Разработка оптических методов создания концентрирующих рельефно-фазовых голограммных структур и исследование их характеристик тема автореферата и диссертации по физике, 01.04.05 ВАК РФ

ВВЕДЕНИЕ.

ГЛАВА 1. Периодические рельефно - фазовые структуры: дифракционные свойства, моделирование и оптические методы получения. (Обзор литературы.).

1.1.Дифракционные свойства периодических рельефно - фазовых структур.

1.1.1.Концентрирующие свойства дифракционных решеток с симметричной формой профиля штриха.

1.1.2.Концентрирующие свойства дифракционных решеток с асимметричной формой профиля штриха.

1.1.3 .Сравнение концентрирующей способности голограммных дифракционных решеток с разными формами профиля штрихов.

1.2.Методы моделирования процесса получения рельефно-фазовых структур.

1.3.Способы получения концентрирующих голограммных дифракционных решеток рельефно-фазового типа.

1.3.1.Способ получения голограммных дифракционных решеток с симметричной формой профиля штриха.

1.3.2.Способ получения голограммных концентрирующих дифракционных решеток в контрнаправленных пучках.

1.3.3.Способ получения концентрирующих голограммных решеток с помощью Фурье-синтеза.

1.3.4.Способ получения асимметричной формы профиля штриха с помощью многократного экспонирования.

1.3.5.Сравнительная характеристика способов получения концентрирующих голограммных дифракционных решеток.

Выводы.

ГЛАВА 2.Моделирование процесса формирования периодической рельефной структуры в фоточувствительном слое.

2.1.Математическое моделирование процесса формирования рельефно -фазовой структуры в слое фоточувствительного материала.

2.1.1.Интерференционное поле в слое фоточувствительного материала, обладающего поглощением на поглощающей заготовке.

2.1.2.Влияние изменения коэффициента поглощения в процессе экспонирования на интерференционное поле в слое фотоматериала.

2.1.3.Образование формы профиля штриха при проявлении рельефнофазового фотоматериала.

2.1.4.Влияние поглощения в фотослое на форму профиля штриха периодической рельефно-фазовой структуры.

2.2.Физическое моделирование процесса получения периодической рельефно-фазовой структуры.

2.2.1.Характеристики фоточувствительных сред для формирования рельефно-фазовых структур.

2.2.2.Измерение фоточувствительных характеристик рельефно-фазовых фоточувствительных сред.

2.2.3.Получение периодических рельефно-фазовых структур и сравнение результатов математического и физического моделирования.

2.2.4.Методика уменьшения влияния стоячей волны на форму профиля штриха голограммной дифракционной решетки.

Выводы.

ГЛАВА 3.Оптические способы формирования концентрирующих голограммных дифракционных решеток.

3.1.Ахроматическая схема получения концентрирующих голограммных решеток с симметричной формой профиля штриха.

3.1.1 .Условия ахроматизации оптической схемы.

3.1.2.Дифракционный интерферометр для получения голограммных дифракционных решеток.

3.2.Методика контроля частоты штрихов при получении рельефно-фазовой решетки.

3.3.Способ получения концентрирующих голограммных решеток на основе синтеза-Фурье.

3.3.1.Формирование асимметричного распределения интенсивности по периоду интерференционной картины.

3.3.2.Оптическая схема получения концентрирующих дифракционных решеток с помощью синтеза Фурье.

3.4.Способ получения концентрирующих голограммных дифракционных решеток в контрнаправленных пучках.

3.5.Способ получения концентрирующих голограммных дифракционных решеток путем преобразования симметричной формы профиля штриха в асимметричную.

Выводы.

ГЛАВА 4. Характеристики концентрирующих голограммных дифракционных решеток.

4.1.Дифракционная эффективность голограммных дифракционных решеток.

4.2.Рассеянный свет голограммных дифракционных решеток.

4.3 .В олновой фронт голограммных дифракционных решеток.

4.4.Сравнение характеристик дифракционных решеток, полученных разными методами.

4.5.Влияние импульсного лазерного излучения на дифракционные свойства голограммных дифракционных решеток.

Выводы.

Актуальность проблемы.

Периодические рельефно-фазовые (ПРФ) структуры и дифракционные решетки (ДР) на их основе находят широкое применение в спектральном приборостроении, телекоммуникационных системах, лазерной технике.

Существует ряд методов получения ПРФ структур и ДР на их основе: механическое формирование ("нарезание") штрихов с помощью алмазного резца [1,2], формирование штрихов путем экспонирования или абляции ионным или электронным пучком в слоях металлов и диэлектриков [2,4]. Процесс формирования штрихов методами, основанными на сканировании инструмента, формирующего штрихи, длителен, трудоемок. При перемещении могут возникать непериодические ошибки деления, что приводит к уменьшению разрешающей способности и увеличению уровня рассеянного света.

В последнее время получили развитие оптические методы формирования ПРФ структур путем регистрации на фоточувствительном слое интерференционной картины [5-7]. К основным преимуществам этих методов относятся одновременное формирование штрихов ПРФ структуры, что исключает непериодические ошибки, возможность коррекции волнового фронта, более низкий уровень рассеянного света. Реализация этих преимуществ возможна при условии достижения высоких значений дифракционной эффективности в заданной спектральной области в данном порядке дифракции, т.е. при условии получения высокой концентрирующей способности.

Оригинальными оптическими методами получения концентрирующих ПРФ структур являются голографические методы: в конаправленных пучках [6], в контрнаправленных пучках [8], синтез заданной формы профиля штриха ДР с помощью нескольких интерференционных картин с кратными периодами (Фурье-синтез ) [9].

Однако имеется ряд нерешенных вопросов [7,10], сдерживающих развитие этих методов. Недостаточно изучены возможности оптических схем получения концентрирующих ДР методами Фурье-синтеза, в контрнаправленных пучках, в конаправленных пучках на заготовках с большим отражением. Нет полной ясности в вопросе моделирования процесса формообразования ПРФ структур, так как для моделирования чаще всего используется линейная модель, которая не учитывает кинетики комплексного коэффициента преломления при экспонировании фотослоя, что приводит в конечном итоге к сильному отличию расчетных форм профиля штриха от полученных экспериментально. При получении ДР с заданными характеристиками в основном используются эмпирические данные о параметрах экспонирования и проявления, получаемые порой на основе многочисленных предварительных экспериментов, что значительно увеличивает время изготовления ДР и делает этот процесс, зависящим от мастерства экспериментатора.

Перечисленные нерешенные вопросы приводят к необходимости систематического исследования оптических методов и схем получения концентрирующих ДР и разработки методики моделирования процесса формообразования ПРФ структур с учетом кинетики комплексного показателя преломления при экспонировании.

Целью работы является разработка оптических методов, схем получения концентрирующих ПРФ структур и ДР на основе методики формообразования ПРФ структур и исследования их оптических характеристик.

Достижение поставленной цели потребовало решения следующих основных задач:

• разработки теоретической методики моделирования процесса получения ПРФ структур с учетом нелинейного фотоотклика в слоях позитивных фоторезистов при экспонировании и отражений на границах фотослой - воздух, фотослой - заготовка;

• разработки методики физического моделирования процесса получения ПРФ структур и сравнения результатов эксперимента с результатами расчета;

• разработки новых оптических схем и методик получения ПРФ структур с высокой концентрирующей способностью;

• исследование характеристик ДР, полученных при экспериментальном опробовании разработанных оптических схем, выбор оптимальных по дифракционным характеристикам оптических методов и схем их реализации.

Общая методика исследований. Основными методами решения поставленных задач служили методы волновой и геометрической оптики, применение аппарата современной прикладной математики, математическое моделирование, физический эксперимент в лабораторных условиях. Научная новизна работы.

1. Разработана методика расчета формы профиля рельефно-фазовой структуры с учетом изменения коэффициента поглощения фотоматериала в процессе экспонирования.

2. Впервые предложен и разработан ряд оптических схем получения ПРФ структур и концентрирующих голограммных ДР на их основе в контрнаправленных пучках.

3. Исследованы ахроматические оптические схемы получения высокочастотных ПРФ структур и ДР на их основе, которые позволяют использовать источники излучения с низкой степенью когерентности.

4. Впервые предложена автоколлимационная оптическая схема получения высокочастотных ПРФ структур и голограммных ДР на их основе с асимметричной формой профиля штриха во встречных пучках при пониженной степени когерентности.

5. Предложен новый оптический способ преобразования симметричной формы профиля штриха ДР в асимметричную форму.

6. Разработаны и исследованы эффективные способы уменьшения влияния границ с разными коэффициентами преломления на форму профиля штриха голограммной ДР рельефно-фазового типа, изготавливаемых на заготовках с высоким коэффициентом отражения, и уменьшения уровня рассеянного света при получении концентрирующих голограммных ДР.

7. Исследовано влияние лазерного излучения на дифракционные свойства ДР в диапазоне длин волн 266 -1060 нм.

Практическая значимость работы.

1. Проведенные исследования оптических методов получения ПРФ структур с высокой концентрирующей способностью: в конаправленных пучках, в контрнаправленных (встречных) пучках, Фурье-синтеза позволили определить границы применимости этих методов.

2. Разработанные оптические схемы получения ПРФ структур с высокой концентрирующей способностью позволяют изготавливать ДР с частотой штрихов 1200 - 3600 мм"1, длиной волны максимальной концентрации в диапазоне 200 -300 нм и дифракционной эффективностью до 85% .

3. Разработанная ахроматическая оптическая схема получения ПРФ структур, используется в производстве высокочастотных ДР (3600 мм"1).

4. Разработанный новый способ преобразования симметричной формы профиля штриха в асимметричную форму позволяет смещать максимум дифракционной эффективности ДР в коротковолновую область спектра.

5. Разработанная методика контроля частоты интерференционной картины по эталонной ДР позволяет получать ДР с относительной погрешностью частоты штрихов не более 10'3 -10"4.

6. Разработанный способ уменьшения влияния отражений в фотослое на форму профиля штриха ПРФ структуры позволяет эффективно устранять стоячую волну.

7. Разработанный способ уменьшения уровня рассеянного света при получении концентрирующих голограммных дифракционных решеток позволяют получать ДР с низким значением уровня рассеянного света ( до 2 10~7 на расстоянии 10 А при А, = 0.488 мкм.).

8. Проведенные измерения пороговой лучевой прочности голограммных ДР позволяют определить область применимости последних в лазерной технике.

На защиту выносятся следующие основные результаты и положения.

1. Учет изменения коэффициента поглощения в процессе экспонирования фотослоя при моделировании формообразования голографических ПРФ структур позволяет получать формы профиля штриха, приближающиеся к экспериментальным.

2. Предложенные нами автоколлимационные оптические схемы получения концентрирующих ПРФ структур в контрнаправленных пучках, в которых устранено влияние задней поверхности заготовки, позволяют получать голографи-ческие концентрирующие ДР с высокой концентрирующей способностью и низкими значениями уровня рассеянного света.

3. Создание концентрирующих голографических ПРФ структур возможно путем преобразования симметричной формы профиля штриха ПРФ структуры в асимметричную за счет нанесения фотослоя на ПРФ структуру с симметричной формой профиля штриха, освещения под углом автоколлимации и последующим проявлением фотослоя.

4. Влияние отражений в фотослое на форму профиля штриха ПРФ структур, получаемых на заготовках с высоким коэффициентом отражения, может быть существенно ослаблено при использовании дополнительной однородной засветки и дубления фотослоя перед стадией проявления.

Апробация результатов. Основные результаты работы докладывались и обсуждались на IV, XII, XI11, XIV конференциях молодых специалистов (Казань 1979г., Ленинград 1980г., 1982г.), II и IV, V, VI, Всесоюзных конференциях по голографии (Ульяновск, 1978г., Ереван, 1982г., Рига, 1985г., Витебск, 1990г.), на I Всесоюзной конференции "Оптическое изображение и регистрирующие среды" (Ленинград, 1982 г.), Всесоюзной конференции "Исследования в области химико-фотографической науки и практики" (Казань, 1984г, Каз-НИИТехФотоПроект), II Всесоюзной конференции "Теоретическая и прикладная оптика" (Ленинград, ГОИ, 1986г.), VIII Всесоюзной конференции по физике ВУФ и его взаимодействию с веществом (Иркутск, 1989г.), Всесоюзном семинаре "Дифракционная оптика. Новые разработки в технологии и применение. "(Казань, 1991г.), научно - технической конференции "Технология производства и обработки оптического стекла и материалов", Москва, 2000г.

Публикации. Основное содержание диссертации отражено в 24 научных публикациях (из них 21 в соавторстве), в том числе: 5 статей (1 статья в изд. АН РФ), 2 деп. рук. ВИНИТИ, 2 авторских свидетельства, 17 тезисов докладов (из них на Всесоюзных и Российских конференциях -11.)

Структура и объем работы. Диссертация состоит из введения, 4-х глав, заключения, списка литературы и приложения. Объем диссертации 162 страницы, включая 48 рисунков, 10 таблиц, список цитируемых источников из 114 наименований, из которых 24 - публикации автора и приложение.

ВЫВОДЫ.

1. С помощью разработанных оптических схем получены концентрирующие голограммные ДР:

• в конаправленных пучках на отражающих заготовках: с частотой штрихов 329.8, 3600 мм"1; дифракционной эффективностью не менее 55%; качеством волнового фронта 0.1 - 0.15 Я и уровнем рассеянного света 1 10"6.

• по синтезу Фурье: с частотой штрихов 600 мм"1, дифракционной эффективностью до 67% в спектральной области 300 - 600 нм; с качеством волнового фронта 0.5 -IX;

• по методике преобразования симметричной формы профиля штриха в асимметричную: с частотой штрихов 1800 мм'1; дифракционной эффективностью до 60% в спектральной области 300 - 600 нм; волновой фронт не хуже исходной ДР;

• в контрнаправленных пучках:с частотой штрихов 1200 - 3600 мм"1, дифракционной эффективностью до 85 - 90% с длиной волны максимальной концентрации в области 200 - 230 нм и 140 - 170 нм; с качеством волнового фронта 0.15 Я и уровнем рассеянного света1 - 2 10"6 (Я = 0.488 нм).

2. Изучено влияние условий экспонирования, обработки и геометрических параметров схемы получения ДР во встречных пучках на положение максимума дифракционной эффективности. Установлено, что на

149 положение максимума концентрации дифракционной эффективности также влияет и отражение на границе раздела фотослой - воздух.

3. Проведен анализ влияния дифракции на элементах оптической схемы на уровень рассеянного света, предложен эффективный способ борьбы с рассеянным светом от элементов оптических схем.

4. Проведены измерения пороговой лучевой прочности голограммных ДР изготовленных на слоях органического и неорганического фоторезистов. Установлена связь пороговой плотности энергии с коэффициентом поглощения материала, на основе которого изготовлена ДР.

5. На основе анализа характеристик ДР, изготовленных с помощью разных способов, определен наиболее технологичный оптический метод и оптические схемы получения концентрирующих решеток на его основе - метод встречных пучков и способ преобразования симметричной формы профиля штриха ДР в асимметричную.

150

ЗАКЛЮЧЕНИЕ

Основным результатом работы, явилось осуществление автором цели работы - разработки оптических методов получения концентрирующих ПРФ структур на основе теоретической модели процесса формообразования, совершенствования и разработки оптических схем на примере отражательных концентрирующих голограммных ДР.

В рамках работы получены следующие результаты:

1. Разработана методика расчета формы профиля ПРФ структуры с учетом изменения коэффициента поглощения фотоматериала в процессе экспонирования на слоях фоторезистов. Разработан алгоритм расчета формы профиля штриха ПРФ структур.

2. Разработана методика физического моделирования процесса формообразования ПРФ структур на основе низкочастотных ДР (100 мм"1). Экспериментальные результаты согласуются с теоретическими расчетами.

3. Впервые предложен и разработан ряд новых оптических схем получения ПРФ структур и концентрирующих голограммных ДР на их основе:

• Предложены автоколлимационные оптические схемы получения высокочастотных ПРФ структур и голограммных концентрирующих ДР на их основе с асимметричной формой профиля штриха в контрнаправленных пучках, исключающие влияние отражения на границах раздела сред с разными показателями преломления;

• Предложен новый способ преобразования симметричной формы профиля штриха в асимметричную форму.

4. Разработаны и исследованы эффективные способы:

• уменьшения влияния границ с разными коэффициентами преломления на форму профиля штриха голограммной ДР рельефно-фазового типа, изготавливаемых на заготовках с высоким коэффициентом отражения, предложен и экспериментально опробован способ уменьшения влияния стоячей волны, в основе которого лежит однородная засветка излучением с

151 широким спектральным диапазоном и постэкспозиционное дубление слоя фоторезиста перед стадией проявления;

• снижения уровня рассеянного света при получении концентрирующих голограммных ДР.

5. Исследована пороговая лучевая прочность голограммных ДР в широком спектральном диапазоне, обнаружена корреляция пороговой лучевой прочности с коэффициентом поглощения материала, на основе которого изготовлена ДР, а также поляризационная зависимость порога лучевой прочности на длинах волн 266, 355, 532 нм.

6. Разработанная ахроматическая оптическая схема получения ПРФ структур, используется в производстве высокочастотных голограммных ДР (3600 мм"1) к хроматографу "Милихром".

1. Ф.М. Герасимов, Э.А. Яковлев. Дифракционные решетки: В кн. Современные тенденции в технике спектроскопии. - 1982, Новосибирск, С.24 -94.

2. E.W.Palmer. Diffraction gratings: Reports on Progress in Physics, 1975, Vol.38, № 8, P.975 - 1048.-(P. 1009-1011).

3. H.Watanabe, Y.Todokoro.- E-beam direct wafer writing process using a water-soluble conductive layer: IEEE Trans.Electron.Dev., 1989,Vol. 16, №3, p.474-478.

4. Aoyagi Y., Namba S., Blazed Ion-etched Holographic Gratings, Opt.Acta , 1976, 23 ,p.701-706.

5. Денисюк Ю.Н. Об отображении оптических свойств оъекта в волновом поле рассеянного им излучения. ДАН СССР , т.144 ,: 6, С.1275 - 1278, 1962 г.

6. Rudolf D., Schmachl G. "Spectroskopische Beugungsgitter Hoher Teilungsgenauigkeit erzeugt rn.it Hilfe von Laserlicht und Photoresistschichter." -Optik, 1970, 30, C.475 487.

7. В.П.Антошкина, В.Л.Афанасьева , А.И.Любимов, М.М.Михайлова, В.А.Селезнев. Голографические дифракционные решетки рельефно - фазового типа.- Обзор №2932, деп.рук. ВИНИТИ св.1162, Биб.указ.отеч. и заруб, лит. 1983,сер.3., №21, реф.82., 70 стр.

8. N.K. Sheridon. Production of blazed holograms. Appl.Physics Letters, 1968, vol.12, 9, P.316 - 318.

9. Schmahl G. Holografic structure for Vacuum U-V Rad. and X- ray. -Proc.Int.Conf. on Vacuum U-V Rad.Phys., Hamburg: 1974,p.667 681.

10. М.Борн, Э.Вольф. Основы оптики, 1973, М., с.585.

11. W.R.Hynter, G.Hass. Preparation and testing of reflectance coating for diffraction gratings in the extreme ultraviolet: Phys.Thin Films, 1980, Vol.11, New York.

12. Стрельников Ю.П. Оптические и механические свойства алюминиевых покрытий для дифракционных решеток: Автореф. диссертации к.ф.м.н ,1990, Казань, КГУ, 20 с.

13. Sano К., Aoyagi Y., Namba S., Production of Blazed Holographic Gratings by Ion-etching Technique,- J.Spectroscopic Soc.Japan, 26, p.327, 1977.

14. Aoyagi, High-spectroscopic Qualities in Blazed Holographic Gratings,- SPIE, vol.240, p. 63 -71.,1980.

15. P.Hariharan. The post-Michelson era./ Austral.J.Phys., 1993, vol.46, №1, p.103 - 119.

16. E.G.Loewen, M.Neviere, D.Maystre.- Grating efficiency theory as it applies to blazed and holographic gratings: Applied Optics, 1977, Vol.16, №10, P.2711-2721.

17. Л.А.Дмитреева, И.В.Голубенко, Г.М.Савицкий. Дифракционная эффективность голографических решеток с симметричной формой профиля: Оптико-механическая промышленность, 1985, №1, С.4 - 6.

18. Electromagnetic theory of gratings. 1980, Ed. by R.Petit, Springer, 28 lp.

19. E.G.Loewen, M.Neviere, D.Maystre. Efficiency optimization of rectangular grove gratings for use in the visible and IR regions: Applied Optics, 1979, Vol.l8, №13, P.2262-2266.

20. D.Maystre, M.Neviere,R.Petit: Experimental verifications and applications of the theory. in: Electromagnetic theory of gratings. - 1980, Ed. by R.Petit, Springer, P.159 - 225.

21. Г.М.Савицкий ,И.В.Голубенко. Оптимизация эффективности отражательных дифракционных решеток с трапецеидальным профилем штриха: Оптика и спектроскопия. 1985,том 59, вып.2, С.420 - 425.

22. В.П.Шестопалов, А.А.Кириленко, С.А.Масалов, Ю.К.Сиренко: Резонансное рассеяние волн. Дифракционные решетки. 1986, Киев, Наук.думка, 232 с.

23. С.А.Масалов, Э.А.Яковлев.- Отражательные характеристики эшелета в поляризованном излучении для автоколлимационной установки: Оптика и спектроскопия, 1977, т.43, №6, С.1129 1137.

24. В.П.Шестопалов, Л.Н.Литвиненко, С.А.Масалов, В.Г.Сологуб: Дифракция волн на решетках. 1973, Из-во ХГУ, С.195 -240.

25. Breidne М., Johansson S., Nilsson L., Ahlen H. Blazed holografic gratings. -Optica Acta, 1979, vol.26, ll,p.l427 1441.

26. Э.А.Яковлев, Ф.М.Герасимов. Экспериментальное изучение распределения интенсивности дифракционных решеток по спектру в поляризованном свете: Оптика и спектроскопия. - 1961,том 10, вып.1, С.104 - 112.

27. M.Breidne, D.Mayster.-.Optimizatin of Fourier grating, 1980, SPIE, V.240, P.311-317.

28. У.Моро. Микролитография. //Пер. с англ./ Принципы, методы, материалы.-ч.1.-ч.2.- Ред.Р.Х.Тимерова.- пред.К.А.Валиева.- М., Мир,-1990.-1239 с.

29. Г.Н.Березин, А.В.Никитин, Р.А.Сурис. Расчет профилей проявления фоторезиста.// Электронная техника. Сер.З. Микроэлектроника, 1974, вып. 2 (50), С.40 42.

30. Г.Н.Березин, А.В.Никитин, Р.А.Сурис. Оптические основы контактной фотолитографии. 1982, М., Радио и связь, 104 с.

31. F.H.Dill. Optical lithography.// IEEE Trans. 1975, ED-22, №7,P.440 444.

32. F.H.Dill, A.R.Neureuther, J.A.Tuttle, E.J.Walker. Modeling projection printing of positive photoresists.// IEEE Trans. 1975, ED-22, №7,P.456 464.

33. S.Austin, F.T.Stone. Fabrication of thin periodic structures in photoresist: a model.//Appl.Optics ,1976, Vol.15, P.1071 1074.

34. L.Machev, S.Tochev. Formation of holographic diffraction gratings in photoresist.: Appl. Phys., 1981, A26, P.143-149.

35. E. Kapon, A. Katzir. Photoresist grating on reflecting surfaces. // J. Appl. Phys., 1982, 53(3), P.1387- 1390.

36. R.C.Mc. Phedran, J.Y. Wilson, M.D. Waterworth. Profile formation of holographic diffraction grating. // Optics and Laser Technology, 1973, vol.5, №4, p.166- 171.

37. R.R. Hershey, E.N. Leith. Grating interferometers for producing large holographic gratings: 1990, Appl.Appl.Optics, V.29,p.937 - 943.

38. I.N. Ross, С.J. Hooker, P. Dombi. Efficient generation of large diffraction gratings with a grating interferometer: Appl. Optics, 2001, Y.40, N34, p.6153-6156.43 .Боков Ю.С.- Фото-, электроно и рентгено - резисты. - М.: Радио и связь, 1982.53 с.

39. Р.Р.Герке, С.Б.Мамедов, М.Д.Михайлов, И.Ю.Юсупов, О.А.Яковук. Свойства голографических решеток на пленках сульфида мышьяка: Успехи научной фотографии, 1990, t.XXIV, М., из.Наука, С.52 - 55.

40. Т.Б.Антонова, М.Н.Астафьева, И.А.Кожинова, А.И.Любимов, Ф.А.Саттаров. О некоторых особенностях тонких пленок селенидов мышьяка и изготовление г.д.р. на их основе.- VI Всесоюзная конференция по голографии, г. Витебск, 1990г.// Сб. тезисов, с.38.

41. Nagata Н., Kishi М. Production of blazed holografic gratings by a simple optical system.// Jap.J.Appl.Phys., 1975, v.14, Suppl.14-1, p.181 -186.

42. Любимов А.И. О получении топографических оптических элементов с пилообразной формой штрихов. IV НТКМС ,23 - 25.05,1979., ЦНИИ информации, тезисы док. ,с.72.

43. Любимов А.И., Мустафин К.С., Селезнев В.А. Получение голографических дифракционных решеток с несимметричной формой профиля штриха // Оп-тико-механич.промышленность.1982. №4. с.32-34.

44. Cowan J.I., Arakawa Е.Т. Blazed Holografic Gratings Formed with Optical Guided Waves. V International Conf. on Vac. U - V Rad. Phys. and Appl., Meudon, France, 1978, ref. 12, p. 20-23.

45. Nagata H., Kishi M. Production of blazed holografic gratings by a simple optical system. Jap.J.Appl.Phys., 1975, v.14, Suppl.14-1, p.181 - 186.

46. Breidne M., Johansson S., Nilsson L., Ahlen H. Blazed holografic gratings. -Optica Acta, 1979, vol.26, 11, p. 1427 1441.

47. Breidne M., Influence of the groove profile on the efficiency of diffraction gratings. 1981, Stockholm.- Диссертация.- 70 p.

48. Богданова И.Б., Любимов А.И. Оптическая схема получения г.д.р. с несимметричной формой профиля штриха с помощью Фурье-синтеза. Всесоюзная XIV НТКСМ . Л.: ГОИ, 1982, сборник тезисов докл. т.1, с.89-90.

49. Brinahle О. Formation of blazed gratings. J.Opt.Soc.Am., 1970, vol. 60, 1, 140 -141.

50. Pei-jun Ding, Во Lheng. Prorosed new method for producting blazed holographic gratings. J.Opt.Soc.Am.,vol.6.,8 ,1228 - 1232, 1989.

51. Латыпова Л.И., Мустафина Л.Т., Гамма Е.А. Использование эффекта Та-больта при формировании голографических дифракционных решеток. Оптика и спектроскопия ,1990, 69, вып.1, с.170-173.

52. Городецкий А.А. Синтез внеосевых голограммных оптических элементов и контроль оптических поверхностей сложной формы на основе использования принципа обращения волновых фронтов. // Автореферат дисс. кандид. физ.-мат. наук 1992. - Казань, КГУ. - 15 с.

53. Афанасьева В.Л., Любимов А.И., Селезнев В.А. Образование ступенчатой формы штрихов с низкими значениями пространственных частот.//П Всесоюзная конференция по голографии. 1978. Ульяновск, с.59 60.

54. Т.Н.Крылова. Интерференционные покрытия. 1973, Л., Машиностроение, 224с.

55. И.С.Гайнутдинов, Е.А.Несмелов, И.Б.Хайбуллин.- Интерференционные покрытия для оптического приборостроения.- 2002, Казань, изд. "Фэн", 592 с.

56. Голография. //Методы и аппаратура. Под ред. В.М.Гинзбург, Б.М.Степанова. 1974, М., "Сов.радио", 376 с.

57. Бобров C.T., Брайнин Ю.И., Туркевич Ю.Р. Исследование фоторезистов как среды для регистрации голограмм. ЖНиПФиК. - 1979. -т. 24. - №3.-С.161 - 165.

58. М.Р.С. Watts. Analitical model of positive resist development applied to linewidth control in optical lithography // J.Vac.Technol. B. 1985.- Vol.3.- №1.-p.434 - 440.

59. Валеев A.C. Определение оптических постоянных тонких слабопоглощаю-щих слоев // Оптика и спектроскопия. 1963.- т. 15. - вып.4. - С.500 -511.

60. М.А. Гисин, Г.П. Конюхов, Е.А. Несмелов. Метод определения оптических постоянных и толщины диэлектрических пленок. //Оптика и спектроскопия, 1969, т.26, вып.2, с.301 309.

61. Е.А. Несмелов, А.Г. Гусев, О.Н. Иванов, Н.П. Матшина. Метод расчета оптических постоянных тонких диэлектрических пленок. //Оптический журнал, 1991, №9, с. 27-29.

62. Любимов А.И., Селезнев В.А. Некоторые вопросы техники получения голограммных дифракционных решеток. //ОМП, 1984.- №4, с.41-43.

63. Любимов А.И., Селезнев В.А. Применение дифракционного интерферометра для записи г.д.р. // Сб. "Дифракционные решетки разработка и производство", ЦНИИ и ТЭИ, М., 1984, с.15-17.

64. Мустафин К.С. Исследование отображающих свойств голограмм и возможностей их применения в оптическом приборостроении. //Автореферат дисс. доктора тех. наук 1975. - Л. - 24с.

65. Ершов И.В. Интерферометр с фазовой дифракционной решеткой. // Оптика и спектроскопия, 1986, том 61, вып.6.,С.1351 1353.

66. D. Post, К. Patorski, P. Ning Compact grating interferometer for producing photoresist gratings with incoherent light.// Appl. Optics, 1987, Vol.26, N 6.-P.1100 1105.

67. Кольер P., Беркхард К., Лин Л. Оптическая голография.// Пер. с англ./ Под ред. Островского Ю.И. 1973.-Из-во: Мир. 686с.

68. А.И.Любимов, Г.В.Кисунько, З.Г.Мурзаханов, А.Ф.Скочилов. Гравитационно-волновая антенна на основе кольцевой двухрезонаторной лазерной системы, не чувствительной к вращению. // Доклады Академии наук, 1999, т.366, №3, С.326 329.

69. Корн Г., Корн Т. Справочник по математике для научных работников и инженеров. Пер.с англ./ Под ред. И.Г.Арамановича.- М.Наука, 1982, 832 с.

70. Любимов А.И. Оптические схемы получения концентрирующих голограммных дифракционных решеток.- V Всесоюзная конференция по голографии. г.Рига, тезисы докл. т.1, с. 108, 1985.

71. Любимов А.И., Мустафин К.С., Еникеева P.P. Способ изготовления голо-графических дифракционных решеток. А.С. 1656484, приор, от 27.06.89 г.

72. А.И.Любимов, К.С.Мустафин, В.Л.Окулов, ВЛ.Саенко. Повышение дифракционной эффективности голограммных дифракционных решеток в коротковолновой области спектра.- VI Всесоюзная конференция по голографии. г. Витебск, 1990г.// Сб. тезисов, с.32 -33.

73. Щеглов Ю.Д. Состояние и перспективы развития измерения оптических параметров диф.решеток в ГИПО.- Дифракционная оптика. Новые разработки в технологии и применении. (Материалы семинара) НТЦ "Информатика", М.-1991.-С.64-65.

74. Протасевич В.И. Опыт измерения рассеянного света плоских диф.решеток.-Дифракционная оптика Дифракционная оптика. Новые разработки в технологии и применении. (Материалы семинара) НТЦ "Информатика", М.-1991.-с.49-50.

75. Л.М. Восковцова, З.Ю. Давлетшина, Ю.Б. Камардин, А.В. Лукин, Т.П. Плотникова, Ф.А. Саттаров, Ю.П. Чугунов Особенности копий голограммных дифракционных решеток на халькегинидных стеклообразных полупроводниках. Оптический журнал.- 1993.- №9.- С. 44 - 46.

76. Ю.В.Бажанов, М.А.Долотказин, А.И. Любимов , В.Л.Окулов Влияние формы профиля штриха голографических дифракционных решеток на эффективность в УФ области спектра.- Там же. с.400 401.

77. Hutly М.С. Apodized apertures of diffraction gratings // Opt.Communs.- 1982.-V.40. №.5. P.317 -321.

78. Hadley G.R., Difraction by apodized apertures // IEEE J.Quant.Electronics 1974, vol.10, № 8, p.603-608.

79. Loewen E.,Neviere M.,Mayster D On an asymptotic theory of diffraction gratings used in the scalar domain.- JOSA 1978, vol.68, 4, p.496-502.

80. Комиссарук B.A. Некоторые вопросы теории применения интерферометрии сдвига. Автореф. дисс. Л. ГОИ, 1975.

81. Баранова Н.Б., Быковский Н.Е., Зельдович Б.Я., Сенатский Ю.В. Дифракция и самофокусировка излучения в усилителе мощных световых импульсов. Квантовая электроника 1974, т.1, №11, с.2435-2458.

82. M.D.Perry, G.Mouron Terawatt to Petawatt Subpicosecond Lasers.: Science, 264, P.917,1994.103 .High. L .Garvin, Aston Au., Monica L.Minden. Ion-etched gratings for laser applications.:Proc.of SPIE, 1980, vol.240, P.63-68.

83. M.A.Dubinskii, V.V.Semashko, A.K.Naumov, R.Yu.Abdulsabirov, S.L.Korableva Ce tunable ultraviolet laser // J.Mod.Opt.- 1993. - vol.40. - №1. -P.l-5.

84. E. H. Елисеев, Э. И. Фадеева, В. Д. Заворыкин, Н. В. Морозов, С. И. Саги-тов, П. Б. Сергеев. Лазерная прочность оптических материалов и покрытий для эксимерных ArF- и KrF- лазеров // Оптический журнал, 1996,№2, С.40 -48.

85. В.П. Вейко, М.Н. Либенсон Лазерная обработка. / под ред. С. П. Митрофанова, Л., 1973.- 191 с.

86. А.И. Любимов, Т.А. Миронова, В.Л. Окулов Получение г.д.р. в кварцевом стекле для ИК-диапазона.- Дифракционная оптика Новые разработки в технологии и применении. (Материалы семинара) НТЦ "Информатика", М.-1991.-C.42-43.

87. A.M. Бонч-Бруевич, М.Н. Либенсон Поверхностные электромагнитные волны и воздействие интенсивного излучения на вещество // ОМП.-1988,-№12.- С.35-47.

88. Depine R.A. Scattering of a wave at a periodic boundary: analytical expression far the surface impedance // JOSA.-1988.-V.21 .-№5.-P.413-421.

89. Салахутдинов И.Ф., Сычугов B.A., Парье О. Высокоэффективные дифракционные решетки для работы в схеме Литтмана-Меткалфа // Квантовая электроника.-1998.-том 25.- №11.-СЛ009 1012.

90. Винокурова В.Д., Герке P.P., Салль Е.Г., Яшин В.Е. Голографические дифракционные решетки с многослойным диэлектрическим покрытием // Опт. и спектр.-2002.- т.93.- №2.- С.328 330.