВЧ разряда пониженного давления, позволяет увеличить скорость процесса в 8 раз по сравнению с традиционной технологией в атмосфере разогретого газа.

Объясняется это тем, что ионы плазмообразующего газа с энергией до 100 эВ проникают в приповерхностный слой образца на глубину до 2 нм. В результате внутри кристаллической решетки создается дефектные структуры, которые диффундируют вглубь материала до глубины 20 нм, одновременно с этим происходит процесс диффузии имплантированных ионов плазмообразующего газа, который связывается с образованием твердых растворов или химических соединений (рис. 7).

Установлено, что при обработке полимерных материалов процессы, протекающие при воздействии ВЧ разряда пониженного давления, не зависят от химического строения, структуры полимера.

В результате проникновения ионов плазмообразующего газа внутрь полимера происходит разрыв Ван-дер-Ваальсовых и водородных связей в надмолекулярной структуре, что приводит к изменению аморфных и кристаллических фаз, релаксации внутренних напряженных состояний элементов надмолекулярной структуры, расщеплению пучков волокон, изменению соотношения размеров пор и их усреднение (рис. 8). При этом не происходит разрушения первичной, вторичной и третичной структуры полимера.

Рис.7 Микроструктура стали 08X18Т1 Рис. 8. Поперечный срез кожи до и (хЮО). а) без обработки, б) после об- после ВЧЕ плазменной обработки работки, г - 60 мин, Рр~ 3 кВт, газ (х850). а) до обработки, б) после об-азот. работки {Рг=\,25 к В г, /,„-,,,=300 с,

Р=60 Па)

В пятой главе рассмотрены физические процессы, происходящие в капиллярно-пористых и волокнистых материалах при обработке в плазме ВЧ разряда пониженного давления.

Из результатов исследований, приведенных во второй и третьей главах диссертации, следует, что на капиллярно-пористые и волокнистые материалы в ВЧ разряде пониженного давления в основном воздействуют: потоки электронов и ионов, поступающие на внешнюю и внутреннюю поверхность материала.

На внешнюю поверхность поступают поток ионов ускоренных в СПЗ, возникающем в окрестности образца. На внутреннюю поверхность поступают ионы и электроны, порожденные несамостоятельным разрядом в пористом объеме. Низкоэнергетичная ионная бомбардировка и рекомбинация ионов на внешней поверхности изменяют свойства поверхностных слоев капиллярно-пористых и волокнистых материалов, а рекомбинация заряженных частиц на стенках капилляров и пор приводят к модификации внутренней поверхности тела, то есть происходит объемная обработка материала.

Ионная бомбардировка внешней поверхности капиллярно-пористого материала приводит к проникновению ионов плазмообразующего газа внутрь материала с последующей их рекомбинацией, что влечет за собой молнфнка-

ции внутренней структуры.

Более 90 % энергии, выделяемой при рекомбинации заряженных частиц на внутренней и внешней поверхностях капиллярно-пористого и волокнистого материала, передается в виде тепловой энергии атомам адсорбированных веществ и приповерхностных звеньев полимерных молекул , увеличивая подвижность последних. В обрабатываемом материале результатом такого воздействия является десорбция атомов и молекул загрязнений и примесей с внешней и внутренней поверхности материала, распыление и испарение частиц самого материала, изменения структуры и фазового состояния.

Совокупное воздействие перечисленных факторов приводит к конформационным изменениям молекул полимеров, переориентации диполей, изменению < степени кристалличности, упорядочиванию аморфной фазы, расщеплению пучков волокон, испарению легкоионизируемых элементов и не связанных частиц, очистке и активации поверхности, что подтверждается экспериментальными данными, приведенными в диссертации. Следствием этого является релаксация внутреннего напряженного состояния, разрыхление и упорядочивание волокнистой структуры, изменение пористости материала, что в свою очередь приводит к изменению физических свойств.

Таким образом, воздействие ВЧ плазмы пониженного давления на капиллярно-пористые и волокнистые материалы является комплексным: происходит одновременно обработка внешней поверхности материалов и внутренней поверхности пор и капилляров, что дает возможность объемной модификации капиллярно-пористых и волокнистых материалов.

Шестая глава посвящена разработке технологических процессов обработки капиллярно-пористых и волокнистых материалов и материалов с компактной структурой.

ВЧ плазменная технология активации и дегидратации силикагеля, является более эффективным, по сравнению с термической технологией. При сравнимой степени осушки энергетический вклад при ВЧ плазменной осушке в два раза меньше. За счет плазменного воздействия увеличивается поглощение катализатора в 1,5 раза.

Технология активации растительного сорбента, полученного из рисовой лузги и гречневой шелухи, предварительно обработанных в шахтной печи. Технология позволяет открыть закрытые поры. За счет испарения металлических включений увеличивается сорбционная емкость и избирательность полученных сорбентов.

Технология обработки химических волокон позволяет увеличить прочность сцепления эпоксидной матрицы ЭД20 на 122% при залнвке под вакуумом. Плазменная активация волокна улучшает его смачиваемость с материалом матрицы и приводит к развитию поверхностного контакта между ними и к повышению прочности соединения волокна с матрицей.

ВЧ плазменная обработка натуральных капиллярпо-пористых и волокнистых материалов позволила увеличить разрывную нагрузку на 3,5 -5,6%, капиллярность возрастает на 250 — 300%, пористость материалов возрастает на 25 - 30%, прочность на 10 — 21%. Экспериментально

установлено, что изменение таких свойств, как прочность, деформация, смачиваемость, водопоглощенис, происходят без нарушения химического состава и микроструктуры полимера.

Технологический процесс плазмохимического газонасыщения стоматологических фрез в среде смеси аргона с пропаном позволил увеличить стойкость к истиранию в 4 раза. При сокращении времени обработки материала до 10 мин, не происходит разрушения кристаллической структуры материала по сравнению с традиционным высокотемпературным газонасыщением, при котором происходит выкрашивание кристаллов карбида вольфрама.»Сплав приобрел отличительный фиолетовый цвет . Азотирование сталей позволяет повысить микротверость поверхности на 25%, износостойкость повышается на 10%.

Установлено, что наиболее целесообразным являются применения ВЧ разрядов пониженного давления для увеличения износостойкости ¡металлов, выравнивания поверхностных свойств материалов, регулирования,характеристик капиллярно-пористых и волокнистых материалов. Полученные результаты позволили разработать спектр процессов модификации изделий легкой промышленности и нефтехимического синтеза. ..,. л

В приложении содержатся акты внедрения результатов диссертационной работы. Созданный комплекс оборудования и технологических процессов позволил повысить качество,.. надежность и долговечность изделий легкой, деревообрабатывающей,.. и химической промышленности. Экономический эффект от внедрения составил ] 5000 тыс.руб.

Выводы

1) В результате проведенных экспериментальных исследований установлено, что при обработке капиллярно-пористых и волокнистых материалов в ВЧ разрядах пониженного давления основные характеристики плазмы (концентрация электронов, напряженность магнитного поля, плотность электрического тока) изменяются на 5-10% в сравнении с аналогичными характеристиками, полученными при обработке материалов компактной структуры. Указанные изменения проявляются в непосредственной окрестности образцов, характеристики разряда и настройка генератора практически не изменяются.

2) Установлено, что при введении образца материала любой физической природыв ВЧ разряд пониженного давления он становится дополнительным электродом, а в его окрестности образуется слой положительного заряда, толщиной до 2,5 мм. Слой положительного заряда формирует ионный поток на поверхность образца с энергией ионов 10 — 100 эВ и плотностью ионного, тока от 0,5 до 25 А/м". Взаимодействие ВЧ разряда пониженного давления с образцами капиллярно-пористых и волокнистых материалов приводит к возникновению несамостоятельному разряду без положительного столба в пористом объеме.

3) С помощью математического моделирования показано, что внутри капиллярно- пористого и волокнистого диэлектрического материала при взаимодействии с высокочастотным разрядом пониженного давления создается пере-

менное электрическое поле с амплитудой ~105 В/м, что является причиной зажигания несамостоятельного разряда в пористом объеме.

4) Установлено, что объемная обработка ВЧ разрядом капиллярно-пористых и волокнистых материалов позволяет регулировать их структуру, пористость, повышать адгезию поверхности к различным покрытиям, повышать их прочностные показатели. При взаимодействии с материалами компактной структуры происходит газонасьицение поверхности на глубину до 20 нм и перераспределение остаточных напряжений, с уменьшением шероховатости, увеличением микротвердости поверхности, образованием нитридов и оксидов при использовании реакционных газов.

5) В результате комплексных теоретических и экспериментальных исследований установлен механизм объемной обработки капиллярно-пористых и волокнистых материалов. Основной вклад в модификацию наружной поверхности любых материалов вносят ионная бомбардировка, рекомбинация ионов и термический поток. Внутренняя поверхность капиллярно-пористых и волокнистых материалов модифицируется за счет рекомбинации ионов, возникающих в результате зажигания несамостоятельного разряда без положительного столба.

6) На основании результатов проведенных исследований созданы технологические процессы модификации капиллярно-пористых и волокнистых материалов, а также материалов компактной структуры позволяющие регулировать физические и механические свойства материалов. В частности разработаны технологические процессы :

- Плазменной осушки и активации силикагеля, что позволило увеличивать поглощение катализатора в 1,5 раза, уменьшить энергозатраты в 30 раз.

- Активации сорбентов, что позволило увеличить сорбционную емкость за счет вскрытия закрытых пор.

- Обработки химических волокон, что позволило увеличить прочность сцепления эпоксидной матрицы ЭД20 на 122%.

- Модификации натуральных капиллярно-пористых и волокнистых материалов за счет которой повышается капиллярность тканей на 250 — 300%, прочность кожевой ткани увеличивается на 10 — 21%, водопоглощение ножевой ткани на 100 - 180%, пористость кожевой ткани возрастает на 25 — 30%, намокаемость кожевой ткани увеличивается на 230%,увеличивается прочность меха на 30%.

- Плазменного газонасышения твердого сплава, что позволило увеличить срок службы фрез в 4 раза по сравнению с необработанной.

- Азотирование сталей, что позволило повысить микротверость поверхности на 25%, износостойкость на 10%.

7) Создан комплекс оборудования и технологических процессов, позволяющий решить важную народно-хозяйственную задачу повышения качества, надежности изделий легкой и химической промышленностей путем придания капиллярно-пористым и волокнистым материалам, а также материалам компактной структуры, новых свойств при их модификации струйным ВЧ разрядом пониженного давления, и получить экономический эффект 15000 тыс. руб.

Работы по теме диссертации

Монографии и статьи.

1. И.Ш. Абдуллин, И.Х. Исрафилов, II.Г. Гафаров, М.Ф. Шаехов. Единый эко-лого-технологический комплекс модификации среды обитания человека с помощью сорбционной очистки гидросферы - Казань— издательство КГУ — 2001.-419 е.-500 экз. ISBN 5-74-64-0856-5.

2. И.Ш. Абдуллин, MAI. Булатова, Л.Ю. Махоткина, М.Ф. Шаехов Применение плазменной модификации в технологии производства обуви /Кожевенно обувная промышленность,- 2001.—№6 — С.35 -36.

3. И.Ш. Абдуллин, М.Ф. Шаехов Высокочастотный разряд пониженного давления в процессах обработки пористых тел /Вестник Казанского технологического университета - Казань - "Отечество".-2002.-№1-2.-С.75-78.

4. И.В. Красина, М.Ф. Шаехов Исследование процесса управления пористостью с помощью неравновесной низкотемпературной плазмой / Вестник Казанского технологического университета,- Казань.- "Отечество".— 2002,- №1-2.-е. 110-114.

5. И.Ш. Абдуллин, И.Х. Аминов, Л.И. Аминов, Г.Г. Лутфуллина, М.Ф. Шаехов Модификация древесных опилок высокочастотным разрядом пониженного давления для создания древесно-композиционных материалов / Вестник Казанского технологического университета — Казань,— "Отечество",— 2002,— №1-2.-С. 63-66.

6. М.Ф. Шаехов Диагностика высокочастотного разряда пониженного давления в процессах обработки пористых тел / Вестник Казанского технологического университета. — Казань.: «Отечество» . — 2003. — С. 154 - 158.

7. Р.Г. Ибрагимов, Л.Ю. Махоткина, М.Ф. Шаехов Модификация синтетических высокомолекулярных материалов с применением высокочастотного разряда пониженного давления / Вестник Казанского технологического университета. - Казань: - "Отечество". - 2003. - №2. - С. 91-95.

8. Абдуллин И.Ш., Ахвердиев Р.Ф., Шаехов М.Ф. Неравновесная низкотемпературная плазма пониженного давления в процессах обработки натуральных полимеров / Вестник Казанского технологического университета. — Казань: — "Отечество". - 2003. - №2. - С. 348 - 353.

9. И.Ш. Абдуллин, И.В. Красина, Ф.С. Шарифуллин, М.Ф. Шаехов Влияние высокочастотного емкостного разряда пониженного давления на свойства текстильных материалов / Прикладная физика. — 2004. - № 6. - С. 59-63.

10. В.В. Кудинов, II.В. Корнеева, М.Ф. Шаехов Влияние плазменной обработки и технологии пропитки на прочность соединения полиэтиленового волокна с эпоксидной матрицей при получении композиционных материалов / Физика и химия обработки материалов. - 2004. -№3. - С. 18-24.

11. И.Ш. Абдуллин, В.В. Кудинов, М.Ф. Шаехов Высокочастотный разряд пониженного давления в процессах обработки натуральной кожи / Материаловедение. - 2004. - №6(87). - С. 52-56.

12. И.Ш. Абдуллин, Л.И. Абутаптова, Р.Г. Ибрагимов, М.Ф. Шаехов Применение низкотемпературной плазмы в технологии изготовления обувного картона / Кожевенно-обувная пром-ть,№ 3. — 2004. — С.38-39.

13. Т.В. Бурдикова, И.Ш. Абдуллин, М.Ф. Шаехов, О.В. Евсюкова, Ю.В. Винокуров Влияние модификации порошков железа и материалов на их основе на коррозионную стойкость в агрессивных средах /Вестник Казанского технологического университета. - Казань.: «Отечество», 2004 г. № 1-2 с. 266 - 275

14. Т.В. Бурдикова, И.Ш. Абдуллин, М.Ф. Шаехов, О.В. Евсюкова, Ю.В. Винокуров Влияние модификации порошков железа и материалов на их основе на стойкость к окислению при повышенных температурах /Вестник Казанского технологического университета. — Казань.: «Отечество», 2004 г. № 1-2 с. 276 -281

15. И.Ш. Абдуллин, В.В. Кудинов, М.Ф. Шаехов Активация сорбентов на основе рисовой лузги и шелухи гречихи высокочастотным разрядом пониженного давления / Материаловедение №3. -2005. - С. 51.

Материалы конференций и препринты.

1. И.Ш. Абдуллин, Н.Ф. Кашапов, М.Ф. Шаехов Исследование процесса нанесения тонкопленочных покрытий с помощью высокочастотной плазмы пониженного давления, Матер. 3-го межд. Симпоз. «Вакуумные технологии и оборудование», Харьков, Украина, 20-25 сентября. - 1999 - С. 46 - 48.

2. Мекешкина-Абдуллина Е.И., Кайдриков Р.А., Тихонова В.П., Шаехов М.Ф. Исследование изменений физических свойств высокомолекулярных соединений при взаимодействии их с высокочастотным разрядом пониженного давления / Препринт / Казан, гос. технол. ун-т — Казань. -2000 - 30 е.— 100 экз.

3. ./. Abdullin, М. Shaekhov Investigation of spatial charge shell of specimen in inductive coupled rf discharge at low pressure. Progress in Plasma Processing of Materials 2001. Proceedings of the 16 European Conference on termal Plasma Processes. Strasbourg, France.- May 30 -June 3, 2000-New York, wallingford, u.k.-p.l73 -175.

4.1. Abdullin, V. Sisoev, M. Shaekhov Investigation of spatial charge shell of specimen in inductive coupled RF discharge at low pressure. /Тез. докл. Ill International Conference "Plasma physics and plasma technology", Minsk, Belarus, September 18-22,2000,-c. 678-680

5.1.Abdullin, M. Bulatova, M. Shaekhov Using a radio-frequency plasma in leather-footwear production. /Матер. Ill International Conference "Plasma physics and plasma technology", Minsk, Belarus, September 18-22, 2000, - c.680-682.

6. I. Abdullin, L. Makhotkina, M. Shaekhov Volumetric processing by the radio-frequency discharge capillary- porous structure. /Матер. Ill International Conference "Plasma physics and plasma technology", Minsk, Belarus, September 18-22, 2000, -стр. 683-684.

7. И.Ш.Абдуллин, E.M. Уразманова, М.Ф. Шаехов Обработка натуральных волокнисто-пористых материалов высокочастотным разрядом низкого давления /Маер. Всероссийской научной конференции по физике низкотемпературной плазмы ФНТП-2001,- Петрозаводск - 1-7 июля- 2001,-С. 230-231.

8. М.Ф. Шаехов Обработка натуральных волокнисто-пористых материалов высокочастотным разрядом пониженного давления /Инновации в машиностроении - 2001: Сборник статей Всероссийской научно-практической конференции,- Пенза,- Ч. 1.- 2001.- С.84-85.

9. И.111. Абдуллин, И.Х. Исрафилов, М.Ф Шаехов. Применение сорбентов на основе рисовой и гречневой шелухи для очистки нефтяных стоков /Инновации в машиностроении - 2001: Сборник статей Всеросийской научно-практической конференции,— Пенза.-2001.-Ч.2,- С.79-82.

10. И.111. Абдуллин, И.Х. Исрафилов, М.Ф. Шаехов Активация сорбентов на основе рисовой лузги и гречневой шелухи с использованием высокочастотного разряда пониженного давления / Мтер. 3 Международного симпозиума по теоретической и прикладной плазмохимии.-Иваново,- 2002 - т-2,— С. - 302.

11. И.Ш. Абдуллин, Г.Н. Кулевцов, Д.М. Семенов, Л.И. Каримова, O.A. Гарипо-ва, М.Ф. Шаехов Крашение кожевой ткани и волосяного покрова меховой и шубной овчины различными классами красителей с применением плазменной технологии / Матер. 3 Международного симпозиума по теоретической и прикладной плазмохимии,— Иваново - 2002,- т-2 — с. 305- 306.

12. Р.Г. Ибрагимов, Л.Ю. Махоткина, И.Ш. Абдуллин, М.Ф. Шаехов Обработка материалов из высокомолекулярных соединений в плазме высокочастотного разряда / Матер. 3 Международного симпозиума по теоретической и прикладной плазмохимии. - Иваново. —2002. т-2. - С. 316 - 317.

13. И.Ш. Абдуллин, Е.М. Уразманова, М.Ф. Шаехов Обработка натуральных пористо-волокнистых материалов высокочастотным разрядом пониженного давления/ Матер. XI конференция по физике газового разряда. - Рязань. — 2002. -С. 9-10.

14. И.Ш. Абдуллин, Е.М. Уразманова, М.Ф. Шаехов Обработка пористо-волокнистых материалов высокочастотным разрядом пониженного давления / Матер. 3 Международного симпозиума по теоретической и прикладной плазмохимии. — Иваново. — 2002. — т-2. — С. 301.

15. И.Ш. Абдуллин, A.A. Азанова, И.Х. Исрафилов, М.Ф. Шаехов Применение потока плазмы ВЧЕ-разряда в производстве кожи и меха / 3 Международный симпозиум по теоретической и прикладной плазмохимии, Иваново. - 2002. -т.-2. - С. 303 - 304.

16. И.Ш. Абдуллин, М.Ф. Шаехов Современные методы обработки кожи и меха. /: Методические указания к лабораторному практикуму. — Казань. - изд. КГТУ. - 2002. - 26 с. - 100 экз.

17. И.Ш. Абдуллин, И.Х. Исрафилов, М.Ф. Шаехов Сорбенты на основе рисовой лузги и гречневой шелухи, активированные с применением высокочастотного разряда пониженного давления /Матер. XI конференции по физике газового разряда. - Рязань. - 2002. - С. 62-63.

18. I.Sh. Abdullin A.A. Azanova, M. F. Shaekhov Low pressure RF Plasma affect on sheepson / IV International Conference "Plasma Physics and Plasma Technology". -Minsk. - Belarus. - September 15-19. - 2003. - P. 772 - 774.

19. I.Sh. Abdullin L.R. Ganbecova P.P Sukhanov, M.F. Shaekhov Plasma modification of cellulose contained materials / IV International Conference "Plasma Physics and Plasma Technology". - Minsk. - Belarus. - September 15-19, 2003. - P. 717 — 719.

20. И.Ш. Абдуллин, A.A. Азанова, М.Ф. Шаехов Влияние неравновесной низкотемпературной плазмы :(НТП) на натуральный полимерный композит в натив-

ном состоянии /Матер. 4 международной научной конференции "Полимерные композиты, покрытия, пленки". - Гомель. - Беларусь. - 22-24 июня. - 2003. -С. 150- 151.

21. И.Ш. Абдуллин, A.A. Азанова, И.В.Красина, Ф.С. Шарифуллин, М.Ф. Шаехов Влияние потока плазмы высокочастотного емкостного разряда пониженного давления на характеристики шерстяных материалов / Матер.

3 Всероссийской конференции ФЭ-2003. - Махачкала. - (23-26) сентября. -2003. — С.84-86.

22. И.Ш. Абдуллин, В.Е. Брагин, Н.Ф. Кашапов, М.Ф. Шаехов Диагностика высокочастотного индукционного разряда в динамическом вакууме /Матер.

4 Российского семинара "Современные средства диагностики плазмы и их применение для контроля веществ и окружающей среды" . - М.: -МИФИ. -1214 ноября . - 2003. - С. 88-90.

23. И.Ш. Абдуллин, С.Ю. Грузкова, И.В. Красина, М.Ф. Шаехов Изменение физических свойств мехового полуфабриката под воздействием плазмы / Вестник ДИТУД. - Димитровград. -№3 (17). - 2003. - С.52-57.

24. И.Ш. Абдуллин, Р.Т. Галяутдииов, Н.Ф. Кашапов, М.Ф. Шаехов Измерение энергии ионов и плотности ионного тока в струйной ВЧ плазме при пониженном давлении /Матер. 4 Российского семинара "Современные средства диагностики плазмы и их применение для контроля веществ и окружающей среды" М.: - МИФИ. - 12-14 ноября 2003. - С. 52-54.

25. И.Ш. Абдуллин, Л.Р. Джанбекова, П.П. Суханов, М.Ф. Шаехов Исследование защитных свойств олигомерных составляющих целлюлозосодержащих композиционных материалов // препринт . - КГТУ. -Казань. — 2003. — 23 с. -100 экз.

26. И.Ш. Абдуллин, И.В. Красина, В.П. Тихонова, М.Ф. Шаехов Модификация натуральной кожи высокочастотным разрядом пониженного давления / Матер. 3 Всероссийской конференции ФЭ-2003 . - Махачкала: - (23-26) сентября. -2003.-С. 80-83.

27. Абдуллин И.Ш., Шарифуллин Ф.С., Шаехов М.Ф. Создание полимерного композита на основе кератинсодеращих высокомолекулярных соединений с использованием ВЧ-плазменной обработки /Матер. 4 международной научной конференции "Полимерные композиты, покрытия, пленки". — Гомель. — Беларусь: - 22-24 июня. - 2003. - С. 149- 150.

28. И.Ш. Абдуллин, С.Ю. Грузкова, М.Ф. Шаехов Создание полимерных композитов на основе коллагенсодержащих высокомолекулярных соединений с применением низкотемпературной плазмы / Матер. 4 международной научной конференции "Полимерные композиты, покрытия, пленки". - Гомель. — Беларусь: - 22-24 июня. - 2003. - С. 34-35.

29. И.В.Красина, Ф.С. Шарифуллин, М.Ф. Шаехов Влияние ВЧ-плазмы на физические и химические свойства кератина / Вестник ДИТУД. —Дмитровград: -Изд. Дмитровградского института технологии, управления и дизайна. — 2004. — №2 (20).-С. 13-18.

30. P.A. Кайдриков, В.И. Кудряшов, И.Ш. Абдуллин, В.И. Гаврилов, Ф.Р. Гарие-ва, Е.Е. Бобрешова, А.И. Зильберг, М.Ф. Шаехов Возможности повышения эф-

фективности хромсодержащих катализаторов полимеризации этилена Интенсификация химических процессов переработки нефтяных компонентов /: Сб. науч. тр./КГТУ. - Нижнекамск: ИПЦ. - 2004. - С. 23 - 26.

31. И.Ш. Абдуллин, И.В. Красина, Г.Г. Лутфуллииа, В.П. Тихонова, М.Ф. Шае-хов Волокнистые высокомолекулярные материалы легкой промышленности в процессах обработки потоком плазмы ВЧ- разряда / Информационный листок № 71-015-04 Татарстанский центр научно-технической информации. - Казань.

- 2004.

32. И.Ш. Абдуллин, И.Г. Гафаров, ИХ. Исрафилов, М.Ф. Шаехов Высокочастотный разряд пониженного давления в процессах активации сорбентов на основе рисовой лузги и шелухи гречихи / : Сб. «Актуальные проблемы высшей школы: теория и практика». — КГТУ. - Казань. —2004. — С. 58-63.

33. И.Ш.Абдуллин, JI.ll.Аминов, Г.Г. Лутфуллина, М.Ф. Шаехов Высокочастотный разряд пониженного давления в процессах модификации целлюлозосо-держащих материалов / Матер. Всероссийской научной конференции по физике низкотемпературной плазмы ФНТП-2004. - Петрозаводск: - 2004. - т,2. - С. 177-180.

34. И.Ш. Абдуллин, И.В. Красина, М.Ф. Шаехов Метод нанесения антикоррозионных покрытий с помощью струйного ВЧ-плазмотрона в условиях динамического вакуума / Информационный листок № 71-017-04 Татарстанский центр научно-технической информации, - Казань: - 2004.

35. И.Ш. Абдуллин, Р.Г. Ибрагимов, М.Ф. Шаехов Применение плазменной модификации в технологии производства обувного картона / Матер. Всероссийской научной конференции по физике низкотемпературной плазмы ФНТП -2004. - Петрозаводск: - 2004. -т.2. - С. 175-177.

36. И.Ш. Абдуллин, B.C. Желтухин, И.В. Красина, М.Ф. Шаехов Современные методы модификации материалов из кожи и меха / Учебное пособие. Гриф УМО. - Казань: - 2004. - 1 Юс

37. И.Ш. Абдуллин, Р.Г. Ибрагимов, Р.Б. Файзуллина, М.Ф. Шаехов Применение плазменной модификации в технологии производства обувного картона / Сб.. стат. международной научной конференции "Актуальные проблемы науки, техники и экономики производства изделий из кожи" - 4-5 ноября 2004 г. -Витебск: - Республика Беларусь. - С. 236 - 239.

38. И.Ш. Абдуллин, A.A. Азанова, И.В. Красина, М.Ф. Шаехов Способ снижения бактериальной заряженности кожевенного и мехового сырья с помощью высокочастотной плазмы. / Информационный листок № 71-014-04 — Татарстанский центр научно-технической информации - Казань: - 2004.

39. И.Ш. Абдуллин, И.В. Красина, Г.Г. Лутфуллина, В.П. Тихонова, Шаехов М.Ф. Технология получения натурального меха с помощью высокочастотной плазменной обработки / Информационный листок № 71-016-04 Татарстанский центр научно-технической информации. - Казань: - 2004.

40. И.Ш. Абдуллин, Р.Ф. Рахимов, О.Д. Юсупов, М.Ф. Шаехов Упрочнение твердых сплавов высокочастотным емкостным разрядом пониженного давления / Сб. «Актуальные проблемы высшей школы: теория и практика» - Казань:

- КГТУ. - 2004. - С.54-58.

41. II.Ш. Абдуллин, М.Р. Габидуллин, A.B. Косточко, В.А. Петров, М.Ф. Шаехов Структура нитратов целлюлозы полученных на основе хлопковой целлюлозы, модифицированной высокочастотной плазмой пониженного давления. /Матер. 4-й Международного симпозиума по теоретической и прикладной плазмохимии. — Иваново: - 13 - 18 мая 2005 г. — С. 343 — 345.

42. И.Ш. Абдуллин, С.Ю. Грузкова, И.В. Красина, Ф.С. Шарифуллин, Д.И. Ис-рафтов, М.Ф. Шаехов Исследование высокочастотного разряда пониженного давления в процессе обработки кожи и меха / Межвузовский научный сборник "Проектирование и исследование технических систем" №5. - Набережные Челны-2004 г. - С.127- 133.

43. И.Ш.Абдуллин, В.С.Желтухин, М.Ф. Шаехов Математическая модель взаимодействия плазмы высокочастотного разряда пониженного давления с поверхностью твердых тел/ Матер. 17 международной конференции "Взаимодействие ионов с поверхностью (ВИП - 2005)" 25-29 августа 2005 г. Звенигород, Москва, Россия, т. 2., с. 292-294

44. И.Ш. Абдуллин, P.A. Кайриков, В.И. Гаврилов, М.Ф. Шаехов, Ф.Р. Гариева, А.И. Зшьберг Применение низкоэнергетической ионной обработки в плазме ВЧ разряда пониженного давления для активации и осушки мелкодисперсного силикагеля/ Матер. 17 международной конференции "Взаимодействие ионов с поверхностью (ВИП - 2005)" 25-29 августа 2005 г. Звенигород, Москва, Россия, т. 2., с. 303 - 306

Апробация работ (тезисы конференций)

1. И.Ш. Абдуллин, Л.Р. Джанбекова, М.Ф. Шаехов Модификация материалов на основе ВМС с помощью неравновесной низкотемпературной плазмы. Матер. научн. сессии КГТУ. - Казань. -1999. - С. 210.

2. И.Ш. Абдуллин, М.Ф. Шаехов Толщина слоя пространственного заряда в высокочастотном индукционном разряде пониженного давления. Матер, научн. сессии КГТУ. - Казань. -2000. - С. 200.

3. И.Ш. Абдуллин, М.И. Булатова, М.Ф. Шаехов Применение плазменной обработки в технологии производства изделий из кожи / Матер. Междун. науч,-технич. конференции "Актуальные проблемы науки, техники и экономики легкой промышленности".—М..— 19-21 апреля 2000.—С. 295 .

4. И.Ш. Абдуллин, В П. Тихонова, Р.З. Валиев, М.Ф. Шаехов Влияние низкотемпературной плазмы на процессы алюмосинтанового дубления кожи для низа обуви/ Матер, научн. сессии КГТУ —2002 - С. 225.

5. A.A. Азанова, М.Ф. Шаехов Влияние плазменной обработки на бактериаль-ность кожевенно-мехового сырья / Международная студенческая конференция "Фундаментальные науки специалисту нового века" 24-26 апреля,- Иваново,-2002,-с. 176-177.

6. И.Ш. Абдуллин, ИТ. Гафаров, ИХ. Исрафилов, М.Ф. Шаехов Обработка высокочастотным емкостным разрядом сорбента из гречневой шелухи/ Матер, научн. сессии КГТУ. - 2002. - С. 225.

7. И.Ш. Абдуллин, A.A. Азанова, М.Ф. Шаехов Применение плазменной обработки для стерилизации кожевенно-мехового сырья /Матер. 5 Всероссийской

научно-практической конференция «Современные технологии в машиностроении». - Пенза. - 2002. - ч.2. - С. 99.

8. И.Ш. Абдуллин, A.A. Азанова, М.Ф. Шаехов Применение плазменной обработки перед отмочными процессами для снижения степени бактериальной зараженности кожевенно-мехового сырья /Матер. IV международной научно-практической конференция «хозяйственно-питьевая и сточные воды: проблемы очистки и использования». — Пенза. — 2002. — С. 5.

9. /. Sh. Abdullin L.N. Abutalipova F.A. Gizatullina, M.F. Shaekhov The Treatment of the Porous-Fibrous materials with the radio-frequency charge in Reduced pressures / 16th Inernational Symposium on Plasma Chemistry. - Taormina. - Italy. — June 22-27. - 2003. - P. 452.

10. И.Ш. Абдуллин, A.A. Азанова, В.П. Ткховнова, М.Ф. Шаехов Влияние потока плазмы высокочастотного емкостного (ВЧЕ) разряда на структуру кожевой ткани мехового сырья / Матер. XXX Звенигородской конференции по физике плазмы и УТС. - Звенигород. - 24-28 февраля. - 2003. - М. -С. 179.

11. И.Ш. Абдуллин, A.A. Азанова, В.П. Тиховнова, М.Ф. Шаехов Влияние потока плазмы высокочастотного емкостного (ВЧЕ) разряда при пониженном давлении на коллаген кожного покрова /Матер. 17 Менделеевскогой съезда по общей и прикладной химии. - Казань. — 21-26 сентября. - 2003. - С. 30.

12. И.Ш. Абдуллин, М.Ф. Шаехов Высокочастотный разряд пониженного давления в процессах обработки кожевенного материала /Матер. XXX Звенигородской конференции по физике плазмы и УТС. - Звенигород. - М.: - 24-28 февраля 2003.-С. 180.

13. И.Ш. Абдуллин, Л.Р. Джанбекова, П.П. Суханов, М.Ф. Шаехов Изучение механизмов отверждения покрытий из целлюлозосодержащих материалов, модифицированных низкотемпературной плазмой /Матер. 4 международной научной конференции "Полимерные композиты, покрытия, пленки", Гомель. — Беларусь: - 22-24 нюня 2003. - С. 151.

14. И.Ш. Абдуллин, М.Ф. Шаехов Особенности процессов взаимодействия ВЧ разряда с ВМС в динамическом вакууме / Матер, научн. сессии КГТУ. - Казань:-4-7 февраля.-2003 .-С. 133.

15. И.Ш. Абдуллин, JI.P. Джанбекова, М.Ф. Шаехов Плазменная модификация целлюлозосодержащих материалов / Матер, научн. сессии КГТУ. — Казань: - 47 февраля. - 2003. - С. 255.

16. И.Ш. Абдуллин, A.A. Азанова, М.Ф. Шаехов Плазменная обработка как способ снижения степени бактериальной зараженности кожевенно-мехового сырья / Матер, научн. сессии КГТУ. - Казань: - 4-7 февраля. - 2003 . - С. 257

17. И.Ш. Абдуллин, B.C. Желтухин, М.Ф. Шаехов Поверхностные явления при взаимодействии неравновесной низкотемпературной плазмы с поверхностями твердых тел / Матер, научн. сессии КГТУ. - Казань: - 4-7 февраля. - 2003 . -С. 24.

18. И.Ш. Абдуллин, A.A. Азанова, М.Ф. Шаехов Применение неравновесной низкотемпературной плазмы (НТП) для интенсификации отмочных процессов кожевенно-мехового производства / Матер, научн. сессии КГТУ. - Казань: - 47 февраля. - 2003 . - С. 257.

19. И.Ш. Абдуллин, P.A. Кайдриков, Р.Г. Сафин, В.И. Гаврилов, В.П. Тихонова, A.B. Островская, Г.Н. Кулевцов, В.А. Сысоев, А.И. Зильберг, Ф.Р. Гариева, Г.Г. Лутфуллина, Л.И. Аминов, М.Ф. Шаехов Создание новых материалов с помощью высокочастотной плазменной обработки / Первая окружная ярмарка биз-нец-ангелов и инноваторов "Российским инновациям - Российский капитал". -Нижний Новгород: - 17- 18 апреля.-2003. - С. 150- 152.

20. И.Ш. Абдуллин, Р.Г. Ибрагимов, М.Ф. Шаехов Экспериментальные исследования влияния обработки потоком плазмы ВЧЕ-разряда пониженного давления на физико-механические характеристики обувного картона. Матер, научн. сессии КГТУ. - Казань. -2004. - С. 40.

21. И.Ш. Абдуллин, М.Ф. Шаехов Активация высокодисперсного силикагеля в высокочастотном разряде пониженного давления /Матер. XXXI Звенигородской конференции по физике плазмы и УТС. - Звенигород. -М.: - 16 - 20 февраль. - 2004. - С. 200.

22. И.Ш. Абдуллин, И.В. Красина, Ф.С. Шарифуллин, М.Ф. Шаехов Влияние выскочастоного емкостного разряда пониженного давления на свойства текстильных материалов /Матер. XXXI Звенигородской конференции по физике плазмы и УТС. - Звенигород. М.: - 16 - 20 февраль. - 2004. - С. 223.

23. И.Ш. Абдуллин, Р.Г. Ибраггшов, М.Ф. Шаехов Применение плазменной модификации в технологии производства обувного картона /Матер. XXXI Звенигородской конференции по физике плазмы и УТС. Звенигород, 16 -20 февраль 2004 г С.251

24. P.A. Кайдриков, И.Ш. Абдуллин, В.И. Гаврилов, Ф.Р. Гариева, А.И. Зильберг, М.Ф. Шаехов ВЧ-плазменная активация катализатора (носителя) полимеризации этилена / Матер, научн. сессии КГТУ. — Казань: — 2004. — С. 32.

25. И.Ш. Абдуллин, Л.И. Аминов Г.Г.Лутфуллина, М.Ф.Шаехов Обработка древесины в высокочастотном разряде при пониженном давлении/ Матер, научн. сессии КГТУ. - 2004. - С.ЗЗО.

26. И.Ш. Абдуллин, B.C. Желтухин, М.Ф. Шаехов Обработка поверхности твердых тел с помощью неравновесной низкотемпературной плазмы / Матер, научн. сессии КГТУ. - 2004. - С.305.

27. И.Ш. Абдуллин, М.Ф. Шаехов Особенности процессов взаимодействия высокочастотного разряда с пористо-волокнистыми материалами / Матер, научн. сессии КГТУ. - 2004. - С.305.

28. И.Ш. Абдуллин, Р. Г. Ибрагимов, М.Ф. Шаехов Экспериментальные исследования влияния обработки потоком плазмы ВЧЕ-разряда пониженного давления на физико-механические характеристики обувного картона / Матер, научн. сессии КГТУ. - 2004. - С.312.

29. И.Ш. Абдуллин, М.Р. Гибадуллин, В.А. Петров, М.Ф. Шаехов Влияние высокочастотной плазмы пониженного давления на процесс этерификации целлюлозы /Матер. XXXII Звенигородской конференции по физике плазмы и УТС. - Звенигород: - 14 - 18 февраль 2005 г . - 1 Юс

30. И.Ш. Абдуллин, B.C. Желтухин, М.Ф. Шаехов Теоретические и экспериментальные исследования слоя положительного заряда в высокочастотном разряде пониженного давления в процессах обработки твердого тела. /Матер.

XXXII Звенигородской конференции по физике плазмы и УТС. - Звенигород: -14-18 февраля 2005 г . - с. 234

31. И.Ш. Абдуллин, М.Р. Гибадуллин, В.А. Петров, М.Ф. Шаехов Модификация целлюлозы высокочастотной плазмой при пониженном давлении /Матер. 11 Международной конференции студентов и аспирантов "Синтез. Исследование свойств, модификация и переработка высокомолекулярных соединений" -Казань: - 24-25 мая 2005. - С. 246.

32. P.A. Кайдриков, И.Ш. Абдуллин, В.II. Гавршов, М.Ф. Шаехов, Ф.Р. Гариева, AJI. Зильберг, Э.М. Мустафина ВЧ-плазменная активация дисперсного Si02 в технологии получения хромсодержащих катализаторов / Матер, научн. сессии КГТУ, 2005 г. с. 26

33. В.А.. Петров, A.B. Косточко, И.Ш. Абдуллин, М.Ф. Шаехов, М.Р. Габидул-лин Свойства хлопковой целлюлозы, модифицированной плазмой пониженного давления и нитраты целлюлозы на её основе / Матер, научн. сессии КГТУ, 2005 г. с. 207

34.7'.ß. Бурдикова, И.Ш. Абдуллин, М.Ф. Шаехов, О.В. Евсюкова Влияние обработки порошкового железа плазмой низкого давления на их коррозионную стойкость в агрессивных средах / Матер, научн. сессии КГТУ, 2005 г. с. 224

35. Т.В. Бурдикова, И.Ш. Абдуллин, М.Ф. Шаехов, О.В. Евсюкова Повышение коррозионной стойкости спечёных матералов на основе порошкового железа / Матер, научн. сессии КГТУ, 2005 г. с. 225

36. Т.В. Бурдикова, И.Ш. Абдуллин, М.Ф. Шаехов, О.В. Евсюкова Повышение стойкости к окислению спечёных матералов на основе порошков железа / Матер. научн. сессии КГТУ, 2005 г. с. 225

37. Т.В. Бурдикова, М.Ф. Шаехов, О.В. Евсюкова, В.В. Просянюк, И.С. Суворов Влияние высокочастотной плазменной обработки порошков циркония на характеристики пиротехничеких источников тока / Матер, научн. сессии КГТУ, 2005 г. с. 226

38. И.Ш. Абдуллин, М.Н. Сагдеев, М.Ф. Шаехов Обработка велюра разрядом пониженного давления для увеличения гидрофобности / Матер, научн. сессии КГТУ, 2005 г. с. 269

39. И.Ш. Абдуллин, М.Ф. Шаехов Изменение характеристик высокочастотного разряда в зависимости от давления в вакуумной камере / Матер, научн. сессии КГТУ, 2005 г. с. 284

40. И.Ш. Абдуллин, B.C. Желтухин, ИВ. Красина, М.Ф. Шаехов Объемная обработка капиллярно-пористых материалов в ВЧ разряде пониженного давления/ Матер. 33 Международной Звенигородской конференции по физике плазмы и УТС г. Звенигород, 13-17 февраля 2006 г., Москва, с. 293

41. И.Ш. Абдуллин, Е.Е. Бобешова, В.И. Гавршов, P.A. Кайдриков, М.Ф. Шаехов, Ф.Р. Гариева, А.И. Зильберг Возможности использования высокочастотной плазмы в процессе активации сорбента-носителя для производства ПЭНД / Матер, научн. сессии КГТУ, 2006 г. с. 25

42. Т.В. Бурдикова, И.Ш. Абдуллин, О.В. Евсюкова, М.Ф. Шаехов, А.Р. Каткова Влияние плазменной обработки порошков железа и титана на ихактивность в кислых средах / Матер, научн. сессии КГТУ, 2006 г. с. 234

43. Т.В. Бурдикова, И.Ш. Абдуллин, O.B. Евсюкова, М.Ф. Шаехов, А.Р. Халикова Влияние плазменной обработки порошков железа и титана на коррозионную стойкость в кислых средах спеченных материалов на их основе / Матер, научн. сессии КГТУ, 2006г. с. 235

44. Т.В. Бурдикова, И.Ш. Абдуллин, О.В. Евсюкова, М.Ф. Шаехов, Э.Х. Арсла-нова Влияние плазменной обработки порошков железа и титана на их активность в щелочной среде / Матер, научн. сессии КГТУ, 2006 г. с. 235

45. Т.В. Бурдикова, И.Ш. Абдуллин, О-В. Евсюкова, М.Ф. Шаехов, Э.Х. Арсла-нова Влияние плазменной обработки порошков железа и титана на коррозионную стойкость в щелочной среде и прочность материалов на их основе, полученных методом порошковой металлургии/ Матер, научн. сессии КГТУ, 2006 г.

46. Т.В. Бурдикова, И.Ш. Абдуллин, О.В. Евсюкова, М.Ф. Шаехов, Э.Х. Арсла-нова Влияние плазменной обработки порошков железа и титана и спеченных материалов на их основе на стойкость к окислению на воздухе / Матер, научн. сессии КГТУ, 2006 г. с. 236

47. И.Ш. Абдуллин, Л.Р. Джанбекова, Р.Б. Файзуллина, М.Ф. Шаехов Применение ВЧ плазмы пониженного давления для модификации композиций, на основе природных высокомолекулярных полимеров, используемых в обувной промышленности / Матер, научн. сессии КГТУ, 2006 г. с. 267

с. 235

Соискатель:

Тираж 100 экз.

Заказ 404

Офсетная лаборатория Казанского государственного технологического университета 420015, Казань, К. Маркса, 68

Основные условные обозначения и сокращения.

Введение.

Глава 1. ВЧ разряды при пониженном давлении и области их применения.

1.1. Характеристики высокочастотных разрядов при пониженном давлении и практическое их использование.

1.2. Методы обработки капиллярно-пористых и волокнистых материалов.

1.3. Состояние и перспективы развития методов регулирования свойств капиллярно-пористых и волокнистых материалов.

1.4. Обоснование эффективности применения высокочастотной плазмы пониженного давления для обработки капиллярно-пористых и волокнистых материалов.

1.5.3адачи диссертации.

Глава 2. Характеристики ВЧ разрядов пониженного давления в процессах обработки капиллярно-пористых и волокнистых материалов.

2.1.Особенности экспериментальных исследований характеристик ВЧ разрядов пониженного давления с продувом газа в процессах обработки капиллярно-пористых и волокнистых материалов.

2.2.Методика и аппаратура для экспериментальных исследований потока плазмы ВЧ разряда пониженного давления в присутствии капиллярно-пористых и волокнистых материалов.

2.3. Характеристики ВЧ разряда пониженного давления в процессах обработки капиллярно-пористых и волокнистых материалов.

Глава 3. Теоретическое обоснование возможности обработки капиллярно-пористых и волокнистых материалов в ВЧ разряде пониженного давления.

3.1. Теоретические исследования высокочастотных разрядов.

3.2. Постановка задачи численного моделирования.

3.3. Математическая модель взаимодействия плазмы ВЧ разряда пониженного давления с капиллярно-пористыми и волокнистыми материалами.

3.4. Результаты моделирования.

Глава 4. Взаимодействие капиллярно-пористых и волокнистых материалов с высокочастотным разрядом пониженного давления.

4.1. Методики измерений и исследования капиллярно-пористых и волокнистых материалов.

4.2. Физико-химические свойства капиллярно-пористых и волокнистых материалов, модифицированных ВЧ разрядом пониженного давления.

4.3. Морфология и структура капиллярно-пористых и волокнистых материалов, обработанных ВЧ разрядом пониженного давления.

4.4. Воздействие объемной ВЧ - плазменной модификации на пористую структуру капиллярно-пористых и волокнистых материалов.

4.5. Функциональные свойства капиллярно-пористых и волокнистых материалов, обработанных ВЧ разрядом пониженного давления.

Глава 5. Физическая модель воздействия высокочастотной плазмы пониженного давления на капиллярно - пористые и волокнистые материалы.

5.1. Основные факторы плазменного воздействия.

5.2. Специфика взаимодействия плазмы ВЧ разрядов пониженного давления с капиллярно-пористыми и волокнистыми материалами.

Глава 6. Применение высокочастотного разряда пониженного давления в процессах обработки капиллярно-пористых и волокнистых материалов, а также материалов компактной структуры.

6.1. Технологический процесс осушки и активации силикагеля.

6.2. Процесс активации растительного сорбента.

6.3. Процесс модификации синтетических материалов.

6.4. Технологический процесс обработки натуральных капиллярно-пористых и волокнистых материалов животного происхождения.

6.5. Технологический процесс обработки натуральных капиллярно-пористых и волокнистых материалов растительного происхождения.

6.6. Процесс газонасыщения материалов сплошной структуры.

Выводы.

Неорганические и органические, синтетические и натуральные капиллярно-пористые и волокнистые материалы широко применяются в промышленности и в быту. Физические и механические свойства этих материалов не вполне удовлетворяют современным требованиям, в связи, с чем возникает необходимость их модификации. Возможности модификации свойств этих материалов традиционными методами практически исчерпаны. Поэтому в настоящее время интенсивно исследуются возможности применения новых технологий, в том числе с использованием неравновесной низкотемпературной плазмы.

Эффективным методом модификации материалов различной физической природы является обработка в плазме высокочастотного (ВЧ) струйного разряда при пониженном давлении в диапазоне от 13,3 до 133 Па. Этот вид разряда характеризуется следующими параметрами: в разряде концентрация электронов пс= 1017 - 1019 м"3, температура электронов Те= 1-3 эВ, температура атомов и ионов до Т,= 0,25 - 0,35 эВ, в плазменной струе пе= 1016 - 1018 м"3, Те - 1 - 2 эВ, температура атомов и ионов до Т(= 0,06 эВ. Плазма ВЧ разряда пониженного давления позволяет эффективно обрабатывать порошковые материалы, малогабаритные изделия, внутренние и наружные поверхности изделий сложной конфигурации. В последние десятилетия плазменные технологии стали применять для обработки тканей, нитей, полимерных материалов, обладающих капиллярно-пористой и волокнистой структурой [1].

Обработка в ВЧ разряде пониженного давления позволяет увеличить адгезию полимерных материалов к покрытию, изменить физические свойства натуральных, искусственных и синтетических капиллярно-пористых и волокнистых материалов [2]. Однако в настоящее время физика ВЧ разряда пониженного давления в процессах обработки капиллярно-пористых и волокнистых материалов не изучена, не установлена физическая сущность процесса взаимодействия ВЧ разряда пониженного давления с этими материалами. Все это сдерживает разработку плазменных установок и технологических процессов для модификации капиллярно-пористых и волокнистых тел и внедрение их в производство.

Диссертационная работа направлена на решение актуальной проблемы комплексного исследования высокочастотного разряда пониженного давления в процессах модификации капиллярно-пористых и волокнистых материалов, позволяющих существенно повысить технологические и эксплуатационные характеристики изделий из этих материалов за счет целенаправленного изменения их структуры, физических и механических свойств.

В диссертации изложены результаты работы автора в период 1998 -2006 г.г. по исследованию высокочастотного разряда пониженного давления с продувом газа в процессах обработки различных капиллярно-пористых и волокнистых материалов, а также материалов компактной структуры. Работа выполнялась в Казанском государственном технологическом университете в рамках программы Министерства образования РФ №417 "Взаимодействие атомных частиц с поверхностью - новые методы и технологии", по теме "Взаимодействие низкотемпературной плазмы с поверхностью твердых тел" 1992 -2000 гг., Федеральной программы «Концепция развития мехового комплекса России на 1999-2005 г.г.», Федеральной программы "Экологическая безопасность России" (шифр 8.1.38), при поддержке грантов АН РТ № 06-6.4-113 и № 06-6.4-299 по теме «Высокочастотная плазменная струйная обработка твердых тел компактной и капиллярно-пористой структур» 2002 - 2005 г.

В первой главе дан обзор известных экспериментальных и теоретических результатов, методов исследований и применений ВЧ разрядов пониженного давления. Проведен анализ распространенных методов модификации капиллярно-пористых и волокнистых материалов и рассмотрены их возможности в формировании различных свойств изделий. Установлено, что наиболее перспективными методами обработки капиллярно-пористых и волокнистых материалов являются разряды, создаваемые за счет высокочастотного электромагнитного поля при пониженном давлении.

На основе анализа литературных данных по модификации капиллярно-пористых и волокнистых материалов сформулированы цель и основные задачи работы.

Во второй главе приведены результаты экспериментальных исследований ВЧ плазмы при пониженном давлении в процессах обработки капиллярно-пористых и волокнистых материалов в сравнении с обработкой материалов компактной структурой.

В качестве образцов для обработки взяты капиллярно-пористые и волокнистые материалы (силикагель, сорбенты, полученные из рисовой лузги и гречишной шелухи, полиэтилен в виде мононитей, натуральная кожа и мех и целлюлозные нити), проводящие и диэлектрические материалы компактной структуры (нержавеющие стали, твердые сплавы, полиэтилен в виде пластин).

Обработка проводилась на ВЧ плазменной установке, состоящей из стандартных блоков и элементов, включающих в себя генератор, ВЧ индуктор и ВЧ - электроды, вакуумную систему, систему подачи плазмообразующего газа и диагностической аппаратуры.

Разработан исследовательский комплекс для проведения измерений параметров ВЧ разрядов при обработке материалов различной внутренней структуры.

Изучены энергетические, газодинамические и электрические параметры ВЧ разрядов пониженного давления в присутствии материалов различной внутренней структуры: мощность разряда, скорость потока плазмы, концентрация электронов, плотность ВЧ тока, напряженность магнитного поля, и положительный потенциал плазменного столба, плотность ионного тока на поверхность образца и энергия ионов бомбардирующих поверхность материалов, толщина слоя положительного заряда в окрестности обрабатываемых тел, ток утечки разряда внутри пористой системы.

Выполненные экспериментальные исследования позволили установить, что основными воздействующими факторами, способными модифицировать поверхность тела, являются низкоэнергетичная ионная бомбардировка, влияние энергии рекомбинации ионов и термическое воздействие на внешнюю геометрическую поверхность образца. Внутренняя поверхность материала модифицируется под воздействием энергии рекомбинации ионов, возникающих при зажигании в поровом объеме несамостоятельного разряда без положительного столба.

В третьей главе, с целью выяснения причин зажигания в поровом объеме несамостоятельного разряда без положительного столба, разработана математическая модель взаимодействия высокочастотных разрядов пониженного давления с диэлектрическими капиллярно-пористыми и волокнистыми материалами.

Модель построена в предположении, что рабочий газ является инертным и плазма состоит из частиц трех сортов: нейтральные атомы, электроны и положительные однозарядные ионы. В диапазоне давлений 13,3 - 133 Па и частот 1,76 - 13,56 МГц плазму высокочастотных разрядов пониженного давления можно считать сплошной средой, функцию распределения электронов по энергиям - максвелловской.

Плоский образец, помещенный в ВЧ плазму пониженного давления, рассекает ее на 2 части, в каждой из которых электроны продолжают совершать «качания» в своих промежутках. Поэтому рассмотрена модель, которая описывает свойства слоя положительного заряда (СПЗ) с обеих сторон образца.

Система, описывающая свойства СПЗ, включает в себя:

1) уравнение Пуассона для мгновенного значения потенциала <рц(^х) электрического поля относительно плазмы;

2) уравнения неразрывности электронного и ионного газов;

3) задачу Коши для уравнения динамики плотности поверхностного заряда ц5 (Г) тела;

4) уравнение Пуассона для потенциала электрического поля в капиллярно-пористом теле.

В результате расчетов установлено, что в соответствии с динамикой поступления ионов и электронов на поверхность образца, плотности поверхностного заряда противоположных сторон образца и потенциал, создаваемый этими зарядами увеличиваются и уменьшаются в противофазе друг с другом.

Напряженности электрического поля, создаваемой в порах и капиллярах капиллярно-пористого и волокнистого материала в процессе обработки ВЧ плазмой пониженного давления достаточно для их пробоя. Пробой газа в порах и капиллярах происходит в моменты наибольшей напряженности электрического поля (Eint ~ (0,2 - 17,6)-104 В/м) с частотой 2со.

Таким образом, отличительной особенностью воздействия ВЧ разряда пониженного давления является то, что за счет разности потенциалов с противоположных сторон образца капиллярно-пористого и волокнистого материала в пористом объеме создается периодическое электрическое поле, напряженности которого достаточно для зажигания несамостоятельного ВЧ разряда.

Четвертая глава содержит результаты экспериментальных исследований ВЧ плазменной модификации капиллярно-пористых и волокнистых материалов при пониженных давлениях.

В главе описаны комплекс методик исследования свойств капиллярно-пористых и волокнистых материалов, а также материалов компактной структуры, методик проведения экспериментальных исследований по взаимодействию ВЧ разряда пониженного давления с капиллярно-пористыми и волокнистыми материалами и телами компактной структуры. Представлены результаты исследований изменения состава, структуры, физико-механических и физико-химических свойств в результате обработки ВЧ разрядом пониженного давления. На основании анализа результатов ВЧ плазменной обработки всего комплекса материалов (силикагеля, сорбентов, синтетических нитей, полиэтилена в виде пластин, натуральных высокомолекулярных материалов, нержавеющих и конструкционных сталей, твердых сплавов) определены значения обобщенных параметров обработки, обеспечивающие оптимальные изменения свойств модифицируемых материалов.

В пятой главе рассмотрены физические процессы, происходящие в капиллярно-пористых и волокнистых материалах при обработке в плазме ВЧ разряда пониженного давления.

Воздействие ВЧ плазмы пониженного давления на капиллярно-пористые и волокнистые материалы является комплексным: происходит одновременно обработка внешней поверхности материалов и внутренней поверхности пор и капилляров, что дает возможность объемной модификации капиллярно-пористых и волокнистых материалов.

В результате возникновения разряда внутри полимера и рекомбинации ионов на стенках пор происходит разрыв Ван-дер-ваальсовых и водородных связей в надмолекулярной структуре, что приводит к изменению аморфных и кристаллических фаз, релаксации внутренних напряженных состояний элементов надмолекулярной структуры, расщеплению пучков волокон, изменению соотношения размеров пор и их усреднение. При этом не происходит разрушения первичной, вторичной и третичной структуры полимера.

Следствием этого является релаксация внутреннего напряженного состояния, разрыхление и упорядочивание волокнистой структуры, изменение пористости материала, что в свою очередь приводит к изменению физических свойств.

В материалах компактной структуры ионы проникают в приповерхностный слой образца на глубину до 2 нм. В результате внутри кристаллической решетки создается дефектные структуры, которые диффундируют вглубь материала до глубины 20 нм, одновременно с этим происходит процесс диффузии имплантированных ионов плазмообразующего газа, который связывается с образованием твердых растворов или химических соединений.

Шестая глава посвящена разработке технологических процессов обработки капиллярно-пористых и волокнистых материалов, а также материалов компактной структуры.

Установлено, что наиболее целесообразным являются применения ВЧ разрядов пониженного давления для увеличения износостойкости металлов, выравнивания поверхностных свойств материалов, регулирования характеристик капиллярно-пористых и волокнистых материалов. Полученные результаты позволили разработать спектр процессов модификации изделий из капиллярно-пористых и волокнистых материалов и материалов компактной структуры.

Созданный комплекс оборудования и технологических процессов позволил повысить качество, надежность и долговечность изделий легкой и химической промышленности. Экономический эффект от внедрения составил 15000 тыс.руб.

Таким образом, диссертационная работа представляет собой научно обоснованную технологическую разработку, обеспечивающую решение ряда важнейших прикладных задач, имеющих большое народнохозяйственное и социальное значение и заключающуюся в создании комплекса новых процессов модификации капиллярно-пористых и волокнистых материалов для улучшения эксплуатационных, потребительских и технологических свойств изделий, с применением ВЧ разряда при пониженном давлении.

На защиту выносятся следующие научные положения и выводы

1. Результаты экспериментальных исследований характеристик ВЧ разряда пониженного давления с продувом газа в присутствии капиллярно-пористого и волокнистого материала, характеристик СПЗ, возникающего в окрестности обрабатываемого тела, и характеристик несамостоятельного разряда в пористом объеме материала.

2. Математическая модель СПЗ, описывающая взаимодействие ВЧ разряда пониженного давления с поверхностью в процессе обработки капиллярно-пористых и волокнистых материалов различной физической природы.

3. Закономерности изменения свойств капиллярно-пористых и волокнистых материалов неорганической и органической природы, а также материалов компактной структуры в результате воздействия ВЧ разряда пониженного давления.

4. Физическая модель ВЧ плазменной обработки капиллярно-пористых и волокнистых материалов, описывающая механизм возникновения несамостоятельного разряда в капиллярах и порах изделия.

5. Технологии модификации капиллярно-пористых и волокнистых материалов с применением ВЧ разрядов пониженного давления, позволяющие за счет объемной обработки регулировать эксплуатационные свойства материалов.

Большую консультационную помощь при выполнении данной работы оказал профессор д.т.н. Кудинов Владимир Владимирович, за что я ему искренне признателен.

1. Абдуллин, И.Ш. Современные методы модификации материалов из кожи и меха/ И.Ш. Абдуллин, B.C. Желтухин, И.В. Красина, М.Ф. Шаехов. / Учебноепособие. Гриф УМО. - Казань: - 2004. - 110 с - 100 экз.

2. Рыкалин, Н.Н. Металлургические ВЧ нлазмотроны. Электро- и газодинамика./ П.Н. Рыкалин, Л.М. Сорокин - М.: Наука, 1987. -164 с.

3. Reed, Т. В. Induction-Coupled plasma torch. J. Appl. Phys., 1961, V. 32, .№ 5, p. 821-824.

4. Moroner, A. Radio frequency heating of a dense moving plasma./ A. Moroner, F. Hushfar A.J Electric Propulsion Conference in Colorado Springs. ColoradoSprings, 1963, March, p. 11-13.285

5. Гольдфарб, В. М. Оптическое исследование распределения температуры и электронной концентрации в аргоновой плазме, /В.М. Гольдфарб, СВ. ДресвинТеплофиз. вые. температур, 1965, т.З, вып.З, с. 333 - 339.

6. Вурзелъ, Ф.Б. Высокочастотный безэлектродный плазмотрон при атмосфер- ном давлении. / Ф.Б. Вурзель, Н.Н. Долгополов, А.И. Максимов, Л.С. Полак,В.И. Фридман.- В кн.: Низкотемпературная плазма. М., 1967, с. 419- 431.

7. Ровинский, Р.Е. Геометрия безэлектродного разряда, индуцируемого в инертных газах Р. Е. Ровинский, Л.Е. Белоусова, В.А. Груздев.- Теплофиз. вы-сок, температур, 1966, т.4, вып.З, с. 328 - 335.

8. Ровинский, Р.Е. Об энергетическом балансе стационарного индуцированного разряда./ Р.Е. Ровинский, В.А. Груздев, И.П. Широкова Теплофиз. высок, тем-ператур, 1966, т.4, ВЫП.1, 35- 39.

9. Jonston, P.D. Temperature and electron density measuremenis in an RF discharge in argon. Phys. Letters, 1966, V. 20, X» 5, p. 499 - 500.

10. Ровинский, Р.Е. Определение температуры в стационарном высокочастотном индукционном разряде. / Р.Е. Ровинский, В.А. Груздев, Т.М. Гутенмахер, А.П.Соболев. Теплофиз. высок, температур, 1967, т.5, вып.4, с. 557-561.

11. Кулагин, И.Д. Определение электрических параметров индукционного раз- ряда в газе при атмосферном давлении/ И. Д.Кулагин, Л. М.Сорокин. - Физ. ихим. обр. матер., 1969, JV2 5, с. 3 - 12.

12. Кулагин, И.Д. Подобие индукционных разрядов при нагреве газа/ И.Д. Кулагин, Н.Н. Рыкалин, Л. М. Сорокин.- Физ. и хим. обр. матер., 1970, №5, с. 137-139.

13. Кулагин, И.Д. Экспериментальное исследование индукционного плазмотро- на/ И.Д. Кулагин, Л.М. Сорокин. - Физ. и хим. обр. матер., 1979, Jf^ 1, с. 3 - 8.

14. Кулагин, И.Д. Электромагнитные поля в реальном ненагруженном индукто- ре/ И.Д. Кулагин, Л.М. Сорокин, В.В. Шевченко.- Физ. и хим. обр. матер.,1976, № - I . e . 41-47.

15. Рыкалин, Н. Н. Плазменные процессы в металлургии и обработке материа- лов.- Физ. и хим. обр. матер., 1967, № 2, с. 317.

16. Гугняк, А.Б. Плазменные процессы в получении сферических порошков ту- гоплавких материалов. / А.Б. Гугняк, Е.Б. Королева, И.Д. Кулагин,В.И. Михалев, В.А. Петрунчев, Л.М. Сорокин .- Физ. и хим. обр. матер., 1967,№ 4, с. 40 - 45.

17. Краснов, АЛ. Низкотемпературная плазма в металлургии/ А.П. Краснов, В.Г. Зильберберг, Ю. Шарифкер.- М.: Металлургия, 1970.- 216 с., ил.

18. Mapmi, К.Г. Применение низкотемпературной плазмы в микроэлектронике/ К.Г. Марин, В.К. Любимов.- Физ. и хим. обр. матер., 1978, № 2, с. 64 - 69.

19. Кулагин, И.Д. Плазменный процесс в получении моноокиси кремния. / И.Д. Кулагин, В.К. Любимов, К.Г. Марин, Б.А. Сахаров, Л.М. Сорокин. Физ. и хим.обр. матер., 1967, № 2, с. 36 - 41.

20. Вурзель, Ф. Б. Химические процессы в плазме и плазменной струе/ Ф.Б. Вурзель, Л.С. Полак.- В сб.: Кинетика и термодинамика химических реак-ций в низкотемпературной плазме. М., 1995, с. 100 - 117.

21. Коломыцев, П.Т. Жаростойкие диффузионные покрытия.- М.: Металлургия, 1979.-272 с.

22. Кудинов В.В. Плазменные покрытия.- М.: Наука, 1977.-184 с.

23. Никитин, МД. Теплозащитные и износостойкие покрытия деталей дизелей./ М.Д. Никитин, А.Я. Кулик, Н.И. Захаров.- Л.: Машиностроение, 1977. - 168с.

24. Усое, Л.П. Применение плазмы для получения высокотемпературных по- крытий/ Л.П. Усов, А.И. Борисенко.- М.-Л.: Наука, 1965.- 88 с.

25. Сыпоров, В.Ф. Получение пленок двуокиси кремния плазменным методом. / В.Ф. Сыноров, Э.В. Гончаров, В.М. Гольдфарб, А.В. Крячко. Электронная тех-ника. Сер. материалы, 1967, вып.З, с. 41 - 47.

26. Неса, М. Soures а plasma pour la preparation de couches minces de silice/ M. He- ca, J. Van. Cakenberghe.- Thin Solid Films, 1972, v. 11, № 2, p. 283 -288.

27. Донской, А.В. Применение низкотемпературной плазмы в электротермиче- ских процессах./ А.В. Донской, СВ. Дресвин, B.C. Клубникин.- В сб.: Генера-торы плазменных струй и сильноточные дуги. Л. : 1973, с. 39 -43.

28. Буевич, Ю.А. Некоторые особенности термического разрушения разлагаю- щихся материалов./ Ю.А. Буевич, М.И. Якушин.- Журнал прикл. мех. и техн.физ., 1968, № 1 , с. 56-65.

29. Аладьев, И.Г. Исследование безэлектродного кольцевого разряда в аргоне и воздухе. / И.Г. Аладьев, И.Г. Кулаков, О.Л. Магдасиев, А.П. Шатилов. В кн.:Низкотемнературная нлазма. М., 1967, с. 411 - 418.

30. Андреев, СИ. Исследование эффективности выделения энергии в нлазме безэлектродного высокочастотного разряда. / С И . Андреев, М.П. Ванюков,А.А. Егорова, Б.М. Соколов.- Ж. техн. физ., 1967, т.37, вып.7, с. 1252 -1257.

31. Дымшиц, Б.М. Исследование контрагированного индукционного разряда./ Б.М. Дымшиц, Я.П. Корецкий. - В кн.: Иизкотемнературная нлазма. М., 1967, с.425-431.

32. Бабат, Г.И. Безэлектродные разряды и некоторые связанные с ними вонро- сы. Вестник электронромышленности, 1942, № 2, - с. 112.

33. Бабат, Л Я Безэлектродные разряды и некоторые связанные с ними вонро- сы. Вестник электронромышленности, 1942, }к 3, - с. 18.

34. Плазменная технология в нроизводстве СБИС. / Под ред. П. А. Айнснрука и Д. Брауна.- М.: Мир, 1987.- 469 с , ил.

35. Данилин, Б.С. Применение низкотемнературной нлазмы для травления и очистки материалов./ Б.С. Данилин, В.Ю. Киреев. - М.: Энергоиздат, 1987. 264с, ил.

36. Babat, G.I. Electrodeless discharges and some allied problems. Journal of the Inatitution of Electrical Engineers, 1947. V. 94. part III A, p. 27-37.

37. Morgan, G.D. High frequency discharges if gases. Science Progress, 1953, v. 41, №-161, p. 22-41.

38. Cabannes, F. Descharges dans les gaz. In. Etude de la decharge electrique par in- duction saus electrodes dans le neon. Paris, 1954, v. 238, Ш 20, p. 1979 - 1981.

39. Cabannes, F. Etude de la decharge electrique par induction dans les gas rares. An- nales de Physique. 1955, v. 10, november december, p. 1026 -1078.

40. Desiongnieres, I. Pulsation d'une decharge H.F. par filament de zirconium. / I. Desiongnieres, R. Geller, F. Prevot, et R. Vienet. I. de Physique. 1956, v. 17, Щ 2,p. 166-167.

41. Бамберг, E.A. Определение некоторых параметров высокочастотного коль- цевого разряда./ Е.А. Бамберг, С В . Дресвин Ж. техн. физ., 1963, т.ЗЗ, вып.1, с.65 - 72.

42. Савичев, В.В. Измерение параметров плазмы импульсного вихревого разряда зондовыми методами./ В.В. Савичев, Е.С. Трехов, А.Ф. Фоменко. - В сб.: Физи-ка газоразрядной плазмы. М., 1968, вып.1, с. 27 - 38.

43. Eidmann, I. Gasaufhezung und energiebilanz einer stationuzen hochfrequenten Aingentladung in Edelgasen. Beitrage aus der Plasmaphysik. 1971, Bd. 11, №- 2, s.99-119.

44. Исрафтов, И.Х. Энергетические характеристики высокочастотной плазмен- ной установки при низких давлениях. / И. X. Исрафилов, А. А. Самигуллин, Н. Шарифуллин, В. Д. Щербаков, Р. И. Яхин. Физ. и хим. обраб. матер., 1976, с.26-32.

45. Сысун, В.И. Источники плазмы высокой плотности на основе индукционно- связанного разряда. Материалы семинаров-школ молодых ученых, студентов иаспирантов / Петрозаводск, 2004. с. 147-177.

46. Lenz, В. Electron temperatures in low pressure R.F.-discharge./ B. Lenz, R.I. Walther. - Proc. 13-th Inem. Conf. Phenomena ionisated Gas, Berlin, 1977,p. 337-338.

47. Марков, Г.А. Фокусировка и канализация нижних гибридных волн и плазмы при ВЧ пробое газа. / Г.А. Марков, В.А. Миронов, В.Г. Савин, A.M. Сергеев.-Физика плазмы, 1980, т.6, вып.З, с. 670 - 675.

48. Schlz, P.D. Local thermodynamic equilibium in an R.F. argon plasma/ P.D. Schlz, T.P. Anderson.-1. Quant. Spectrosc. Ratiot. Transfer, 1968, v. 8, J^ o 7, p. 1411 1418.

49. KoHoneiiKo, В.И. Исследование параметров и микроволнового излучения плазмы безэлектродного индукционного разряда: Автореф. дисс. канд. физ.-мат. наук.- Харьков, 1970.- 23 с.

50. Годяк, В.А. О зондовой диагностике ВЧ плазмы./ В.А. Годяк, О.А. Попов Ж. техн. физ., 1977, т.47, вып.4, с. 776 - 770.

51. Вагнер, Д. Распределение электронов по энергиям и контрагрование в вы- сокочастотном разряде. / Д. Вагнер, В.А. Виролайнен, Ю.М. Коган, Г.Ю.Хрусталев. В кн.: Вопросы физики низкотемпературной плазмы. Минск, 1970,с. 182-184.

52. Кононенко, К.В. Детекторные свойства газоразрядной плазмы. М.: Атомиз- дат, 1980.-128С.

53. Geller, R. Production de plasmordes des de haut frequence stabflis a la fre- quencew stablis a la frequen de resonance du plasma. Comptes. Rendus hebdo-madaries des Sciences de l'Acudemie des sciences. 1959. v. 249,, № 1, p. 2749 2751.291

54. Лари, Э. Безэлектродный зонд для определения проводимости высокотемпе- ратурной плазмы/ Э. Лари, Д. Полк.- В кн.: Низкотемпературная плазма. М.,1967, с. 314-325.

55. Cabannes, F. Etude de 1 'amorcage de la decharge electrique dans le neon et xe- non. Comptes Rendis. Hebdomadaires des sciences de l'Academie des Sciences,1954,v.238,№14,-1482p.

56. Birkhoft, G. Messung der elektrischen Vorgange innerhalb einer Hochfregnenz Ringentladung. Zeitschrift fur ungewandte Physik, 1958, Bd. 10, Jfa- 5, s. 204 - 206.

57. Dippel, K. Magnetic field probes with high frequency responce. / K. Dippel, W. Tackenbarg. - Proceedings Amsterdam, 1960, v. 1, p. 533 - 536.

58. Преобраэ1сенскш, B.A. Измерение параметров плазмы высокочастотного им- пульсного разряда в N2 и СОг- / В.А. Преображенский, Е.С. Трехов,В.В. Савичев, А.П. Фоменко. В сб.: Физика газоразрядной плазмы. М., 1969,вып. 2, с. 139-147.

59. Жесткое, Б.Е. Некоторые вопросы диагностики гиперзвуковых свободномо- лекулярных потоков.- Труды ЦАГИ, 1977, вып. 1853, с. 32 -41.

60. Жесткое, Б.Е. Исследование ионизации и нагрева газа в высокочастотном индукционном разряде. / Б.Е. Жестков, Б.Г. Ефимов, З.Т. Орлова, A.M. Омелин,В.И. Ершов. Труды ЦАГИ, 1970, вып. 1232,15 с.

61. Исрафилое, И.Х. Энергетические характеристики высокочастотной плазмен- ной установки при низких давлениях. / И.Х. Исрафилов, А.А. Самигуллин, СИ.Шарифуллин, В.Д. Щербаков, Р.И. Яхин. Труды КАИ: Физические науки, вып.193, 1975, с. 32-38.

62. Браун, Элементарные процессы в плазме газового разряда.- М.: Атомиз- дат, 1961.-323С.

63. Моделирование и методы расчета физикохимических процессов в низкотем- пературной плазме. / отв. ред. Л. Полак.- М.: Паку, 1974. - 271 с.

64. Brasified Charles, I. High frequency discharges in mercure, helium and neon. / Physical Rewiew, 1931, v. 37, Jom, p. 82.292

65. Левитский, СМ. Исследование потенциала зажигания высокочастотного разряда в газе в переходной области частот и давлений. // Журн. техн. физ.1957. Т.27, вып. 5. 970-977.

66. Разумовская, Л.П. Оптические и электрические свойства ВЧ "слабого" и "сильного" разрядов в неоне./ Л.П. Разумовская, О.П. Бочкова. // Оптика испектроскопия, 1960. Т.9. Вып.2. 271 - 273.

67. Яценко, Н.А. Сильноточный ВЧЕ разряд среднего давления. ЖТФ, 1980. Т.50. Вып.П. 2480 - 2482.

68. Яценко, Н.А. Связь постоянного потенциала плазмы с режимом горения вы- сокочастотного емкостного разряда среднего давления. // Журн. техн. физ.1981. Т. 51, вып. 6. 1195-1204.

69. Мышенков, В.И. Влияние межэлектродного расстояния на максимальный поперечный размер пространственно-однородного плазменного стоба. /В.И. Мышенков, Н.А. Яценко. // ЖТФ, 1981. Т.51. № 10, с. 1195 - 1204.

70. Яценко, Н.А. Эффект нормальной плотности тока в емкостном ВЧ разряде среднего давления. // ЖТФ, 1982. Т.51, № 10, с. 2055 - 2060.

71. Ганна, А.Х. Исследование ВЧ разрядов в диффузионной области давления, а и у разряды: Автореф. дисс- М., 1979.-14 с.

72. Кузовников, А.А. Пространственное распределение параметров стационарно- го ВЧ разряда./ А.А. Кузовников, В.П. Савинов. // Вестник МГУ. Сер.: Физика,астрономия, 1973, № 2. 215 - 233.

73. Кузовников, А.А. Исследование зависимости собственных постоянных элек- трических полей ВЧ разряда от его параметров./ А.А. Кузовников,В.Л. Ковалевский, В.П. Савинов // Вестник ЛГУ, Сер.: Физика. Астрономия,1983,т.24,вып.4,с.28-32.

74. Александров, А.Ф. Электронный энергетический спектр приэлектродной плазмы асимметричного емкостного ВЧ разряда низкого давления.А.Ф. Александров, А.А. Рухадзе, В.П. Савинов, И.Ф. Сингаевский / Письма вЖТФ, 1999, т. 25. вып. 19, с. 32 - 39293

75. Popow, O.A. Power diss: pated in low-pressure radio-frequency discharge plas- mas./ O.A. Popow, V.A. Jodyak. / J. Appl. Phys., vol. 57, № 1, 1985, p. 53 -58.

76. Левитский, CM. Потенциал пространства н распыление электродов в высо- кочастотном разряде. //Журн. техн. физ.-1957.- Т.27, вып. 5. 1001 - 1009.

77. Джерпетов, Х.А. Исследование высокочастотного разряда методом зондов./ Х.А. Джерпетов, Г.М. Патеюк. // ЖЭТФ, 1955, т.28, вып.З, с. 343 - 351.

78. Застенкер, Г.Н. Процессы в высокочастотном разряде низкого давления низкого давления при изменении напряжения на электродах./ Г.Н. Застенкер,Г.С.Солнцев, Б.П. Швилкин. // Радиотехника и электроника, 1960. Ш 10, с.1709-1716.

79. Застенкер, Г.Н. О механизме формирования высокочастотного разряда низ- кого давления в воздухе./ Г.Н. Застенкер, Г.С. Солнцев, Б.Н. Швилкин. // Ра-диотехника и электроника, 1961, № 3, с. 387 - 394.

80. Кузовпиков, А.А. Экспериментальное исследование поглощения ВЧ поля плазмой положительного столба./ А.А. Кузовников, М.А. Хадир. // Радиотехни-ка и электроника, 1973, т. 18, вып.4, с. 875 - 877.

81. Грановский, В.Л. Электрический ток в газе. Установившийся ток / Под ред. Л.А. Сена и В.Е. Голанта. М.: Наука, 1971.-544 с , ил.

82. Рыкалин, Н.Н. Исследование энергетических параметров высокочастотного емкостного плазмотрона./ Н.Н. Рыкалин, И.Д. Кулагин, Л.М. Сорокин, А.Б.Гугняк. // Физ. и хим. обраб. матер., 1975. JSfe 4, - с. 3 6.

83. Рыкалин, Н.Н. Высокочастотный плазмотрон с внешними электродами и продольным продувом газа./ Н.Н. Рыкалин, И.Д. Кулагин, Л.М. Сорокин, А.Б.Гугняк. // ЖТФ, 1976, Т.46, .№ 4, с. 730 - 736.294

84. Кононов, СВ. К определению интенсивности удельных тепловых потоков к поверхности в струях высокочастотного безэлектродного плазмотрона на воз-духе/ СВ. Кононов, М.И. Якушин. - Журнал прикл. мех. и техн. физ., 1966, №6, с. 67- 68.

85. Подгорный, И. М. Лекции по диагностике плазмы.- М. Атомиздат, 1968. -219 с.

86. Колесниченко, Ю.Ф. Высокочастотный емкостной разряд при давлениях порядка атмосферного./ Ю.Ф. Колесниченко, В.Д. Матюхин, В.Ф. Муравьев,СИ. Смазнов. // ДАН СССР, 1979, т.246, с. 1091 -1094.

87. Тихомиров, И.А. О функции распределения электронов по энергиям в высо- кочастотном электродном разряде при пониженных давлениях./ И.А. Тихоми-ров, В.В. Тихомиров, В.И. Шишковский // Известия ВУЗов. Сер.: Физика, 1974,№ 4. С 34 - 37.

88. Бердичевский, М.Г. Неравновесность и механизм ионизации азотной плаз- мы безэлектродного ВЧ емкостного разряда при средних давлениях./М.Г. Бердичевский, В.В. Марусин. // Изв. Сиб. отд. АН СССР. Сер. техн. наук,1979,№-8,вып.2,с.72-79.

89. Бердичевский, М.Г.. Механизм нагрева азотной плазмы безэлектродного ВЧ емкостного разряда при средних давлениях./ М.Г. Бердичевский, В.В. Марусин.ТВТ, 1979. Т. 17, Х2 2, с. 246 - 249.

90. Полак, Л.С. Теоретическая и прикладная плазмохимия./ А.А. Овсянников, Д.И. Словецкий, Ф.Б. Вурзель. М.: Наука, 1975, - 304 с.

91. Босяков, М.Н Определение вращательной температуры молекул в плазме ВЧ разрядов низкого давления./ М.Н. Босяков, А.А. Лабуда // Докл. АН БССР,1981. 25, ВЫП.9, с. 801-804.

92. Маркова, Т.Н. Структура нленок окиси алюминия, полученных в плазме ВЧ разряда./ Т.И. Маркова, А. Неустроев, Т.И. Павлиашвили, Е.Б. Соколов,В.В. Стрижков. Электронная техника. Сер.З, вып.1 (85), 1980. с. 112 - 113.

93. Максимов, А.И. Сравнительное исследование расныления некоторых ме- таллов в тлеющем и ВЧ разрядах./ А.И. Максимов, В.И. Светцов. // Труды Ива-новского хим. техн. ин-та, 1973. Вып.З, с. 110 -115.

94. Светцов, В.И. Особенности распыления различных материалов при разряде в химически активных средах: Обзоры по электронной технике. Сер.4: Элек-тровакуумные и газоразрядные приборы. М.: ЦНИИ "Электроника", 1983,ВЫН.5 (979).- 39 с.

95. Савинов, В.П. Физические процессы в граничных областях емкостного вы- сокочастотного разряда. /Тезисы докладов 11 конференции по физике газовогоразряда - Рязань. - 2002. т. 2. с. 17-19296

96. Gherbonowscki, N. Ring discharge./ N. Gherbonowscki, 0. lancu Analele Uni- versitatu Bucuresti, Fizika, 1979, v. XXVIII, p. 3 9.

97. Звягинцев, A.В. Безэлектродные емкостные разряды дугового тина./ А.В. Звягинцев, Р.В. Митин, К.К. Прядкин. // ЖТФ, 1975. Т.45, вып.2, с. 278 -285.

98. Постников, А. О низкочастотной дрейфовой неустойчивости плазмы вы- сокочастотного разряда в магнитном поле./ А. Постников, А.А Сковорода,Б.П. Швилкин //ЖТФ, 1975. Т.45, вып.З, с. 508 - 513.

99. Наумовец, ВТ. Влияние магнитного поля на высокочастотный разряд./ В.Г. Наумовец, Л.Л. Пасечник, В.В. Ягода // Физ. плазмы, 1979. Т.5, вып.1,с. 179-183.

100. Брагин, В.Е. О пространственной однородности объемного ВЧЕ разряда. В.Е. Брагин, В.Д. Матюхин // Труды Моск. физ.-техн. ин-та. Сер.: Общ. и моле-кулярн. физ., 1979, вып.11. с. 179 182.

101. Kapicha, V. Corona and high frequency discharges. Acta. Phys. Slow., 1979, v.29,.Nb2,p. 119-122.

102. Тринг, M.B. Плазменная технология. В кн.: Низкотемпературная плазма. М., 1967, с. 531 -545.

103. Lachamber, T.L. Tranzversely RF-excited CO2 Wavequide Laser. T.L. Lachamber, T. Mcfarlane, J. Otis, P.A. Lavigne / Appl. Phys. Lett., v.32, № 10,1978, p. 652-653.

104. Вурзель, Ф.Б. Плазмохимическая модификация поверхности стекла. Ф.Б. Вурзель, В.Ф. Назаров. В сб.: Плазмохимические процессы. М., 1979, с.172-203.

105. Гайнутдииов, И.С. Очистка и полировка поверхностей подложек высоко- частотной индукционной плазмой низкого давления. / И.С. Гайнутдинов, Г.Ю.Даутов, А.А. Самигуллин, Н. Шарифуллин, В.Д. Щербаков. Физ. и хим. обр.матер., 1977, Хо 6, с. 150-152.

106. Василец, В.Н. Исследование действия ВЧ разряда на поверхность полиэти- лена. В.Н. Василец, И.А. Тихомиров, А.Н. Нономарев. Тез. докл. II Всесоюзн.совещания по плазмохимии. М., 1979, т.2, с. 261 - 263.

107. Очерки физики и химии низкотемпературной плазмы. / Под ред. Л.С. Полака. - М.: Наука, 1977. - 436 с.298

108. Фолманис, Г.Э. Диэлектрические пленки из проникающей плазмы. -Физ. и хим. обр. матер., 1981, JV2 4, с. 156-157.

109. Гущин, Л.К. Термодиффузионное насыщение титановых сплавов азотом и кислородом при нагреве высокочастотной низкотемпературной плазмой. В сб.:Защитные покрытия. Киев, 1967, с. 87-91.

110. Зорин, Е.И. Осаждение карбиновых и алмазоподобных пленок в плазме га- зового ВЧ разряда./ Е.И. Зорин, В.В. Сухоруков, Д.И. Тетельбуам // ЖТФ, 1980.Т.50,вып.1, с. 175-177.

111. Велихов, Е.Л. Физические явления в газоразрядной плазме: Учеб. руково- дство./ Е.Л. Велихов, А.С. Ковалев, А.Т. Рахимов. - М.: Наука, 1987. -160 с , ил.

112. Васильева, А.Н. Несамостоятельный разряд в газе. А.Н. Васильева, И.А. Грищина, А.С. Ковалев, В.И. Ктиторов, А.Т. Рахимов, СБ. Розанов. Пись-ма в ЖТФ, 1980. Т.6, ВЫП.9, с. 551 -555.299

113. Батманов, Г.М. Несамостоятельный СВЧ разряд и возможности его ис- пользования в лазерной технике./ Г.М. Батманов, И.А. Коссый, Г.С. Лукьянчи-ков // ЖТФ, 1980. Т.50, вып.2, с. 346 -349.

114. Patel, К. Ш^щоХг^юп of CU2 optical maser experiments. / Phys. Pev. Lett., V.I2, 1964, p. 588-590.

115. Patel, C.K. Selective excitation thouch vibrational energy transfer and optical maser action in N2 - CO2- / Phys. Rew. Lett., v.l3, 1964, p. 617 -619.

116. Crocker, A. Carbon-dioxide laser with high power per unit lenght./ A. Crocker, M.S. Wills. / Electr. lett., v.5, № 4, 1969, p. 52 - 53.

117. Comprehensive organometallic chemistry, V.3, Oxf., 1982, p. 783 - 1077.

118. Технология пластичных масс, под ред. В. В. Коршака, «Химия», М., 1985, с. 32-50.

119. Гроздова, Г.В. Тенденции в производстве и переработке полиэтилена низ- кой плотности, получаемого при низком давлении./ Г.В. Гроздова, Т. Смирнова,Ж. Хим. пром. за рубежом, 1982, Ш2, с. 1 - 15.

120. Kysajko, W. WAJ.- 1980.- XXIX.- №4.- 81.

121. Кузнецов, Б.Н. Синтез и применение углеродных сорбентов Б.Н. Кузнецов //Соросовский образовательный журнал, 1999, №12, с. 29 - 34.

122. Олонцев, В.Ф. Некоторые тенденции в производстве и применении актив- ных углей в мировом хозяйстве. - Химическая промышленность. 2000. - №5. -с.7-14

123. Лихолобов, В.А. Каталитический синтез углеродных материалов и их при- менение в катализе/ В.А. Лихолобов // СОЖ, 1997, № 5, с. 35-42.

124. Роговил, З.А. Основы химии и технологии химического юлокна/З.А. Роговин: В 2-х т. — М.: Химия. — 1974. — Т. 1. —520 с.

125. Мельников, Б.Н. Современные способы заключительной отделки тканей из целлюлозных волокон. / Б.Н. Мельников, Т.Д. Захарова - М.: Мир. — 1975. -322 с.

126. Nelson, P.M. А model for БОфиоп of water vapor by cellulosic materials / P.M. Nelson // WoodFibr. Sd.- 1983.- V.15. - № 1.-P. 8-22 .

127. Мельников, Б.Н. Физико-химические основы отделочного производства / Б.Н.Мельников, Т.Д.Захарова, М.Н.Кириллова. - М.: Химия, 1982. - 293 с.

128. Зазулина, З.А. Основы технологии химических волокон: Учебник для вузов/ З.А.Зазулина, Т.В.Дружинина, А.А.Конкин. - М.: Химия, 1985.- 303 с.

129. Кундий, А. Оценка эффективности использования биопрепаратов для об- работки льняных материалов / А. Кундий, А.В. Чешкова, В.И. Лебедева,Т.Б. Хан // Теория и практика: Сб. международной техн. конф. - Иваново: ИГ-ТА. — 1996. - 26-28.

130. Данилкович, А.Г. Нрактикум по химии и технологии кожи и меха. / А.Г. Данилкович, В.И. Чурсин- М.: ЦНИИКН, - 2002. - 413с.

131. Артамонов, Б.А. Электрофизические и электрохимические методы обра- ботки материалов. / Б.А.Артамонов, Ю.С.Волков, В.И. Дрожалова. - М.: Выс-шая школа, 1983. - Т. 1 - 247 с.

132. Артамонов, Б.А. Электрофизические и электрохимические методы обра- ботки материалов. Т.2. / Б.А.Артамонов, Ю.С.Волков, В.И.Дрожалов^ - М.:Высшая школа, 1983. - 208 с.

133. Лопилов, Л.Я. Электрофизическая и электрохимическая обработка материа- лов: Справочник./ Л.Я. Лопилов - М.: Машиностроение. — 1982. - 399 с.301

134. Snoeys, R. The role - of nonconventional machining methods in mechanical manufacturing / R. Snoeys // Bull. Seanc. Acad. Sci. Outre Mer. Meded Zin, K, Acad.Oxerzeese Wet. - 1986.-№3. - V.3. - P . 503 - 505.

135. Генель, C.B. Стабильность полимерных материалов и изделий из них. / СВ. Генель, В. Н. Кестельман, Р. А. Рутто.- М.: МД, 1971.- 200 с.

136. Болт, Р. Действие радиации на органические материалы./ Болт Р., Кэррол Дж. Пер. с англ./ Под. ред. В. Л. Карпова. -М.: Атомизадат, 1965. - 499 с.

137. Жиряков, Б.М. Нетрадиционные способы обработки материалов./ Б.М. Жиряков, А.К. Фаннибо А.К. - М.: ЦНИИПИ, 1976. - 24 с.

138. Кестельман, В.Н. Физические методы модификации полимерных материа- лов. / В. П. Кестельман - М.: Химия, 1980. - 222 с.

139. Князев 5./Г Радиационная стойкость материалов радиотехнических конст- рукций / В. К Князев.: Справочник. - М.: Советское радио, 1974. -40 с.

140. Махлис, Ф.А. Радиационная физика и химия полимеров./ Ф. А. Махлис - М.: Атомиздат, 1972. - 256 с.

141. Бовей, Ф. Действие ионизирующих излучений на природные и синтетиче- ские полимеры. Пер с англ./ Под ред Ю.С. Лазуркина. - М.: Изатинлит, 1959. -296 с.

142. Берлянт, СМ. Наполненные радиационно-модифицированные композиции на основе полиэтилена./ А.А. Гавловский, В.Г. Данилов, В.П. Перепелкин //Пластические массы. -1976. - № 7. -С.36 -38.

143. Гусев, Г.В. Влияние облучения на электропроводимость поликапроамидных нитей/ Г.В. Гусев, В.М. Поленичкин, Б.И. Буркерт, Б.М. Тараканов // Химиче-ские волокна. -1999. -JN» 3. -С. 40-41.

144. Пьянков, Г.Н. Радиационная модификация полимерных материалов. -Киев: Техника., 1969.-229 с.

145. Жиряков, Б.М. Нетрадиционные способы обработки материалов/ Жиря- ков Б.М., Фаннибо А.К.. - М.: ЦНИИПИ, 1976. - 24 с.302

146. Инфракрасные снектры ноглощения нолимеров и всномогательных ве- ществ / под. ред. В. М. Чулановского.- М.: Химия, 1969. -50 с.

147. Козельцев, Л.И. Термообработка изделий из реактонластов токами высокой частоты. //Пластические массы. - 1974. - №3. -С. 43-41.

148. Бартенев, Г.М. Курс физики нолимеров./ Бартенев Г.М., Зеленев Ю.В. Л.: Химия, 1967.-288 с.

149. Бах, Н.А. Электропроводность и парамагнетизм полимерных полупровод- ников./ Бах Н.А., Ванников А.В., Гришина А.Д.. -М.: Наука, 1971. -287 с.

150. Лобанов, М.Ю. Конвективно-микроволновая фиксация активных красите- лей хлончатобумажной тканью/ М.Ю. Лобанов, А.П. Морыганов,Б.Н. Мельников, B.C. Побединский// Технология текстильной промышленно-сти.-1991.-№ 5.-С. 51.

151. Лобанов, М.Ю. Влияние СВЧ излучения на диффузию активных красителей в целлюлозный субстрат / М.Ю.Лобанов, B.C. Побединский //Текстильная хи-мия.-1995.-^2 2.-С. 101-106.

152. Hudis, М. Plasma treatment of solid materials // Techn. and Appl. of Plasma Chem. Ch. 3. - 1974. - P. 113 - 147.

153. Pavlath, A.E. Plasma treatment of natural materials. Ch. 4 // Ibid. - 1974. - P . 149-175.

154. Kirk, R. W. Application of Plasma Technology to fabrication of semiconductor devices. Ch. 9. // Ibid. - 1974. - P. 347 - 377.

155. Thomas, R.S. Use of Chemically Reactive Gaseous Plasmas in preparation of specimens for microscopy. Ch. 8. // Ibid. - 1974. - P. 255 - 346.303

156. Friedrich, I. Untersuchungen zur Plasmaatzung von Polimeren, I. Structuranderungen von Polimeren nach Plasmaatzung/ I. Friedrich, G. Kuhn,I. Gahde // Acta Polimerica. - 1979. - Bd. 30. - .№ 8. - S. 470 - 477.

157. Максгшов, A.M. Окислительные процессы в неравновесной плазме низкого давления/ А.И. Максимов, В.И. Светцов. // Изв. вузов. Химия и хим. технол. -1979.-Т. 22,}(о 10.-С. 1167-1185.

158. Горберг, Б.Л. Модификация текстильных материалов в низкотемператур- ной плазме тлеющего разряда: Автореф. дис. канд. техн. наук.- Иваново, 1985.

159. Квач, КМ. Плазмохимическая обработка льняных тканей/ Н.М. Квач, Т.В. Тюркина, Ф. Садова // Текст, пром-ть. - 1995. - № 1 - 2. - 33 - 35.

160. Ingals, R.B. ESR spectra of free radical intermediates formed by reaction of polyestyrene with atoms of hydrogen and deuterium/ R.B. Ingals, L.M. Woll. // J.Chem.Phys.-1971.-}{235.-P. 370-371.

161. Шарнина, JJ.B. Разработка эффективных методов плазменной активации текстильных материалов: Автореф. дис. канд. техн. наук.- Иваново, 1991.

162. Lee, K.S. The effects of afterglow, ultraviolet radiation, and heat on wool in an electric glow discharge/ Lee K.S., Pavlath A.E. // Textile Res.J.-1975.-V.45, K^8.-P. 625-629.

163. Ihorsen, W.I. Temporary and permanent fiber-friction increases induced by co- rona treatment//Textile Res. J. - 1971. -V. 41, № 4. - P . 331 -336.304

164. Gregorsci, К. Fabric modification using the plasmas/ K. Gregorsci, A. Pavlath. // Textile Res. J. - 1980. - V. 50, J^ 2 1. - P. 42 - 46.

165. Pavlath, A. Plasma Treatment of natural materials A. Pavlath, E. Attila // Techn. and Appl. of Plasma Chem.: N.Y. - London - Sydney - Toronto: Intersd. Publ., 1984.-P. 149-175.

166. Афанасьев, B.K. Обработка шерстяных материалов в низкотемпературной плазме В.К. Афанасьев, Г.М. Александрова, М.Н. Серебренникова. // Текст,пром-сть. - 1992. - Я» 5. - 26 - 27.

167. Садова, Б.Л. Придание шерстяным тканям эффекта малосвойлачиваемости/ Б.Л.Садова, Н.Н. Баева. // Текст, пром-сть. - 1991. -Х« 11 - 12. - 43 - 44. 168. Баева, Н.Н. Разработка технологии придания малосвойлачиваемости шер- стяным материалам с использованием низкотемпературной плазмы: Автореф.дис. канд. техн. наук. -М., 1989.

169. Александров, КБ. Закономерности взаимодействия электронно-пучковой неравновесной плазмы с целлюлозой/ И.Б. Александров, М.Н. Васильев, Ю.В.Гаврилов. // Журн. прикл. хим. - 1996. - Т. 69, вып. 12.

170. Николаева, К.А. Исследование процесса крашения шерстяной ткани, обра- ботанной в низкотемпературной плазме при пониженной температуреИ.А. Николаева, Ф. Садова. //Тез.докл.Всерос. науч.-техн.конф. Иваново: ИГ-ТА,1990.-С.55-58.305

171. Шаповалов, СВ. Особенности модификации поликапроамидных волокон в низкотемпературной плазме СВ. Шаповалов, Т.П. Лебедева, А.А. Калачов. //Высокомолекул. соединения. - 1993. - Т. 35, № 5. - 520 - 527.

172. Герасимова, Н.А. Совершенствование физико-химических способов повы- шения прочности адгезионных соединений/ Н.А. Герасимова, В.Е. Кузьмичев,В.В. Веселов. / Ивановский текст, ин-т. - Иваново, 1966. - Рукоп. деп. вЦНИИТЭИлегпром 08.09.86, № 1755-ЛП.

173. Yasuda, Н. ESCA study of polymer surface treated by plasma/ H. Yasuda, H.S. Marsh, S. Brandt.// Journal of Polymer Science: Polymer Chemistry Eddition. -1977.-V. 15.-P. 991-1019.

174. Реиби, Б. Кинетика фотолиза полиэтилена вакуумным ультрафиолетовым излучением./ Б. Ренби, Я. Рабек. // Химия высоких энергий. -1979. - Т.13. -№ 3.-С. 225-231.

175. Hollahan, J.R. Techniques and Applications of Plasma Chemistry. J.R. Hollahan, T.B. Alexis - New York: Wiley -Interscience Publication, 1974. -399 p

176. Bell, A.T. Introduction to plasma processing. // Solid State Technology. -1978. - V. 21.-.№4.-P. 89-94.

177. Чистяков, Ю.Д. Физико -химические основы технологии микроэлектрони- ки./ Ю.Д.Чистяков, Ю.П. Райнова. -М.: Металлургия, 1979. -408 с.

178. Муранова, ГА. Ионная полировка оптических поверхностей./ Г.А. Муранова, B.C. Терпугов, П.П. Егоров, Г.П. Тихомиров, А.Ф. Первеев. //Оптико-механическая промышленность. -1979. - № 5. -С. 33 -35.306

179. Craighead, KG. Textured thin film. Si solar absorbers using reactive ion etch- ing. H.G. Craighead, R.F. Howard // Journal of Applied Physics Lett. -1980. -V. 37. -№ 7. - P. 653 - 655.

180. Boundur, J.A. Dry process techcology (RIE). // Journal of Vac. Science Technol- ogy. -1976. -V. 13. -№ 5. -P. 1023 - 1029.

181. Schwartz, G.C. Reactive ion etching of silicon. G.C. Schwartz, R.M. Schaible // Journal of Vac. Science Technjolgy. -1979. -V. 16.- № 2. -P. 410 -412.

182. Прутская, M.A. Эффективность модификации полимерных диэлектриков в тлеющем и барьерном разряде: Тезисы докл. третьего всесоюзн. симп. по плаз-мохимии. -Москва, 1979. -С. 328 -330.

183. Абдрашитов, Э.Ф. Поверхностная плазмохимическая модификация эла- стомеров/ Э.Ф. Абдрашитов, А.Н. Пономарев. / Тезисы докл. 4-го Всесоюзн.симп. по плазмохимии. - Днепропетровск, 1984. - 96-97.

184. Романкевич, М.Л. Обработка полиэтиленовой пленки коронным разрядом/ М.Л. Романкевич, И.П. Гирко // Механика полимеров. - 1973. -№2. - 367.

185. Берлин, А.А. Основы адгезии полимеров. А.А. Берлин, В.Е. Басип. -М.: Хи- мия, 1969.-130 с.

186. Сажин, Б.И. Электрические свойства полимеров. - Л.: Химия, 1970. -220 с.

187. Тобакарев, ВТ. Исследование плазменной модификации поверхностей по- лимерных материалов / В.Г. Тобакарев, В.И. Гриневич, А.И. Максимов, В.ВРыбкин. //Химия и химическая технология. -1979. -Т. 12. -С. 184 -187.

188. Egitto, F.D. Mettalized Plastics F.D. Egitto, L.J. Matienzo. Fundamental and Applied aspects: Contributed Papers of 189 th Meeting of the Electrochemical Soci-ety. -Los Angeles, 1996. -P. 283 -301.

189. Arefi, F. Metallized Plastics./ F. Arefi, M. Tatoulian, V. Andre, J. Amouroux, G. 1.orang: Fundamental and Applied Aspect -New York : Plenum Press, 1992. -V. 3. -340 p.

190. Arefi, F. Metallized Plastics./ F. Arefi, M. Tatoulian, V. Andre, J. Amouroux, G. 1.orang Fundamental and Applied Aspect. -New York : Plenum Press, 1992. -V. 2. -340 p.

191. McCracken, G.M. The behaviour of surface under ion bombardment. // Rep. Pro- gress Physics. -1975. -V. 38. -.№ 2. - P. 241 -327.

192. Hall, J.R. Activated Gas Plasma Surface Treatment of Polymers for Adhesive Donding, Part 2. J.R. Hall, C.A. Westerdahl, M.J.Bodnar // Journal of Applied Poly-mer Science. -1969. -V. 13.- P. 1085 -2096.

193. Reitz, U. Barrierententladungen zur plasmagestutzten Oberflachenbehandlung : Contributed Papers of International Conference on PhD. - Technical UniversityBraunschweig, 1995. -P. 344 -346.

194. Schwatz, R. Uber die Beschichtung von Oberfiachen mit Barrierenentladungen bei Atmospharendruck: Contributed Papers of International Conference on PhD. -Technical University Braunschweig, 1995. -P. 360 -365.308

195. Gheorghiu, М. Treatment of polyethersulphone films in argon RF discharge M, Gheorghiu, J. Sullivan, S.O. Saied, G. Popa: Contributed Papers of 14 th Interna-tional Symposium on Plasma Chemistry. -Prague, 1999. -P. 1837 - 1842.

196. Ricard, A. Plasma-Surface Interactions and Processing of Materials./ A. Ricard,

197. Auciello. -Kluwer: Dordrecht, 1990. -300 p.

198. McDaniel, E.W. Collision Phenomena in Ionized Gases. -New York: Willey,1976.-231p.

199. Горберг, Б.Л. Модификация поверхностных свойств текстильных материа- лов в низкотемпературной плазме тлеющего разряда/ Б.Л. Горберг,Ю.Р. Зельдин, А.И. Максимов: Тезисы докл. 4-го Всесоюзн. симп. по плазмо-химии. - Днепропетровск, 1984. - 178 -180.

200. Farmer, A.J.D. Dielectric barrier discharge treatment of textiles/ AJ.D. Farmer, P.S. Turner, XJ, Dai.: 14 th international symposium on plasma chemistry - Prague,Czech Republic, 1999.-V.3.-P. 1131-1135.

201. Creatore, M. Plasma treatments of polyethylen in modulated NH 3 RH glow dis- charges/ M. Creatore, P. Favia, G. Cicala, R. Lamendola, R. d'Agostino.: 14 thinternational symposium on plasma chemistry - Pragye, Czech Republic, 1999. -V. 3.-P. 1203-1207.

202. Переверзев, B.H. Интенсификация технологических процессов обработки меха/ B.H. Переверзев, А.Н. Беседин, В.Г. Зуева. //Кожевенно-обувная про-мышленность. -Ш 4. -С. 5-6.

203. Dai, X.J. Reactive plasma spesies in the modification of wool fibre./ X.J. Dai, S.M. Hamberger, R.A. Bean //Australian journal physics. -1995.-V. 48.P.939-951.

204. Brooks, J.H. Surface Energy of Wool./ J.H. Brooks, M.S. Rahman // Textile re- search Journal.-1986.-V. 56.-P. 164-171.

205. Bateup, B.E. Wettability of Wool Fibers./ B.E. Bateup, J.R. Cook, H.D. Feldman, B.E. Fleischfresser. // Textile research Journal. -1976. -V. 46. -P. llQ-lli.

206. Byrn, KM The Critical Surface Tension of Wool. K.M. Bym, M.W. Roberts, J.R.H. Ross // Textile research Journal. - 1979. -V. 49. -P. 34-40.

207. Feldman, H.D. The Spreading and Adhesion of the Polymer on Wool. H.D. Feldman, J.R. McPhee //Textile research Journal. -1964. -V. 34. -P. 634 -642.

208. Owens, D.K. Estimation of the Critical Surface Free Energy of Polymer. D.K. Owens, R.C. Wendt // Journal of Applied Polymer Science. -1969. -V. 13.P. 1741 -1747.

209. Wells, R.K. Modeling of non - isothermal glow discharge modification of PTFE using low energy ion beams./ R.K. Wells, M.E. Ruan, J.P.S. Badual // Journal physicschemistry. - 1993. -№ 9. -P. 12879 -12881.

210. Yasuda, H. Plasma Polymerization. -London: Academic Press, 1985.-300 p.

211. Садова, Ф. Совершенствование подготовки и печати шерстяных тканей, обработанных низкотемпературной плазмой / Ф. Садова, СМ. Журавлева,О.В. Пырсикова // Текстильная промышленность. - 1999. - Jsr2 11- 12. -С. 37 -38.

212. Иванов, А.Н. Некоторые эффекты плазмообработанных льняных тканей / А.Н. Иванов, СВ. Мальцева, А.И. Максимов // Текстильная химия. - 1993. -№1(3).-С76.

213. Квач, Н.М. Плазмохимическая обработка льняных тканей / Н.М. Квач, Т.В. Тюркина, Ф. Садова и др. // Текстильная промышленность. - 1995. - № 1-2. -СЗЗ.

214. Панкратова, Е.В. Воздействие тлеющего разряда на отбеленную и суровую льняную ткань / Е.В. Панкратова, Ф. Садова, А.Б. Гильман //Текстильнаяпромышленность. -1996. -№ 5. - С 32 -34.

215. Бычков, В.Л. Электронно-пучковая плазма: генерация, свойства, примене- ние./ В.Л. Бычков, М.Н. Васильев, А.С Коротеев -М.: Изд -во МГОУ, 1993. -167 с.

216. Бердичевский, М.Г. Нанесение покрытий, травление и модифицирование полимеров с использованием низкоэнтальпийной неравновесной плазмы./М.Г. Бердичевский, В.В. Марусин -Новосибирск :Институт теплофизики СОРАН, 1993.-109 с.

217. Данилин, Б.С. Применение для травления и очистки материалов/ Данилин Б.С, Киреев В. Ю..- Данилин Б.С, Киреев В. Ю. М.: Наука, 1987. -592 с.311

218. Дашкевич, И.П. Высокочастотные разряды в электротермии, -Л,: Машино- строение, 1980. -56 с.

219. Абдрашитов, Э.Ф. Фундаментальные науки - народному хозяйству,/ Абд- рашитов Э.Ф,, Тихомиров Л,А,, Пономарев А,Н, - М,: Наука, 1990, -120 с,

220. Кузнецов, ЮЛ. Синтетические полимеры медицинского назначения/ Ю,П, Кузнецов, А,К, Петров, В,А, Багрянский,: Тез. докл, 8 -го Всесоюзн, на-учн, симп, но плазмохимии, - Киев, 1989. -С, 103 -104,

221. Арбатский, А.Е. Получение, исследование и иснользование нлазмы в СВЧ- полях/ А,Е. Арбатский, А,К. Вакар, А.В. Голубев, Е.Г. Крашенинников: Тез.докл, 3 -й сессии науч,-техн, совещания по плазмохимии, -Иркутск, 1989, -С,113-119.

222. Шалкаускак, М.И. Химическая металлизация пластмасс/ М.И. Шалкаускак, А. Вашкялис, -Л,: Химия, 1985, -144 с.

223. Рэнби, Б. Фотоокисление, фотостабилизация, фотодеструкция полимеров/ Б, Рэнби, Я, Рабек, -М.: Мир, 1978. -65 с.

224. Багиров, М.А. Влияние ионизирующего излучения на диэлектрические ма- териалы, включая нолимеры. -Душанбе : Дониш, 1979, -234 с,

225. Collart, E.J.H. On the role of atomic oxygen in the etching of organic polymers in a radio - frequency oxygen discharge,/ E,J,H. Collart, J.A.G. Baggerman, R,J, Vis-ser//Journal application physics, -1995. - V. 78 (1). -P. 47 -54.

226. Zeuner, M. Reaction kinetics of plasma etching of polimethylmetarylate (PMMA):/ M. Zeuner, J, Meichsner, H. Poll. Twelfth European Sectional Conferenceon the Atomic and Molecular Physics of Ionized Gases, - Noordwijkerhout, 1994, -P,400-401.

227. Rossnagel, S.M. Handbook of plasma processing technology: fundamentals, etch- ing, deposition, and surface interactions. S.M. Rossnagel, J.J. Cuomo, W.D. West-wood. - Park Ridge: Noyes NJ, 1990. -523 p.

228. Cuomo, J.J. Handbook of ion beam processing technology: fundamentals, prin- ciples, deposition, film modification and synthesis/ J.J, Cuomo, S.M. Rossnagel, H.R.Kaufman. - Park Ridge: Noyes N1, 1989. -362 p.

229. Eberius, M. Electric propulsion engines and their technical applications: Con- tributed Papers of 2 nd German - Russian Conference: Moscow, 1993. - P.200 -203.

230. Connen, E. Plasma surface modification of polymer powders with application to thermal energy storage. In - Houng Loh./ E.Connen, R.F. Baddour // Journal of ap-plied polymer science. -1986. -V. 31. -P.901-910.

231. Sun, M. W. Immobilized protein on polypropylene non - woven fabric initiated by microwave plasma/ M.W.Sun, J.D. Liao, M.C. Wang.: Contributed Papers of 14'h In-ternational Symposium on Plasma Chemistry.-Prague,1999.-V.4. -P. 1779-1784.

232. Muller, M. Plasma surface modification of polyvinylidene microfiltration mem- branes with primary amine groups/ M. Muller, С Oehr.: Contributed Papers of H**^International Symposium on Plasma Chemistry. -Prague, 1999.-V.4.-P.1791 -1796.

233. Muller, W.T. A strategy for the chemical synthesis of nanostructures. -Stuttgart: Science 268, 1995.-300 р.

234. Горберг, Б.Л. Модификация текстильных материалов в низкотемператур- ной плазме тлеющего разряда: Дис. канд. техн. наук. - Иваново, 1985. - 220 с.

235. Strobel, М. Surface modification of polypropylen with CF, CF H, CF Cl, CF Br./ M. Strobel, S. Com, C.S. Lions // Journal Polymer Science: Polymer Chemistry Eddi-tion -1985. -V. 23. -№ 4. -P. 1125 -1137.

236. Dorn, L Hochfeste PE - Klebverbindungen durch Vorbehandeln Niederdruckplasma. L. Dorn, J. Gartner, M. Rache. // Kunsrstoffe. -1986. -V. 76. - p.249 -253.

237. Bogoeva -Gaseva, G. Polyester and polyamide fiber modification by plasma ac- tivation./ G. Bogoeva -Gaseva, D. Losinski, G. Petrov //Polymer. -1986. -V. 7. -№ 4 -5.-P. 103-104.314

238. Osada, Y. Plasma initiated graft polymerization of water - soluble vinil mono- mers onto hydrophobic films and its application to metal ion adsorbing films.Y. Osada, Y. Ieiyama//Thin Solid Films. -1984. -V.I 18 -122. -P. 197 -202.

239. Садова, О некоторых свойствах шерсти, обработанной в условиях низко- температурной плазмы / Садова, Л. Лапчик, О. Пайгрт // Изв. вузов. Техно-логия текстильной промышленности. -1983. -JSfQ 5. -С. 53 -56.

240. Садова, Действие низкотемпературной плазмы на поверхность шерсти / Садова, Л. Лапчик, О. Пайфт, К. Калаускова // Изв. вузов. Технология тек-стильной промышленности. -198О.-№6. -С. 64 -68.

241. Линии, Ю.В. Иодготовка поверхности полимерных пленок вакуумной ме- таллизацией: Обзор / Ю.В. Липин, Л. Меерсон, Л.С. Мякишева и др.- Рига:Лат.НИИНТИ, 1990.-40С.

242. Анищенко, Л.М. Эффективность обработки поверхности полиимидной пленки в различных зонах тлеющего разряда / Л.М. Анищенко, С Б . Кузнецов,Лавренюк Ю.// Физика и химия обработки материалов. -1985. -№ 6. -С. 124.

243. Wrobel, А. Effect of plasma treatment on structure and properties of polyester fabric / A. Wrobel, M. Krisrewsky, W. Kakowsky. // Polymer. -1978. -V.30.-№ 3.-P.25-28.

244. Strobel, М. Plasma reactions of hexafiuoreceton / M. Strobel, C. Lions, P. Tho- mas, M. Morgen, S, Com, G. Korba // Journal Applied Science: Applied PolymerSymp. -1988. -V.42.-№ 1.-P.73 -96.

245. Kagoma, M. Wettability control of a plastic surface by CF -0 plasma and its etching effects / M. Kagoma, H. Kasal, K. Takahashi, T. Moriwaki, S. Okazaki //Journal Physics D.: Applied Physics - 1987. -V.20. -№ 1. -P. 147 -149.

246. Максимов, А.И. Возможности и проблемы плазменной обработки тканей и полимерных материалов / А.И.Максимов, Б.Л. Горберг, В.А. Титов // Кожевен-но-обувная промышленность. -1991. -№ 4. -С. 101 -117.

247. Поверхностная обработка пластмасс / Под ред. А.Н. Лельчука. -М.: Химия, 1972.-55 с.

248. Багиров, М.А. Воздействие электрических разрядов на полимерные диэлек- трики/ М.А. Багиров, В.П. Малин, А. Абасов. -Баку: Элм, 1975. -60 с.

249. Багиров, М.Ф. Матирование поверхности полимерной пленки воздействием электрических разрядов/ М.Ф. Багиров, Е.Я. Волченков, В.П. Малин,А.А. Алиев: Тез. докл. третьего Всесоюзн. симп. по плазмохимии. -Москва,1979.-С. 250-251.

250. Малунов, В.В. Повышение стойкости к старению ПВХ-пластикатов обра- боткой их в плазме тлеющего разряда/ В.В. Малунов, А.А. Силин, Б.М. Кри-вицкий.: Тез. докл. четвертого Всесоюзн. симп. по плазмохимии. -Днепропертровск, 1984. -С. 118 -119.

251. Kogelschatz, U. Dielectric - Barrier Discharge, Principle and Applications U. Kogelschatz, B. Eliasson, W. Egli.: Contributed Papers of 23 rd International Con-ference on Phenomena in Ionized Gases. -Toulouse, 1997. - P.47 -66.316

252. Tamida, Т. Characteristics and modeling of discharge in ac plasma display pan- els/ T. Tamida, A. Iwata, M. Tanaka,: Contributed Papers of International Conferenceof Gas Discharge and their Applications. -Greifswald, 1997. -P. 551 -554.

253. Eliasson, D. The silent discharge: numerical simulation of microdischarge forma- tion./ D. Eliasson, W. Egli.: Contributed Papers of 8 th International Conference onPhenomena in Ionized Gases. -Belgrade, 1989. -P. 1024 -1025.

254. Kogelschatz, U. Ozone synthesis on gas discharge: Contributed Papers of 2''' In- ternational Conference on Phenomena in Ionized Gases. - Dusserldorf, 1983. -P.240 -250.

255. Kogelschatz, U. Excitation of excimer radiation in silent discharges: Contributed Papers of \T^ International Conference on Phenomena in Ionized Gases. - Barga,1991.-P. 218-227.

256. Urakabe, T. A flat fluorescent lamp with dielectric barrier discharge/ T. Urakabe, S. Harada, T. Saikatsu, M. Karino.: Contributed Paper of International Conference onScience and Technology of Light Sources. - Kyoto, 1995. - P. 159 -160.

257. Tanaka, M. High frequency silent discharge and its application to cw CO2 laser applications/ M.Tanaka, S. Yagi, N. Tabata.: Contributed Papers of InternationalConference on Gas Discharge and their Applications. - Oxford, 1985. -P. 551 -554.

258. Rosocha, L Processing of hazardous chemicals using silent - discharge plasmas in Plasma Science and the Enviroment./ L. Rosocha, W. Manheimer, L. Sugiyama, T.Stix. - New York: Woodbury, 1997. - 300р.

259. Linsley Hood, J. L The corona treatment of plastic films: Contributed Papers of International Conference on Gas Discharges and Their Applications. -Edinburg,1980.-P. 86-90.

260. Donohoe, K. G. Plasma polymerisation of ethylen in an atmospheric pressure dis- charge/ K.G. Donohoe, T. Wydeven.: Contributed Papers of 4 th International Sym-posium on Plasma Chemistry. -Zurich, 1979. -P. 765 -771.

261. Zhang, J.Y. Modification of polymers with UV eximer radiation from lasers and lamps in Polymer Surfaces Modification/ J.Y. Zhang, H. Esrom, G. Emig,U. Kogelschatz.: Relevance to Adhesion. -Utrecht: VSP International Science Pub-lishers, 1996.-200 p.

262. Багиров, М.А. Исследование травления новерхности нолимеров активиро- ванным кислородом./ М.А. Багиров, В.А. Осколонов, Е.Я. Волченков,В.П. Малин, Р.Х, Абрамов.: Тез. докл. 3 Всесоюзн. симн. по плазмохимии. -М.,1997.-С. 252-255.

263. Крицка,я Д.А. Плазмоинициированная газофазная постполимеризация Д.А. Крицкая, А.Н. Пономарев, А.Д. Помогайло, Ф.С. Дьячковский.: Тез. докл.

264. Всесоюзн. симп. по плазмохимии. -М., 1975. - 308 -310.

265. Использование тлеющего разряда для модификации поверхности пористого полимерного сорбента в кипящем слое: Тез. докл. 3 Всесоюзн. симп. по плаз-мохимии.-М., 1975. -С.285-286.

266. Малунов, Б.В. Снижение трения в парах резина-сталь обработкой уплотне- ний в плазме тлеющего разряда./ Б.В. Малунов, Е.А. Духовской, В.М. Скок.:Тез. докл. 4 Всесоюзн. симп. по плазмохимии.-Дненропетровск, 1984.-C.120-121.

267. Hudis, M. Techniques and Applications of Plasma Chemistry./ M. Hudis, J.R. Hollahan, A.T. Bell. -New York: Wiley, 1974. -240 p.319

268. Chang, CM. Polymer Surface Modification and Characterization. -Hanser: Gardner Publications,1994. -300 p.

269. Briggs, D. Practical Surface Analisis./ D. Briggs, M.P. Seach. -New York :John Willey & Sons. -1990. -V, 1. -560 p.

270. Аброян, И.Л. Физические основы электронной и ионной технологии: Учеб. пособие для спец. электрон, техн. вузов./ И.Л. Аброян, А.Н. Андропов, А.И. Ти-тов. - М.: Высш. шк., 1984. - 320 с.

271. Войценя, B.C. Воздействие низкотемпературной плазмы электромагнитного излучения на материалы./ B.C. Войценя, К. Гужова, В.И. Титов. - М.: Энерго-атомиздат, 1991.- 224 с.

272. Ионная имплантация / Под ред. Дж.К.Хирвонена. - М.: Металлургия, 1985. -392 с.

273. Цветков, Ю.В. Низкотемпературная плазма в процессах восстановления. / Ю.В. Цветков, А. Панфилов- М.: Наука, 1980. - 360 с.

274. Абдуллии, И.Ш. Высокочастотная плазменно-струйная обработка материа- лов при пониженных давлениях. Теория и практика применения / И.Ш. Абдул-320ЛИН, B.C. Желтухин, Н.Ф. Кашапов. - Казань: Изд-во Казанского ун-та. 2000.348 с.

275. Абдуллин, И.Ш. Особенности процессов взаимодействия ВЧ разряда с ВМС в динамическом вакууме Абдуллин И.Ш., Шаехов М.Ф. / Научная сессияКГТУ. - Казань: - 4-7 февраля. - 2003. - 133.

276. Абдуллин, И.Ш. Особенности процессов взаимодействия высокочастотного разряда с пористо-волокнистыми материалами/ И.Ш. Абдуллин, М.Ф. Шаехов /Научная сессия КГТУ. - 2004. - 305.

277. Шаехов, М.Ф. Диагностика высокочастотного разряда пониженного давле- ния в процессах обработки пористых тел / Вестник Казанского технологическо-го университета. - Казань.: «Отечество». - 2003. - 154 - 158.

278. Абдуллин, И.Ш. Поверхностные явления при взаимодействии неравновес- ной низкотемпературной плазмы с поверхностями твердых тел/ И.Ш. Абдул-лин, B.C. Желтухин, М.Ф. Шаехов / Научная сессия КГТУ. - Казань: - 4-7 фев-раля. - 2003 . - 24.

279. Абдуллин, И.Ш. Изменение характеристик высокочастотного разряда в за- висимости от давления в вакуумной камере / И.Ш. Абдуллин, М.Ф. Шаехов /Научная сессия КГТУ, 2005 г. с. 284

280. Абдуллин, И.Ш. Модификация материалов на основе ВМС с помощью неравновесной низкотемпературной плазмы./ И.Ш. Абдуллин, Л.Р.Джанбекова, М.Ф. Шаехов Научная сессия КГТУ. - Казань. -1999. - 210.

281. Абдуллин, И.Ш. Современные методы обработки кожи и меха. Абдул- лин И.Ш., Шаехов М.Ф. /: Методические указания к лабораторному практику-му. - Казань. - изд. КГТУ. - 2002. - 26 с. - 100 экз.

282. Абдуллин, И.Ш. Высокочастотный разряд пониженного давления в процес- сах обработки кожевенного материала/ И.Ш. Абдуллин, М.Ф. Шаехов / XXXЗвенигородская конференция по физике плазмы и УТС. - Звенигород. - М.: -24-28 февраля 2003. - 180.

283. Абдуллин, И.Ш. Толщина слоя пространственного заряда в высокочастот- ном индукционном разряде пониженного давления. Абдуллин И.Ш., Шае-хов М.Ф. /Научная сессия КГТУ. - Казань. -2000. - 200.

284. Абдуллин, И.Ш. Высокочастотный разряд пониженного давления в процес- сах обработки пористых тел/ И.Ш. Абдуллин, М.Ф. Шаехов /Вестник Казанско-го технологического университета.- Казань.- "Отечество".- 2002.- №1-2.-С.75-78.

285. Красина, И.В. Исследование процесса управления пористостью с помощью неравновесной низкотемпературной плазмой/ И.В. Красина, М.Ф. Шаехов /Вестник Казанского технологического университета.- Казань.- "Отечество".-2002.-MJ1-2.-с. 110-114.

286. Абдуллин, И.Ш. Активация сорбентов на основе рисовой лузги и шелухи гречихи высокочастотным разрядом пониженного давления/ И.Ш. Абдуллин,В.В. Кудинов, М.Ф. Шаехов / Материаловедение JV23. - 2005. - 51.

287. Абдуллин, И.Ш. Высокочастотный разряд пониженного давления в процес- сах обработки натуральной кожи Абдуллин И.Ш., Кудинов В.В., Шаехов М.Ф. /Материаловедение. - 2004. - >f26(87). - 52-56.

288. Abdullin, I. Using а radio-frequency plasma in leather-footwear production./ I.Abdullin, M. Bulatova, M. Shaekhov /Тез. докл. Ill International Conference"Plasma physics and plasma technology", Minsk, Belarus, September 18-22, 2000, -c.680-682.

289. Абдуллин, И.Ш. Модификация натуральной кожи высокочастотным разря- дом пониженного давления/ И.Ш. Абдуллин, И.В. Красина, В.П. Тихонова,М.Ф. Шаехов / 3 Всероссийская конференция ФЭ-2003 . - Махачкала: - (23-26)сентября. - 2003. - 80-83.

290. Абдуллин И.Ш. Применение плазменной модификации в технологии произ- водства обуви./ И.Ш. Абдуллин, М.И. Булатова, Л.Ю. Махоткина, М.Ф. Шаехов/Кожевенно обувная промышленность.- 2001.- }к6.- 35 -36.

291. Абдуллин, И.Ш. Влияние высокочастотного емкостного разряда понижен- ного давления на свойства текстильных материалов/ И.Ш. Абдуллин,И.В. Красина, Ф.С. Шарифуллин, М.Ф. Шаехов / Прикладная физика. - 2004. -№ 6 . - С . 59-63.

292. Шаехое, М.Ф. Обработка натуральных волокнисто-пористых материалов высокочастотным разрядом пониженного давления /Инновации в машино-строении - 2001: Сборник статей Всероссийской научно-практической конфе-ренции.- Пенза.- Ч. 1.- 2001.- 84-85.

293. Абдуллин, И.Ш. Обработка натуральных пористо-волокнистых материалов высокочастотным разрядом пониженного давления Абдуллин И.Ш., Уразмано-ва Е.М., Шаехов М.Ф. / XI конференция по физике газового разряда. - Рязань. -2002.-С. 9-10.

294. Лебедев, Ю.А. Введение в зондовую диагностику плазмы пониженного давления: Учебное пособие. М.: МИФИ, 2003. - 56 с. (Серия «Учебная книга подиагностике плазмы»)

295. Смирнов, В.М. Атомные и молекулярные столкновения в плазме. — М.: Атомиздат, 1968, 364 с.

296. Голант, В.Е. Сверхвысокочастотные методы исследования плазмы.- М.: Наука, 1968.-327 с.

297. Дзюба, В.Л. Электродуговые и высокочастотные плазмотроны в химико- технологических процессах./ Дзюба В.Л., Даутов Г.Ю., Абдуллин И.Ш. - Киев:Вища школа, 1991.-170 с.

298. Сорокин, Л.М. Расчет электромагнитных полей в индукцион}юм разряде / Сорокин Л.М., Шевченко В.З. II Физ. и хим. обработки материлов.- 1975.-Я» 6.-С. 145-147.

299. Гуляев, М.А. Измерение вакуума (измерение малых абсолютных давлений)./ М.А. Гуляев, А.В. Ерюхин М. -Издательство стандартов, 1967.- 148 с.

300. Диагностика плазмы. Вып.5 / Под ред. М.И, Пергамента.- М.: Энергоиздат, 1986.-303 с.

301. Лафрамбауз, Дж. Теория цилиндрического и сферического зонда в бесстолкновительной и неподвижной плазме / БНТИ ЦАГИ. Рефераты.- №268.- 1968.

302. Заварин, Ф.Г. СВЧ-интерферометр с пространственным разрешением О, IX, // Диагностика низкотемпературной плазмы. / Ф.Г. Заварин, В.В. Рождествен-ский , Г.К. Тумакаев. Под ред. Е.М. Шелкова.-М.: Паука, 1979.- 154 - 158.326

303. A.C. 1149122 (СССР) Голограммный анализатор / Л.Т. Мустафина, А.А. Белобородов, А.Ф. Белозеров.-Заявл. 26.10.81, онубл. 8.12.84.

304. Райзер, Ю.П. Высокочастотный емкостный разряд: Физика. Техника эксперимента. Приложения:/ Ю.П. Райзер, М.Н. Шнейдер, Н.А. Яценко. - М.:Изд-во Моск. физ.-техн. ин-та.; Паука. Физматлит. 1995.- 320 с.

305. Ковалев, А.С. Высокочастотный несамостоятельный разряд в газах / А.С. Ковалев, А.Т. Рахимов, В.А. Феоктистов. // Физика плазмы. - 1981. - т. 7.вып. 6.-С. 1411 -1418.

306. Смирнов, А.С. Приэлектродные слои в емкостном ВЧ разряде // Журн. техн. физ. -1984. - Т. 54, вып. 1. - 61 - 65.

307. Райзер, Ю.П. Структура приэлектродных слоев высокочастотного разряда и переход между двумя его формами / Ю.П.Райзер, М.П. Шнейдер. // Физикаплазмы. - 1987. - т. 13, вып. 4. с. 471 - 4/79.

308. Райзер, Ю.П. Высокочастотный разряд среднего давления между изолиро- ванными и оголенными электродами / Ю.П. Райзер, М.Н. Шнейдер. // Физикаплазмы. -1988. - Т. 14, вып. 2. - 226 - 232.

309. Турин, А.А. Ускорение ионов в приэлектродном слое и энергобаланс ВЧ разряда в магнитном поле // Тез. докл. Ill Всесоюз. конф. по физике газовогоразряда. - Киев, 1986. - 92 - 94.

310. Graves, D.B. Fluid models simulations of a 13.56 MHz RF-discharge: Time and space dependence of rate of electron excitation // J. Appl. Phys. 1987. - V. 62. - M. -P. 88 - 94.

311. Belenguer, Ph. Modelization des decharges radiofrequence./ Ph. Belenguer, J.P. Bouef. // Rom. Rep. Phys. -1992. - Vol. 44. - No. 9-10. - P. 807-847.327

312. Митчнер, М. Частично ионизированные газы/ М. Митчнер, Ч. Крюгер. — М.:Мир, 1976.-496 с , ил.

313. Brown, S.C. Limited for the diffusion theorie of a high frequency gas discharge breakdown / S.C. Brown, A.D. Donald // Phys.Rev. 1949. -v. 76. - №11.- P. 16291633

314. Райзер, Ю.П. Физика газового разряда / Ю.П. Райзер : Учеб. Руководство. // М.: Наука. - 1987. - 592 с , ил.

315. Wrobel, А. Effect of Plasma Treatment on Structure and Properties of Polimer Fabric/ A. Wrobel, M. Kryszewski, W.Rakowski. // Polimer. - 1988. - v. 19, №8. -p. 2205-2214.

316. Груздьев, B.A. Приближенное решение задачи о стационарном индуциро- ванном высокочастотном разряде в замкнутом объеме / В.А. Груздьев, Р.Е. Ро-винский, А.П. Соболев // Журнал прикладной механики и технической физики-1968. — № 3 . — С . 197-199.

317. Абдуллин, И.Ш. Применение низкотемпературной плазмы в технологии из- готовления обувного картона/ И.Ш. Абдуллин, Л.Н. Абуталипова, Р.Г. Ибраги-мов, М.Ф. Шаехов / Кожевенно-обувная пром-ть,№ 3. - 2004. - 38-39.

318. Азанова, А.А. Влияние плазменной обработки на бактериальность кожевен- но-мехового сырья/ А.А. Азанова, М.Ф. Шаехов / Международная студенческаяконференция "Фундаментальные науки специалисту нового века" 24-26 апре-ля.-Иваново.-2002.-с. 176-177.

319. Абдуллин, И.Ш. Обработка высокочастотным емкостным разрядом сорбен- та из гречневой шелухи/ И.Ш. Абдуллин, И.Г. Гафаров, И.Х. Исрафилов,М.Ф. Шаехов / Научная сессия КГТУ. - 2002. - 225.

320. Абдуллин, И.Ш. Применение потока плазмы ВЧЕ разряда в производстве кожи и меха/ И.Ш. Абдуллин, А.А. Азанова, И.Х. Исрафилов, М.Ф. Шаехов /

321. Abdullin, I.Sh. Low pressure RF Plasma affect on sheepson/ LSh. Abdullin, A.A. Azanova, M. F. Shaekhov / IV International Conference "Plasma Physics and PlasmaTechnology". - Minsk. - Belarus. - September 15-19. - 2003. - P. 772 - 774.

322. Абдуллин, И.Ш. Упрочнение твердых сплавов высокочастотным емкостным разрядом пониженного давления/ И.Ш. Абдуллин, Р.Ф. Рахимов, О.Д. Юсупов,М.Ф. Шаехов / Сб. «Актуальные проблемы высшей школы: теория и практика»- Казань: - КГТУ. - 2004. - 54-58.

323. Абдуллин, И.Ш. Активация высокодисперсного силикагеля в высокочастот- ном разряде пониженного давления/ И.Ш. Абдуллин, М.Ф. Шаехов /XXXI Звенигородская конференция по физике плазмы и УТС. - Звенигород. -М.: - 16 - 20 февраль. - 2004. - 200.

324. Абдуллин, И.Ш. Влияние низкотемпературной плазмы на процессы алюмо- синтанового дубления кожи для низа обуви/ И.Ш. Абдуллин, В.П. Тихонова,Р.З. Валиев, М.Ф. Шаехов / Иаучная сессия КГТУ.- 2002.- 225.

326. Абдуллин, И.Ш. Исследование защитных свойств олигомерных составляю- щих целлюлозосодержащих композиционных материалов/ И,Ш, Абдуллин, Л,Р,Джанбекова, П,П, Суханов, М,Ф, Шаехов // препринт, - КГТУ, -Казань, - 2003,-23с,-100экз,

327. Абдуллин, И.Ш. Плазменная модификация целлюлозосодержащих материа- лов/ И,Ш, Абдуллин, Л,Р, Джанбекова, М,Ф, Шаехов / Научная сессия КГТУ, -Казань: - 4-7 февраля, - 2003 , - С , 255,

328. Абдуллин, И.Ш. Плазменная обработка как способ снижения степени бакте- риальной зараженности кожевенно-мехового сырья/ И,Ш, Абдуллин,А.А, Азанова, М,Ф, Шаехов / Научная сессия КГТУ, - Казань: - 4-7 февраля, -2003 , - С, 257

329. Красина, ИВ. Влияние ВЧ плазмы на физические и химические свойства кератина /И,В,Красина, Ф,С, Шарифуллин , М,Ф, Шаехов / Вестник ДИТУД, -Дмитровград: - Изд, Дмитровградского института технологии, управления идизайна, - 2004,-^22 (20), - С, 13-18,

330. Абдуллин, И.Ш. Применение плазменной модификации в технологии про- изводства обувного картона/ И.Ш. Абдуллин, Р.Г. Ибрагимов, М.Ф. Шаехов/XXXI Звенигородская конференция по физике плазмы и УТС. Звенигород, 16 -20 февраль 2004 г 251

331. Кайдриков, Р.А. ВЧ плазменная активация катализатора (носителя) полиме- ризации этилена/ Р.А. Кайдриков, И.Ш. Абдуллин, В.И. Гаврилов,Ф.Р. Гариева, А.И. Зильберг, М.Ф. Шаехов / Научная сессия КГТУ. - Казань: -2004.-С. 32.

332. Абдуллин, И.Ш. Обработка древесины в высокочастотном разряде при по- ниженном давлении/ И.Ш. Абдуллин, Л.И. Аминов Г.Г.Лутфуллина,М.Ф.Шаехов / Научная сессия КГТУ. - 2004. - ЗЗО.

333. Абдуллин, И.Ш. Обработка поверхности твердых тел с помощью неравно- весной низкотемпературной плазмы/ И.Ш. Абдуллин, B.C. Желтухин,М.Ф. Шаехов / Научная сессия КГТУ. - 2004. - 305.

334. Абдуллин, И.Ш. Экспериментальные исследования влияния обработки по- током плазмы ВЧЕ разряда пониженного давления на физико-механическиехарактеристики обувного картона/ И.Ш. Абдуллин, Р. Г. Ибрагимов,М.Ф. Шаехов / Научная сессия КГТУ. - 2004. - 312.

335. Кайдриков, Р.А. ВЧ плазменная активация дисперсного SiO2 в технологии получения хромсодержащих катализаторов /Р.А. Кайдриков, И.Ш. Абдуллин,В.И. Гаврилов, М.Ф. Шаехов, Ф.Р. Гариева, А.И. Зильберг, Э.М. Мустафина /Паучная сессия КГТУ, 2005 г. с. 26

336. Петров, В.А. Свойства хлопковой целлюлозы, модифицированной плазмой пониженного давления и нитраты целлюлозы на её основе /В.А.. Петров, А.В.Косточко, И.Ш. Абдуллин, М.Ф. Шаехов, М.Р. Габидуллин / Научная сессияКГТУ, 2005 г. с. 207335

337. Бурдикова, Т.В. Влияние обработки порошкового железа плазмой низкого давления на их коррозионную стойкость в агрессивных средах/ Т.В. Бурдикова,И.Ш. Абдуллин, М.Ф. Шаехов, О.В. Евсюкова / Научная сессия КГТУ, 2005 г.с. 224

338. Бурдикова, Т.В. Повышение коррозионной стойкости спеченных материа- лов на основе порошкового железа /Т.В. Бурдикова, И.Ш. Абдуллин, М.Ф.Шаехов, О.В. Евсюкова / Научная сессия КГТУ, 2005 г. с. 225

339. Бурдикова, Т.В. Повышение стойкости к окислению спеченных материалов на основе порошков железа/ Т.В. Бурдикова, И.Ш. Абдуллин, М.Ф. Шаехов,О.В. Евсюкова / Научная сессия КГТУ, 2005 г. с. 225

340. Бурдикова, Т.В. Влияние высокочастотной плазменной обработки порош- ков циркония на характеристики пиротехничеких источников тока /Т.В. Бурди-кова, М.Ф. Шаехов, О.В. Евсюкова, В.В. Просянюк, И.С. Суворов / Научнаясессия КГТУ, 2005 г. с. 226

341. Абдуллин, И.Ш. Обработка велюра разрядом пониженного давления для увеличения гидрофобности/ И.Ш. Абдуллин, М.Н. Сагдеев, М.Ф. Шаехов / На-учная сессия КГТУ, 2005 г. с. 269

342. Бурдикова, Т.В. Влияние плазменной обработки порошков железа и титана на ихактивность в кислых средах/ Т.В. Бурдикова, И.Ш. Абдуллин, О.В. Евсю-кова, М.Ф. Шаехов, А.Р. Халикова / Научная сессия КГТУ, 2006 г. с. 234

343. Бурдикова, Т.В. Влияние плазменной обработки порошков железа и титана на их активность в щелочной среде/ Т.В. Бурдикова, И.Ш. Абдуллин, О.В. Ев-сюкова, М.Ф. Шаехов, Э.Х. Арсланова / Научная сессия КГТУ, 2006. с. 235

344. Сорокин, В.Г. Марочник сталей и сплавов /В.Г. Сорокин, А.В. Волосникова, А. Вяткин и др.; Нод общ. ред. В.Г.Сорокина. - М.: Машиностроение, 1989. -640 с.

345. Каталог спектров фирмы «Неркин-Эльмер» «Ап infrared spectroscopy atlas for the coating industry»,CTp. 513, спектр № 800.

346. Abdullin, I.Sth. Sorbents from agricultural waste for oil-ptodnets removal from hydrosphere/ I.Sth. Abdullin, I.G. Gafarov., I.H. Isravilov. - Dubai.: Gold MedalWorld Exhibition «East-west euro intellect», 1999 г., 5 p.

347. Кудинов, В.В. Плазменные покрытия. М.: Наука, 1977, с. 154.

348. Браутман, Л. Композиционные материалы. Том 6. Поверхности раздела в полимерных композитах./ Л. Браутман, Р. Крок. Под ред. Э. Плюдемана. М.:Мир, 1978, с.54-55.337

349. Митченко, Ю.И. Физико-химические основы действия низкотемиератур- ной плазмы на синтетические волокна/ Ю.И. Митченко, В.А. Фенин,С.А. Кукушкина // Материалы междунар. симпозиума по хим. волокнам. - Ка-линин, 1986. - Т.6. - 71 - 76.

350. Grzegofz, Р.Т. Eiflub von Neidertemperatur Plasma auf Fin Sturtur und Anfar- blarkeit von Polyesterfasem/ P.T. Grzegofz, G.W. Uibsnczyk, B.H. Lipp-Symonwicz// Melliand. Texstilber. - 1983. - V.64, № 11. - S. 838 - 840.

351. Авгонов, A.A. Влияние низкотемпературной плазмы на качество хлопкового волокна/ А.А. Авгонов, A.M. Кузнецова, А.П. Захарчук // Тез. докл. XI Всесоюз.науч. конф. по текстильному материаловедению. - Киев, 1988. - Т. 1. - 16-17.

352. Wakida, Т. Changes in Bull Property of Polyethelene - rephtalate Treated with 1.ow Temperature Plasma/ T. Wakida, I. Hau, T. Goto // Chem. Express. - 1986. -V.I, №.2.-P. 133-136.

353. Виноградов, Г.К. 0 методах диагностики плазмы пониженного давления./ Г.К. Виноградов, Ю.А. Иванов, Ю.А. Лебедев. - 3 кн.: Плазмохимические реак-ции и процессы. М., 1977, с. 108-134.

354. Павлов, А.З. Структурные превращения в d -переходных металлах при ион- ной бомбардировке, Автореф. дис. канд.физ.-мат. наук, - Горький, 1975, - 22 с.

355. Васильев, Д.М. Методика рентгенографического измерения напряженно- стей. - Заводская лабор., 1967, T.XXXI, № 8, с. 972-978,

356. Инструкция по определению качества сырья меховой овчины мокросолено- го метода консервирования. - М.: ЦНИИМП, 1974. - 16с.

357. Бабакина, В.Г. Микробиология кожевенного сырья./ В.Г. Бабакина, К.С. Кутукова, Ш.Д. Машковский- М.: Гизлегпром, 1936. - 318с.

358. Каспарьянц, А. Кожевенное сырье./ А. Каспарьянц, К.Д. Хлудеев. - М.: Легкая и пищевая промышленность, 1983. - 126с.

359. Михайлов, А.Н. Коллаген кожного покрова и основы его переработки. - М.: Легкая индустрия, 1971. -525с.338

360. Расиыление твердых тел ионной бомбардировкой. Ч. 1 .Физическое распы- ление одноэлементных твердых тел. - М.: Мир, 1984. - 336 с , ил.

361. Данилин, Б.С. Применение низкотемпературной плазмы для нанесения тон- ких пленок. - М.: Энергоатомиздат, 1989. - 328 с.

362. Щур, A.M. Высокомолекулярные соединения: Учебник для университетов. -М.: Высшая школа, 1981. -656с.

363. Барамбойм, Н.К. Механохимия высокомолекулярных материалов. - М. - Химия.-1978.-384 с.

364. Смирнов, Б.М. Возбужденные атомы. - М.: Энергоиздат, 1982. - 232 с.

365. Белеуш, Дэк:. Радиационные процессы в плазме. - М.: Мир, 1971. 438с.

366. Слухоцкий, А.Е. Установки индукционного нагрева: Учеб. пособие для ву- зов / А.Е. Слухоцкий, B.C. Немков, Н.А. Павлов Под ред. А.Е.Слухоцкого. - Л.:Энергоиздат. Ленингр. отд-ние, 1981. 328 с , ил.

367. Гиппиус, А.А. Диагностика низкотемпературной плазмы по спектрам ее собственного излучения в СВЧ и субмиллиметровом диапазонах./ А.А. Гиппи-ус, Л.С. Павлова, В.М. Поляков /- М.: Энергоиздат, 1981. - 135 с.

368. Абдуллин, И.Ш. Высокочастотная плазменно-струйная обработка материа- лов при пониженных давлениях. Теория и практика применения /АбдуллинИ.Ш., Желтухин B.C., Кашапов Н.Ф./ - Казань: Изд-во Казанского ун-та. 2000.348 с.

369. Смирнов, Б.М. Комплексные ионы. М.: Наука, 1983. 152 с.