Получение высокоориентированных высокоомных пленок оксида цинка и их некоторые свойства тема автореферата и диссертации по физике, 01.04.04 ВАК РФ

ВВЕДЕНИЕ.

ГЛАВА 1. Литературный обзор.

1.1 Общая характеристика оксида цинка.

1.2 Пьезоэлектрические свойства гпО.

1.3 Методы получения ориентированных пленок ZnO.

1.4 Зависимость структуры и свойств пленок 2п0, от условий получения.

1.5 Постановка задачи.

ГЛАВА II. Методика эксперимента.

2.1 Техника получения пленок ZnO магнетронным методом.

2.2 Подготовка подложек и изготовления мишеней ZnO.

2.3 Методика определения ориентации и совершенства, структуры пленок ZnO.

2.4 Измерение электрических параметров образцов.

ГЛАВА III. Получение пленок ZnO на аморфных и монокристаллических подложках.

3.1 Зависимость совершенства структуры пленок 2пО от положения подложки в магнетронной системе.

3.2 Влияние температуры подложки, скорости роста, давления в системе на совершенство структуры пленок ZnO.

3.3 Микроструктура пленок 2п0.

3.4 Механизм формирования высокоориентированной пленки 2п0 на аморфной поверхности.

3.5 Влияние условий легирования на структуру пленок

3.6 Возможность получения гетероэпитаксиальных пленок

ХпО методом ионного распыления.

3.7 Выводы.

ГЛАВА IV. Электрические и акустические свойства пленок ZnO.

4.1 Зависимость удельного сопротивления пленок ZnO от условий получения.

4.2 Акустические свойства пьезопреобразователей на основе пленок оксида цинка.

4.3 Выводы.

Актуальность темы. В современной электронной технике важное место занимают элементы и устройства, в которых оптические, акустические и полупроводниковые свойства сочетаются в единое целое, образуя модуль обработки сигналов сложной природы. Практическое использование этих устройств основано на использовании отдельных свойствах или некоторой их совокупности, присущих материалам функциональной электроники. К таким материалам без сомнения относится и оксид цинка, обладающий уникальным сочетанием электрических, оптических, пиро- и пьезоэлектрических, адсорбционных и других свойств. Благодаря им он перспективен в использовании в целях постановки фундаментальных исследований в области физики твердого тела, его поверхности, изготовления датчиков физических величин различного назначения и элементов современной электроники.

Данные и многие другие перспективы применения ZnO в виде кристаллов, ориентированных слоев и пленок стали стимулом постановки исследований по разработке методов получения его образцов. В этих целях предложены были методы: ионного распыления (диодная, триодная, магне-тронная), разложения металлосодержащих соединений, осуществления транспортных реакций, окисления содержащих цинк полупроводников в соответствующих средах и др.

Изучение свойств образцов, полученных всеми до сих пор известными методами, не способствовало существенному расширению областей и объемов применения 2п0. Кроме того, на этой основе нельзя дать ответ на вопрос: почему высокоориентированные пленки ZnO, обладающие достаточно большим удельным сопротивлением не обладают фоточувствительностью и они не могут быть применены для изготовления эффективных пье-зопреобразователей?

Ответ на данный и многие вопросы могут быть найдены, если кристаллизацию ZnO осуществить с учетом анизотропии его внутрикристал-лического поля. Систематическое исследование зависимости совершенства структуры, электрических и акустических свойств пленок ZnO, полученных при наличии активного воздействия на растущий слой, а также введении в их состав известной природы примеси, является актуальной научно-технической проблемой. Мерой воздействия на растущую поверхность в работе является потенциал, созданный и поддерживаемый потоком электронов на подложке.

Цель работы. Основной целью проведенной работы, являлась разработка и оптимизация технологии получения высокоориентированных вы-сокоомных пленок ZnO на аморфных и монокристаллических подложках методом магнетронного распыления, а также исследование их электрических и акустических свойств.

Данная цель достигнута решением следующих задач:

1. Предварительным изучением процессов роста ZnO на аморфных и монокристаллических подложках облучаемых электронами до постоянной плотности заряда, выбором основных параметров технологического процесса распыления керамики оксида цинка в кислороде.

2. Установлением влияния параметров осаждения на совершенство структуры, электрические свойства пленок и оптимизацией режимов осаждения высокоориентированных пленок ZnO.

3. Изучением процессов легирования пленок ZnO бериллием по ходу осаждения.

4. Изготовлением и исследованием электрических и оптических свойств структуры ZnO- ZnS-Al20з.

5. Установлением зависимости акустических параметров пленок ZnO от условий их осаждения.

Выбор материала и объекта исследований. В практике изучения объемных и поверхностных свойств, оксид цинка, принадлежащий группе со

2 6 единении типа А В , является наиболее сложным и интересным объектом исследований, а также перспективным для изготовления элементов опто- и акустоэлектроники. На его основе создаются пьезоэлектрические преобразователи, датчики и усилители акустических колебаний, составные резонаторы, акустооптические модуляторы, оптические пленочные волноводы, источники и приемники света и др. Для практических приложений важным является разработка воспроизводимой технологии получения пленок ZrЮ с заранее заданными свойствами. В связи с этим в качестве материала исследований был выбран оксид цинка, а объектом исследований - механизм формирования структуры и зависимость электрических, пьезоэлектрических, оптических свойств его пленок от условий получения.

Научная новизна работы заключается в том, что процесс получения и легирования пленок ZnO, осуществлен с учетом кристаллохимической особенности структуры самого соединения (степени анизотропности его внут-рикристаллического поля).

В ходе выполнения работы получены следующие результаты:

1. Определены оптимальные технологические условия роста высокоориентированных пленок ХпО на поверхности веществ аморфной и монокристаллической структуры.

2. Показано, что определяющее влияние на совершенство структуры пленок оказывает величина плавающего потенциала на подложке. Установлена необходимость увеличения или уменьшения величины его на подложке в зависимости от типа и концентрации легирующей примеси в растворах ХпО.

3. Электронографическими исследованиями установлено, что ориентация (0001)2п0 на аморфной поверхности является начальной и степень совершенства структуры пленки такой ориентации улучшается с увеличением ее толщины.

4. Изготовлены структуры 2п0-2п8-А1203 и изучены их фотоэлектрические свойства.

5. Исследована пьезоэлектрическая эффективность пленок ТпО, полученных в известных условиях осаждения.

Научная и практическая значимость работы. В результате выполнения исследований определены оптимальные режимы осаждения высокоориентированных высокоомных пленок ZnO на аморфных и монокристаллических подложках. Осуществлено легирование ZnO бериллием по ходу получения его пленок с целью увеличения их удельного сопротивления и уменьшения потерь на пьезопреобразование. Доказана перспективность их использования для изготовления пьезопреобразователей, работающих в гигагерцовой области частот.

Основные положения, выносимые на защиту.

1. Получены высокоориентированные высокоомные пленки ZnO на поверхности веществ аморфной и монокристаллической структуры со скоростью роста до 6 нм/с.

2. Ориентация (0001) ЪаО на аморфной поверхности является начальной. Степень совершенства пленки улучшается с увеличением её толщины и не зависит от скорости роста.

3. Степень совершенства пленки определяется величиной плавающего потенциала подложки. С увеличением концентрации бериллия в ХпО существует необходимость увеличения величины плавающего потенциала на подложке для сохранения высокой ориентированности пленки.

4. Легированные бериллием высокоориентированные пленки ZnO о обладают сопротивлением 10' Ом •см. Их отжиг на воздухе (Т>500°С) приводит к увеличению сопротивления до 106 Ом-см.

5. Структуры типа 2п0-2п8-А1203 и высокоориентированные высокоомные пленки могут быть использованы для изготовления устройств опто- и акустоэлектроники.

Апробация работы. Результаты работы докладывались и обсуждались на: Всероссийской конференции «Состояние и перспективы развития медицинского приборостроения» (Махачкала, ДГТУ, 1996г.); Всероссийской конференции «Вопросы проектирования и опыт разработки современных радиотехнических систем и приборов» (Махачкала, ДГТУ, 1996г.); Региональной конференции «Физика межфазных явлений и процессов взаимо

Основные результаты работы сводятся к следующему:

1. Определены оптимальные параметры процесса получения высокоориентированного роста пленок ZnO на аморфных и монокристаллических подложках методом ионного распыления.

2. Электронографическими исследованиями установлено, что ориентация (0001)2п0 на аморфной поверхности является начальной и степень совершенства структуры улучшается с увеличением толщины пленки.

3. Показано, что проблема получения высокоориентированных легированных пленок ZnO должна решаться с учетом кристаллохимической особенности его структуры. Установлено, что для получения высокоориентированных пленок ZnO, легированных бериллием, значение плавающего потенциала на подложке необходимо увеличивать с увеличением степени легирования пленки.

4. Легированные бериллием высокоориентированные пленки обладают о л сопротивлением 10 Ом-см. Их отжиг на воздухе (Т>500 С) приводит к увеличению сопротивления до 106 Ом-см.

5. Предложены режимы изготовления гетероэпитаксиальной структуры гп0-гп8-А1203:

- эпитаксиальный слой 2п8 на (0001)А120з получен методом газотранспортных реакций; плоскость (111)2п8 параллельна плоскости подложки (0001)А1203;

- осаждение ZnO на 2п8-А1203 осуществлено магнетронным методом; ZnO растет плоскостью (0001) параллельно плоскости (111)2п8.

6. Исходное сопротивление пленок ZnO, полученных методом хим-транспорта всегда меньше 10 Ом-см. Они могут быть использованы в качестве пьезопреобразователей после компенсации их проводимо

128 сти. Потери на двойное преобразование составляют около 40 дБ. Ши-рокополостность преобразователей обусловлена с морфологическими особенностями роста пленок.

7. Дня преобразователей на основе пленок ZnO, полученных методом магне-тронного распыления, потери на двойное преобразование составляют 1,3-4 дБ.

8. На основе гетероструктуры ZnO-ZnS-AbCb и высокоориентированных высокоомных пленок ZnO возможно создание эффективных устройств опто- и акустоэлектроники.

В заключении выражаю искреннюю благодарность и признательность научному руководителю доктору физ -мат.наук, профессору P.A. Рабаданову, а также сотруднику кафедры физической электроники А.М. Исмаилову за систематическую помощь на всех этапах выполнения работы в лаборатории кафедры физической электроники Даг-госуниверситета

ЗАКЛЮЧЕНИЕ

1. Кузьмина И.П., Никитенко В.П. Окись цинка. Получение и оптические свойства. - М.:Наука, 1984-166с.

2. Hirschwald W.,Bonasewicz Р., Ernst L. et al. Zinc oxide: Properties and behaviour of the bolk, the solid (vacuum and solid) gas interface Curr. Top. Moter. Sei., 1981, vol.7, p.143-482.

3. Физика и химия соединений А2В6 / Под ред.С.А.Медведева. М.: Мир, 1970, с.97-134.

4. Kleber W., Miodoch R. Uber die Synthese von Zinkit Einkristallen. - Krist. undTechn, 1966, Bd. 1, S.249-259.

5. Hirschwald W., Bonasewicz P., Ernst L. et al. Zinc oxide: Properties and behaviour of bulk, the solid (vacuum and solid) gas interface //Curr. Top. Mater. Sei. 1981. - V.7. - pp. 143-482.

6. Heiland G., Moll wo E., Stockhmann E. Electronic processes in zinc oxide //Solid State Phys. 1959. - V.8. - pp.191-323.

7. Георгобиани A.H. Широкозонные полупроводники А В и перспективы их применения //Успехи физ. наук.- 1974. Т.113.-С.129-155.

8. Mollwo Е. Die Wirking von Walsertoff und die Leitfähigkeit und Luministent von Zinkoxyd cristallen //Ztchr. Phys. 1954. Bd. 138. P. 478-488.

9. Mollwo E., Z. Angew. Die Wirking von Walsertoff und die Leitfähigkeit und Luministent von Zinkoxyd cristallen //Ztchr. Phys. 1954. Bd.6. P. 257

10. O.Heiland G., Mollwo E., Stockman F. Electronic molecules transition in ZnO// Solid State Phys. 1959. - V.9. pp.581-590.

11. Harrison S.E. Hall effect studies jf zinc-jxide single crystals // Phys. Rev., 1954.V.108, № 2

12. Langton N.H., Matthews D., Brit. J.Appl. Phys., 9, 453 (1958).

13. Moll wo E.Uber den Zusammen bang Zwisschen der electrischen Dunklleitgkeit und der drunen Lumineszenz von ZnO-Kristallen // Ztsch. Phys. 1961.Bd.162. P. 557-569.

14. Данлеп У. Введение в физику полупроводников. М : ИЛ. 1954. 430 с.

15. Mariano A.N., Hanneman R.E. Crystallographic polarity of ZnO crystals // J. App. Phys. 1963. V. 34. № 2. P.364-388.

16. Hahn E.E., Russell B.R., Miller P.H, Phys. Rev., 75, 1631 (1949).

17. Moeda K. Some characteristics of Zinc oxide phosphors // Bull. Chem. Soc: Jap. 1960. №4. P. 456-460.

18. Tomas D.G. Lander Y.Y. Hydrogen as a donor in Zinc Oxide // J. Chem. Phys. 1956. V. 25. P. 1136-1132.

19. Andress B. Uder die Lumineszenz und Absorption von ZnO-Kristallen // Ztsch. Phys. 1962. Bd. 170, № 1. S. 1-21.

20. Hauffe K., Engell H.J., Z. Electrochem., 56, 366 (1952).

21. Плодухин В.Г. Коаксиальные диапазонные резонаторы. М. Мир, 1953. -376 е.

22. Най Дж. Физические свойства кристаллов. -М.: Мир, 1967. 385 с.

23. Шаскольская М.П. Кристаллография. -М.: Высшая школа, 1976. -391с.

24. Акустические кристаллы. Справочник / Под ред. М.П.Шаскольской. М.: Наука, 1982. С. 212-218.

25. Шубников А.В. Пьезоэлектрические текстуры. М. Л.: Изд. АНСССР, 1946.

26. Бауэр Э. Рост ориентированных пленок на аморфных поверхностях. В кн.: Монокристаллические пленки / Пер. с англ., под ред. З.Г. Пинскера. -М.: Мир, 1966. - С.58-90.

27. Шувалов Л.А., Урусовская А.А., Желудев И.С. и др. Современная кристаллография. М.: Наука, 1981. - Т.4. - 495 с.

28. Конференция по физической, электронике. Махачкала, 2001г.

29. Шермегор Т.Д., Стрельцова H.H. Пленочные пьезоэлектрики. М.: Радио и связь, 1986. - 137 с.

30. Димова-Алякова Д.И., Малов M.M., Дмитриев B.A. и др. Электрофизические свойства пленок окиси цинка, полученных окислением слоев цинка и селенида цинка //Тр. МЭИ, вып. 192: Электроника и радиотехника. 1974. - С.78-84.

31. Шпилькин А. Д., Магомедов З.А., Семилетов С.А. Гиперзвуковые преобразователи на основе пленок ZnO, полученных окислением селенида цинка //Изв. АН СССР. Сер.: Неорг. матер-1981.-Т.17, №6.-С.1004-1007.

32. Георгобиани А.Н., Бутхузи Т.В., Зада-Улы и др. Оптические свойства диэлектрических слоев оксида цинка//Неорган, материалы. 1993. - Т.29, №10.-С. 1404-1407.

33. Рабаданов P.A. Получение, реальная структура, некоторые объемные и поверхностные свойства монокристаллического оксида цинка. Дис. . докт. физ. мат. наук. - Махачкала, 1997. - 358 с.

34. Технология тонких пленок / Справоч. изд. Под ред. Л. Майссела. М.: Советское радио, 1977. - С. 431.

35. Морозов А.И., Проклов В.В., Станковский Б.А. Пьезоэлектрические преобразователи для радиоэлектронных устройств. М.: Радио и связь, 1981.- 184 с.

36. Технология тонких пленок. Справочник под ред. Л. Майссела. Р. Гленга. Пер. с англ. М. Советское радио, 1977.

37. Lehmann Н. W., Widmer R. Preffered Jrientationin RF-sputtered ZnO Films. -Jap. J. Appl. Phys., 1974. V. 13, supp. 2, pt. 1, p. 741 744.

38. Chbachi N., Minakata M., Kikuchi J. Physical Structure of DC Diode Sputtered ZnO Films and Its Influence on the Electromechanical Coupling Factors. Jap. J. Appl. Phys., 1974. V. 13, supp. 2, pt. 1, p. 737 - 740.

39. Khuri-Yakubo В. Т., Kino G. S., Galle P. Studies of the optimum conditions for growth of rf-sputtered ZnO films. J. Appl. Phys., 1975, v. 46, №8, p. 32663272.

40. Жуков С.П., Киндяк B.B., Демченко А.И. Получение и свойства высоориентированных пьезоэлектрических пленок оксида цинка на подложках из плавленного кварца. Изв. РАН. СЕР. Неорг. Матер., 1994, т.ЗО, №5, с. 710-712.

41. Zayer N.K., Greef R., Rogers К., Grellier A.J., Pannell C.N. In situ monitoring of sputtered zinc oxide films for piezoelectric transducers.-Thin Solid Films, 1999, v. 352, №1, p. 179-184.

42. Subramanyam Т.К., Srinivasula B. Uthanna S. Effect of subsrate temperature on the physical properties of DC reactive magnetron sputtered ZnO films. -Optical Materials, 1998, v. 13, №1, p. 239-247.

43. YJ.Kim, Y.T.Kim, H.J.Yang, J.C.Park, J.J.Han, Y.E.Lee, H.J.Kim, J.Yac. Sci. Technol. A 15 (1997) 1103.

44. Meng L., Adritschky M., M.P. dos Santos, Vacuum.45 (1994) 19.

45. MatsuokaM., Ono K.- Appl. Phys. Lett. 1988, v.53, p.1993.

46. Экспериментальное исследование структурных свойств пленок ZnO, полученных магнетронным методом/В .И.Бунарев, Б.Ф.Мочалов, Н.Н.Стрельцова и др. Электронная техника, сер. 10, 1981, №5 (29), с. 3538.

47. Influence of Bombardment by Energetic Atoms on с Axis Orientation of ZnO Films / K.Tominaga, S.Iwamura, I. Fujita et al. - Jap. J. Appl. Phys., 1982, V. 21, №7, p. 999- 1002.

48. Лютович A.C. Ионно активированная кристаллизация пленок. -Ташкент; изд-во «Фан» УзССР, 1982. 148с.

49. Лютович А.С. Ионно-молекулярная эпитаксия. Рост кристаллов, т. 14, с.34-42.

50. Гранкин И.М., Кальная Г.И., Прищепа Н.М. Высокоориентированные пленки оксида цинка. Неорг. Материалы. 1982. т.18. №5, с.820-823.

51. E.M.Bachari, G.Baud, S.Ben Amor, M.Jacquet Structural and optikal properties of sputtered ZnO films Thin Solid Films, 1999, v. 348, p. 165-172.

52. Данилин B.C., Мочалов Б.Ф., Стрельцова H.H., Шермергор Т.Д. Осаждение пьезоэлектрических пленок окиси цинка в магнетронной системе ионного распыления.-Микроэлектроника, 1980, сер.З, №3, с.62-65.

53. Miura М. Cristallographic Character of ZnO Thin Film Formed at Low Sputtering Gas Pressure. Jap. J. Appl. Phys., 1982, V. 21, №2, p. 264 - 271.

54. Дьяконова Н.И., Евдосеева И.А., Тихонов C.K., Хабаров С.Э. О структурных и пьезоэлектрических свойствах пленок окиси цинка. -Письма в ЖТФ, 1989, т. 15. №6, с. И 15.

55. Hickernell F.S. Low loss zinc oxide optical waveguides on amorphus substrates. // Topical Meeting on Integr. And Guided Wave Optics, Nevada. 1980. WB 6. P. 1-4.

56. Petrov I, Orlinov V., Misiuk A. // Thin Solid Films. 1984. V.120. P. 55 67.

57. Аникин В.И., Шевцов B.M. Структура субмикронных поликристаллических пленок ZnO, выращенных на неориентирующих подложках. Письма в ЖТФ, 1989, т. 15. №3, с. 1 - 5.

58. Held, S., in C.R.Hance (ed), "Ultra microminiaturization Precision Photography", Society of Photographic Scintists and Engineers, Inc., Wachington, D.C., 1968, p. 141.

59. Браун С. Элементарные процессы в плазме газового разряда. Гокомиздат, 1961.

60. Hada Т., Wasa K., Hayakawa Sh. Structures and electrical properties of zinc oxide films prepared by law pressure sputtering system. Thin Solid Films, 1971, v. 7, № 2, p.135.

61. Mitsuyu Т., Ono S., Wasa K. Structures and SAW properties of rf-sputteredsinglecrystal films of ZnO on sapphire.- J. Appl. Phys., 1980, v. 51, № 5, p. 2464.

62. Александров JI.H., Ивахнишин B.M., Креймер A.A., Яковкин И.Б. Структура и морфология пленок оксида цинка, полученных методом катодного распыления. Неорганические материалы, 1984, т.20. № 3, с. 435-439.

63. Miyazaki М., Sato К., Nishimura Н. Properties of Ga doped ZnO films. -Jornal of Non-Crystalline Solids., 1997, v218, p. 323 - 328.

64. Yamazaki O., Mitsuyu Т., Wasa K. Zno Thin film SAW Devices. - IEEE Trans. Son. Ultrason., 1980, v. SU-27, № 6, p. 369 - 379.

65. Paradis E.L., Shuskus A.J. RF sputtered Epitaxial ZnO Films on Sapphire for Integrated Optics. Thin Solid Films, 1976, v. 38, p. 131 - 141.

66. Исследование тонкопленочных CdS-пьезопреобразователей / К.И. Брыцин, В.П. Демидов, В.П. Мартынов и др. Радиотехника и электроника, 1970, т. 15, № 9, с. 1937-1944.

67. Тонкие поликристаллические и аморфные пленки. Физика и применения. Пер. с англ. / Под ред. Л.Казмерски. М. Мир, 1983, 304 с.

68. Хейванг В., Бирихольц У., Айнцингер Р., Ханке Л., Кемптер К., Шнеллер А. Аморфные и поликристаллические полупроводники: Пер. с нем./ Хейванг В., Биркхольц У., Айнцингер Р. и др.; Под ред. В.Хейванга. М.: Мир. 1987.-160 с.

69. Yamamizu S., Chubchi N. Breakdown Voltage and Output Power of ZnO Piezoelectric Film Transducers Obtained by DC Diode Sputtering. J. Appl. Phys, 1976, v. 15, №2, p. 381 -382.

70. Fahmy A.H., Adler E.L. Structure and Properties of RF sputtered ZnO Transducer. Trans. IEEE., 1972, v. SU - 19, № 3, p. 346 - 349.

71. Chubachi N., Minakata M., Kikuchi J. Physical Structure of DC Diode Sputtered ZnO Films and Its Influence on the Electromechanical Coupling Factors. Jap. J. Appl. Phys., 1974, v. 13, suppl. 2, pt. 1, p. 737 - 740.

72. B.A. Лабунов, Н.И. Данилович, A.C. Уксусов, B.E. Минайчев. Современные магнетронные распылительные устройства //Зарубежная электронная техника. 1982. - Вып. 10. - С.3-62.

73. Данилин Б.С. Применение низкотемпературной плазмы для нанесения тонких пленок. М.: Энергоатомиздат, 1989. - 327 с.

74. Миркин Л.И. Справочник по рентгеноструктурному анализу поликристаллов. -М.: Физматгиз, 1961. 683 с.

75. Горелик С.С., Расторгуев Л.Н., Скаков Ю.А. Рентгенографический и электронографический анализ. М.: Металлургия, 1970. - 368 с.

76. Эндрюс К., Дайсон Д., Киоун С. Электронограммы и их интерпретация. -М.: Мир, 1971.-256 с.

77. Хирш П., Хови А., Пэшли Д., Уэлан М. Электронная микроскопия тонких кристаллов. М.: Мир, 1968. - 574 с.

78. Рабаданов P.A., Рабаданов М.Р., Исмаилов A.M., Алиев И.Ш., Абдулаев Х.М. Механизм и условия формирования омического контакта монокристаллическому оксиду цинка // Вестник ДГУ. Естественные науки.- Махачкала: ИПЦ ДГУ, 1998. вып.1. - С.40-42.

79. Hutson A.R. Hall effect of doped zinc oxide single crystals //Phys. Rev. 1957. У. 108. - pp.222-230.

80. Киттель Ч. Введение в физику твердого тела. М.: Мир, 1978. 790 с.

81. Бауэр Э. Рост ориентированных пленок на аморфных поверхностях В кн.: Монокристаллические пленки. /Пер. с англ, под ред. З.Г. Пинскера. -М.: Мир, 1966. С.58-90.

82. Б.Я. Пинес. Лекции по структурному анализу. -Харьков: Изд-во ХГУ, 1957.- С.410-451.

83. Тонкие пленки. Взаимная диффузия и реакции / Пер. с англ. Под ред. Дж. Поута, К. Ту, Дж. Мейера. -М.: Мир, 1982. -С. 5 76.

84. Радиофизическая электроника /Под. ред. H.A. Капцова.-М.: Изд-во МГУ, 1960.-С.356-407.

85. Ворончев Т.А., Соболев В.Д. Физические основы электровакуумной техники.-М.: Высшая школа, 1967.-С.298-347.

86. Моррисон С. Химическая физика поверхности твердого тела. М.: Мир, 1980.-488 с.

87. Волькенштейн Ф.Ф. Электронная теория катализа на полупроводниках. -М.: Физматгиз, 1960.-С. 16-46.

88. Лопаткин A.A. Теоретические основы физической адсорбции-М.: Изд-во МГУ, 1983.-344 с.98.3андберг Э.Я., Ионов Н.И. Поверхностная ионизация.-М.: Наука, 1969-С. 11-41.

89. К. Tominaga, S. Iwamura, Y. Shintani et al. Energy Analysis of High-energy Neutral Atoms in the Sputtering of ZnO and BaTi03 //Jap. J. Appl. Phys-1982.-V.21, №5.- pp.688-695.

90. Лютович A.C. Ионно-активированная кристаллизация пленок. -Ташкент, 1982.-148 с.

91. Технология тонких пленок //Справоч. изд.-М.: Советское радио, 1977.-662 с.

92. Распыление под действием бомбардировки частицами /Под ред. Р. Бериша, К. Виттмака-М.: Мир, 1998.-вып.З.-551 с.

93. Полупроводниковая электроника. Свойства материалов. Справочник. П.И. Баранский, В.П. Клочков, И.В. Потыкевич. Киев: Наукова думка, 1975, -704 с.

94. Berlincourt D., Jaffe Н., Shiozawa L. R. Journ. Chem. Phys.,129, 1009 (1963).с

95. Вульф Г.A. В кн. Полупроводниковые соединения А В . Пер. с англ. Под ред.В.Н. Вигдоровича и А.Я. Нишельского - М: Металлургия, 1967. с.56.

96. Исмаилов A.M., Темиров А.Т., Рабаданов М.Р., Рабаданов P.A. Особенности роста пленок ZnO на монокристаллических подложках (ООО 1)А1203.//Доклад на II Всерос. Науч. Конф. "Физическая электроника". Махачкала, ДГУ, 2001 г.

97. Популярная библиотека химических элементов. М.: Наука, 1983. -С.179-190.

98. Физико-химические свойства окислов /Справ, изд. М.: Металлургия, 1978.-471 с.

99. Поликристаллические полупроводники. Физические свойства и применение /Под ред. Г. Харбеке. Пер. с англ. -М.: Мир, 1989. 341 с.

100. Аморфные и поликристаллические полупроводники /Пер. с нем. М.В. Акуленок. Под ред. В. Хейванга. М.: Мир, 1987. 160 с.

101. Volger //J. Phys. Rev. 1950. -V.9. - p. 1023.

102. Бурре А. Атомная структура межзеренных границ. В кн.: Поликристаллические полупроводники. Физические свойства и применение /Под ред. Г. Харбеке. Пер. с англ. - М.: Мир, 1989. - С. 17-35.

103. Понд Р. Геометрия протяженных граничных дефектов в полупроводниках. В кн.: Поликристаллические полупроводники. Физические свойства и применение /Под ред. Г. Харбеке. Пер. с англ. - М.: Мир, 1989.-С.49-76.

104. Браун С. элементарные процессы в плазме газового разряда. Госкомиздат, 1961.

105. Кузнецов A.B., Семилетов С.А., Чаплыгин Г.В. ориентация нитрида галлия на сапфире . В кн.: Рост кристаллов. - М.: Наука, 1986. - Т. 15. -С. 14-24.

106. Мейнке X., Гундлах Ф.В. Радиотехнический справочник. Т.1. Пер. с немец. M-JL: Энергоиздат. 1960. 139 с.

107. Фостер Н. Преобразователи на напыленном слое сульфида кадмия. Пер. с англ. // ТИИЭР. 1965. Т.53. № 10. С. 1581.

108. Креймер A.A., Романов С.И., Юмашев В.Н., Яковкин И.Б. Переориентация полярной оси пленок ZnO при магнетронном распылении // Кристаллография. 1988. Т.23. Вып. 26. С. 1548.

109. Шермергор Т.Д., Стрельцова H.H. Пленочные преобразователи. М.: Радио и связь. 1986. 136 с.

110. Андрущенко В.А., Вовкодав И.Ф., Карлаш В.Л., Улитко А.Ф. Исследование коэффициента электромеханической связи в круглых пьезоэлектрических пластинах // Прикладная механика. 1975. Т. 11. № 5. С. 44-48.

111. Пруэлл Р., Эльбаум Г., Гик Б. Ультразвуковые методы в физике твердого тела. М.: Мир. 1972. 570 с.

112. Кеди У. Пьезоэлектричество и его практическое применение. М.: ИЛ. 1949. 719 с.

113. Най Дж. Физические свойства кристаллов и их описание при помощи тензоров и матриц. Под ред. A.A. Шувалова. М.: Мир. 1967. С.360.

114. Смагин А.Т., Ярославский М.И. Пьезоэлектричество кварца и кварцевые резонаторы. М.: Энергия. 1970. С. 95-119.

115. Физическая акустика. Т. 1. Методы и приборы ультразвуковых исследований. Часть А. Под ред. Мезона. М.: Мир. 1960. 592 с.

116. Шаихов Д.А., Рабаданов P.A., Семилетов С.А., Эфендиев А.З. Зависимость скорости роста и дефектности пленок ZnO от условий осаждения и ориентации подложки//Кристаллография. 1977. Т.22. Вып. 1. С. 210-212.

117. Reisman A., Berkenblit., Chan S.A., Angiello J. The epitaxial growth of ZnO on sapphire and MgAi spinel using the vapour phase reaction of Zn and H4200 // J. Electron. Mater. 1973. V.3. № 2. P. 177-189.