Физико-химические свойства поверхности оксидов и фторидов щелочноземельных металлов и систем на их основе тема автореферата и диссертации по химии, 02.00.04 ВАК РФ
Екимова, Ирина Анатольевна
АВТОР
|
||||
кандидата химических наук
УЧЕНАЯ СТЕПЕНЬ
|
||||
Томск
МЕСТО ЗАЩИТЫ
|
||||
2011
ГОД ЗАЩИТЫ
|
|
02.00.04
КОД ВАК РФ
|
||
|
На правах рукописи
4849639
Екимова Ирина Анатольевна
ФИЗИКО-ХИМИЧЕСКИЕ СВОЙСТВА ПОВЕРХНОСТИ ОКСИДОВ И ФТОРИДОВ ЩЕЛОЧНОЗЕМЕЛЬНЫХ МЕТАЛЛОВ И СИСТЕМ НА ИХ ОСНОВЕ
02.00.04 - физическая химия
АВТОРЕФЕРАТ
диссертации на соискание ученой степени кандидата химических наук
9 (1ЮН 2011
Томск-2011
4849639
Работа выполнена на кафедре физической и коллоидной химии Томского государственного университета
Научный руководитель:
кандидат химических наук, доцент, профессор кафедры физической и коллоидной химии
Минакова Тамара Сергеевна
Официальные оппоненты:
доктор химических наук, профессор
Мокроусов Геннадий Михайлович
кандидат химических наук, старший научный сотрудник
Островский Виктор Ефимович
Ведущая организация:
Санкт-Петербургский государственный технологический институт (технический университет)
Защита состоится «23» июня 2011 г. в 14 часов 00 минут в ауд. ЗД на заседании диссертационного совета Д 212.267.06 в Томском государственном университете по адресу: 634050, г. Томск, пр. Ленина, 36
С диссертацией можно ознакомиться в научной библиотеке Томского государственного университета.
Автореферат разослан «20» мая 2011 г. Ученый секретарь
диссертационного совета Д 212.267.06, кандидат химических наук, доцент
Т.И. Изаак
ОБЩАЯ ХАРАКТЕРИСТИКА РАБОТЫ
Актуальность темы. Для понимания природы и механизма процессов, протекающих на поверхности твердого тела, необходимо иметь комплекс экспериментальных данных, характеризующих группы родственных соединений с различных, но взаимосвязанных сторон. Это позволяет проводить сравнительный анализ поверхностных свойств соединений в зависимости от входящих в их состав металлов, неметаллов, кристаллографического строения, физических характеристик, и использовать полученные выводы при решении практических задач. В данной работе такого рода исследования проведены на оксидах и фторидах щелочноземельных металлов (ЩЗМ) и магния.
Значительный интерес к оксидам и фторидам ЩЗМ в последние десятилетия вызван их многофункциональностью. Так, оксиды щелочноземельных металлов и магния применяются в качестве составной части катализаторов, носителей активной фазы и самостоятельной каталитической системы, наибольшее распространение они получили как удобные модельные матрицы для химического модифицирования. Фториды ЩЗМ и магния успешно применяются для изготовления активных и пассивных элементов фотоники, при конструировании оптических приборов и технических устройств. Разностороннее изучение свойств фторидов металлов важно с позиций развивающихся фторидных технологий.
Анализ литературных данных показывает, что наличие во фторидах металлов кислородсодержащих примесей приводит к изменению их химических и физических свойств, отражается на технических характеристиках готовой продукции (например, оптической керамики). В связи с этим необходимо иметь информацию о свойствах оксидов тех же металлов, чтобы определить их возможное влияние на поверхностные свойства фторидов металлов. На примере оксидов и фторидов ЩЗМ можно проследить изменение поверхностных свойств в зависимости от природы аниона (МеО —► МеР2).
Сведения о состоянии поверхности и факторах её изменяющих можно получить и при изучении фотопроцессов. Исследования фотоиндуцированных процессов в гетерогенных системах продолжают оставаться актуальными, и направлены на установление механизмов этих процессов, на создание новых и модификации известных фотоактивных дисперсных материалов. В этом отношении в последнее десятилетие интерес к изучению фотосорбционных свойств оксидов и фторидов ЩЗМ резко возрос.
Большинство исследований физико-химических свойств поверхности относятся к индивидуальным оксидам или фторидам ЩЗМ и магния. Данных о сравнительном изучении поверхностных свойств этих соединений в литературе недостаточно, что не позволяет выявить связь между структурой и свойствами поверхности, между природой дефектов и их ролью при протекании поверхностных реакций в ряду оксидов и фторидов металлов.
Цель работы заключалась в выявлении кислотно-основных, адсорбционных, фотосорбционных свойств поверхности оксидов и фторидов щелочноземельных металлов и магния и выяснении влияния на поверхностные свойства исследуемых соединений природы металлов и неметаллов, кристаллографической структуры, способности к образованию дефектов.
Для достижения поставленной цели необходимо было решить следующие задачи:
- исследовать фазовый состав оксидов и фторидов ЩЗМ и магния, химическую природу примесей, определить текстурные характеристики (удельную поверхность, дисперсность, пористость) образцов;
- провести сравнительное исследование кислотно-основного состояния поверхности МеО и МеР2 методами рН-метрии, адсорбции индикаторов Гаммета и ИК-спектроскопии;
- выявить закономерности адсорбции паров воды на поверхности образцов оксидов и фторидов ЩЗМ и магния;
- исследовать фотоиндуцированные процессы на поверхности промышленных и синтезированных в лаборатории образцах оксида магния;
- провести синтез систем М§0 - М§Р2 путем фторирования оксида магния в разных условиях, изучить поверхностные свойства полученных композитов;
- разработать способ нанесения магниевых оксидных и оксид - фторидных покрытий на поверхность 7п8-люминофоров для повышения их влагостойкости.
Научная новизна:
1. Установлено, что при переходе от оксидов к фторидам щелочноземельных металлов преобладающий сильноосновный характер поверхности оксидов меняется на слабокислотный (или слабоосновный) для фторидов. При этом на фторидах ЩЗМ и магния наблюдается более широкий спектр бренстедовских центров, а сила кислотных льюисовских центров значительно выше, чем для оксидов металлов.
2. Впервые показано, что оксид магния по сравнению с фторидом магния более фотосорбционно активен по отношению к таким газам, как кислород и водород.
3. Впервые обнаружен эффект фотоиндуцированной адсорболюминесценции (ФИАЛ) на М§0, проявляющийся в виде вспышки люминесценции при УФ облучении (X = 254нм). Предложен его возможный механизм: диссоциативная адсорбция молекул водорода на фотоиндуцированных дырочных активных центрах типа ОГ-
4. Установлено, что различие в поверхностных свойствах оксидов и фторидов ЩЗМ наряду с влиянием природы аниона (в большей степени) и катиона, определяется кристаллографической структурой исследованных образцов, методами синтеза, дефектностью и наличием примесей.
Практическая значимость работы заключается в возможности использования кислотно-основных параметров (рН„„с, рН5-, рНЮ", рН^-):
- для оценки общего кислотно-основного состояния поверхности образцов фторидов и оксидов металлов и предположения о КОЦ разной природы и силы;
- для построения диаграмм свойство-состав (рНиис - М§0 - М§Р2), показывающих различие в кислотности-основности поверхности механических смесей с разным содержанием оксида и фторида магния и систем на их основе;
- для первоначального входного контроля при оценке кислотно-основных свойств поверхности любых твердых тел.
Предложена методика нанесения покрытий М§0 - М§Р2 из водно-спиртовых пленкообразующих растворов, повышающая влагозащитные свойства 2п8-электролюминофоров.
Рекомендовано обнаруженный эффект ФИАЛ на N^0 учитывать, например, при проведении люминесцентной дефектоскопии и при изготовлении оптических сенсоров, включающих оксид магния, и эксплуатирующихся в условиях УФ облучения в контакте с водородсодержащей газовой средой.
Положения, выносимые на защиту:
1. Результаты исследования кислотно-основных свойств поверхности оксидов и фторидов ЩЗМ и магния, синтезированных систем (МяО - и покрытий (N^0 и - \lgF2) методами рН-метрии, адсорбции индикаторов Гаммета и ИК-спектроскопии.
2. Экспериментальные данные по адсорбции паров воды, бензола, оксида углерода (II) на поверхности оксидов и фторидов магния и ЩЗМ, механизм адсорбционных взаимодействий.
3. Закономерности фотосорбционных процессов, протекающих на поверхности оксида магния (необратимость, начальная скорость фотосорбции, фотосорбционная емкость); механизм обнаруженного эффекта ФИАЛ на N^0.
4. Различия в поверхностных свойствах систем - К^Ба с разной степенью фторирования.
Апробация работы. Основные результаты работы были представлены на Международных конференциях: «Студент и научно-технический прогресс» (Новосибирск, 2001, 2002, 2003, 2004), «Физико-химические процессы в неорганических материалах» (Кемерово, 2001), «Современные техника и технологии» {Томск, 2007); Российских конференциях: «Актуальные проблемы теории адсорбции, пористости и адсорбционной селективности» {Москва-Клязьма, 2002, 2007, 2008, 2010), «Термодинамика поверхностных явлений и адсорбции» (Иваново, 2003), «Получение и свойства веществ и полифункциональных материалов, диагностика, технологический менеджмент» {Томск, 2003, 2004), «Полифункциональные химические материалы и технологии» {Томск, 2007), «Физика и химия высокоэнергетических систем» {Томск, 2007, 2008), «Наука и образование» {Томск, 2007, 2009), «Фторидные технологии» {Томск, 2009), «Современные аспекты твердотельной электрохимии» {Москва, 2009); Региональных конференциях: «Получение и свойства новых неорганических веществ и материалов, диагностика, технологический менеджмент» {Томск, 2002), «Химия и химическая технология в XXI веке» {Томск, 2002); XVIII Менделеевском съезде по общей и прикладной химии {Москва, 2007).
Работа проводилась в рамках координационного плана Научного совета Российской Академии наук по адсорбции и хроматографии на 2003-2010 годы (код тем 2.15.3.Ц; 2.15.4.М; 2.15.1.Т; 2.15.2.АП); при выполнении НИР ФЦП «Интеграция науки и высшего образования России на 2002-2006 гг.» (стажировка в НИИ Физики при СПбГУ, 2004 г.) и при частичной финансовой поддержке гранта РФФИ (проект № 09-03-99038).
Публикации. Содержание диссертационной работы изложено в 14 публикациях (из них 3 в изданиях перечня ВАК РФ).
Структура и объем диссертации. Работа состоит из введения, пяти глав, заключения, выводов, списка литературы и приложения. Материал изложен на
154 страницах, включая 28 таблиц, 60 рисунков, списка литературы из 143 наименований и приложения.
СОДЕРЖАНИЕ РАБОТЫ
Во введении обоснована актуальность диссертационной работы, сформулированы ее цель, задачи, защищаемые автором положения. Показана научная новизна и практическая значимость выполненной работы.
В первой главе представлены литературные данные о кристаллической структуре, физических и химических свойствах оксидов и фторидов ЩЗМ и магния, способах их получения и областях применения. Рассмотрены опубликованные сведения о кислотно-основных свойствах поверхности этих веществ. Приведен обзор работ, посвященных описанию природы взаимодействия воды с поверхностью твердого тела. Рассмотрены основные представления о типах и механизмах фотостимулированных процессов в гетерогенных системах, относящиеся к тематике и результатам диссертации. Отмечено отсутствие систематических исследований, позволяющих сравнивать оксиды и фториды ЩЗМ и магния по поверхностным свойствам. Приведено обоснование выбора объектов и методов исследования.
Во второй главе описаны объекты исследования (таблица 1) и методика проведения эксперимента.
Таблица 1 - Сведения об объектах исследования и способах их получения
№ п/п Образцы МеО, МеИг, систем и смесей N^0 - \IgF2 Квалификация ГОСТ или ТУ Буд, м /г
1 N№№1 ХЧ ГОСТ 7204-77 18
2 СаРг № 2 ХЧ ТУ 6-09-5335-88 6
3 БгРг № 3 ОСЧ ТУ 6-09-1434-77 11
4 ВаРг № 4 ХЧ ГОСТ 7168-80 3
5 МйО № 5 (из МйСОз ) ЧДА ТУ 6-09-01-245-84 58
6 № 6 синтезирован из (МяОН^СОз с м. о. (МкСОз/ Мй(ОН)г) = 3,89 155
7 № 7 синтезирован из (1У^0Н)2С03 с м. о. (МрСОУ Мй(ОН)2) = 1,74 137
8 МёО № 8 ( из М{й04) ХЧ ГОСТ 4526-75 52
9 СаО № 9 ХЧ ГОСТ 8677-76 24
10 ВаО№ 10 ХЧ ГОСТ 10203-78 15
11 Системы - Г^рг, (№ 11, № 12, № 13, № 14) полученные методом прямого фторирования из оксида магния № 8 во фторном электролизере при температурах 473-Н523К -
12 -
13 -
14 9
15 Системы - \lgF2 (№15, № 16) полученные при взаимодействии N^0 № 8 с 40 %-ой плавиковой кислотой при температуре 293 К 35
16 12
17-25 Механические смеси с разным соотношением об разцов ( МйО № 8) и ^Р2 № 1)
Состав № 17 №18 № 19 №20 №21 №22 №23 №24 №25
ЩМ^О № 8), % 10 20 30 40 50 60 70 80 90
№ 1), % 90 80 70 60 50 40 30 20 10
Для установления закономерностей поведения порошкообразных материалов различных по своим структурным и адсорбционным характеристикам, в разных средах в работе использован набор экспериментальных и теоретических методов исследования.
Фазовый состав образцов исследован на дифрактометре XRD-6000 (СиКа). Показано, что изучаемые образцы фторидов кальция, стронция и бария имеют структуру флюорита, а фторида магния - структуру типа рутила, обладают высокой кристалличностью и представляют собой индивидуальные фазы (с точностью определения до 1 %). Порошки оксидов металлов содержат хорошо сформированную кристаллическую фазу МеО со структурой решетки типа NaCl. Однако в образцах MgO № 6 и № 7 (таблица 1 ) обнаружены примеси аморфной фазы. В образце MgO № 8 (таблица 1) присутствуют фазы Mg(OH)2 (2 %) и MgCOj (3 %), в образце СаО № 9 - фазы Са(ОН)2 (26 7с) и СаС03 (5 %), в образце ВаО № 10 найдена фаза Ва(0Н)2-Н20 (7 %). На термоанализаторе NETZSCH STA 449 С Jupiter в интервале температур от 298 до 1173 К (в среде аргона) идентифицированы пики, соответствующие разложению кислородсодержащих соединений, наличие которых в оксидах металлов зафиксировано методом РФА.
Дисперсность исследуемых порошков оксидов и фторидов ЩЗМ и магния была определена на лазерном анализаторе размеров частиц LA-950 фирмы HORIBA. Показано, что все изученные порошки являются полидисперсными: для фторидов металлов преобладающим является размер частиц 10-100 мкм, для оксидов -7-70 мкм.
Определение удельной поверхности образцов проведено методом БЭТ с использованием хроматографической и автоматизированной сорбционной (TriStar 3020) установок. В качестве газов-адсорбатов были выбраны аргон и азот, исследования проводились при температуре жидкого азота. Показано, что порошки оксидов ЩЗМ по сравнению с порошками фторидов тех же металлов имеют более развитую поверхность, что находится в соответствии с характером пористости сорбентов. Размеры пор адсорбентов были рассчитаны по уравнению Томсона-Кельвина из изотерм адсорбции-десорбции паров бензола и воды (рисунок 1), снятых при Тк на вакуумной установке гравиметрическим методом.
Il 0.5
0.2
0,1
О
>0, ¡0.4
0.2
0,1
О
Результаты расчета размеров пор, оценка вклада пор каждого размера в общую пористую структуру (дифференциальные кривые распределения пор по их эффективным диаметрам), а также анализ изотерм адсорбции, построенных в относительных координатах (a/amax - P/Ps), свидетельствуют о мезопористом характере исследуемых образцов.
Кислотно-основные свойства поверхности образцов были изучены методами рН-метрии, адсорбции индикаторов Гаммета, ИК-спектроскопии по адсорбции СО.
Рисунок ] - Изотермы адсорбции-
десорбции паров воды (А, А') и бензола (Б, Б') на поверхности N^0 (№ 8 в таблице 1) и (№ 1 в таблице 1), предварительно термовакуумированных при 573 К в течение 4 часов. ▲ - адсорбция, А -десорбция
о л о.» 0.6 о л
Метод рН-метрии позволил оценить интегральную кислотность поверхности при изучении изменения значений рН водной суспензии исследуемых образцов во времени. Параметрами, характеризующими кислотно-основное состояние поверхности, были выбраны:
- рН изоионного состояния вещества (рНиис) - значение рН, при котором при наличии в растворе различных ионов устанавливается равная адсорбция кислотных и основных групп на поверхности твердого тела. Этот параметр характеризует относительное содержание кислотных и основных центров на поверхности твердого тела. рНиис определяли также из результатов потенциометрического титрования на лабораторной титриметрической установке Т-108;
- значения рН суспензии после 5, 10,15 с контакта образца с водой (рН5", ю-, 15"), по величине которых судили о скорости изменения рН суспензий и силе первичных льюисовских кислотных или основных центров на поверхности.
Для измерения рН суспензий, приготовленных на бидистиллированной воде, использовались иономер ИПЛ-101 и рН-метр (рН 673 М) со стеклянным и хлоридсеребряным электродами.
Метод адсорбции индикаторов Гаммета из водных сред был применен для дифференциации кислотно-основных центров поверхности [1]. Исследования проводились на спектрофотометре UNICO 2800. Набор индикаторов позволял регистрировать кислотно-основные центры в диапазоне кислотности от -0,29 до +16,8 рКа. Расчет концентрации активных центров данной силы, эквивалентной количеству адсорбированного красителя (g(lí ), проводился по формуле (1). Включение в формулу слагаемого AD3, дает возможность учесть изменение кислотности рабочих растворов за счет адсорбции индикатора, процессов растворения образца, ионизации и диссоциации молекул воды. Использование формулы (1) без слагаемого ADj позволяет проводить только качественную оценку присутствующих на поверхности кислотно-основных центров.
(1). где
D0 а, а2 (рН0-рН2)
AD3 - величина, учитывающая изменение кислотности рабочих растворов; См - концетрация индикатора (моль/л); V¡nd - объем индикатора (мл); D0 - оптическая плотность раствора индикатора до сорбции; Di - оптическая плотность раствора индикатора после сорбции; D2 -оптическая плотность индикатора в «холостом» опыте; ai и ai - навески образца соответственно в «рабочем» и «холостом» опытах (г).
На основании полученных данных были построены кривые распределения центров адсорбции (РЦА) на поверхности исследуемых соединений в координатах g ^ = f(pKa), рассчитана функция Гаммета - Н0.
Для идентификации кислотных центров Льюиса и Бренстеда на поверхности фторида магния, подвергнутых термовакуумной обработке (Т = 773 К, Р = МО"5 Па), был использован метод ИК-спектроскопии адсорбированного СО. ИК-спектры регистрировали на Фурье спектрометре Shimadzu 8300 с разрешением 4 см'1 и числом накопления спектров 50-100. Описание методики приведено в работе [2].
Исследование фотостимулированных процессов на поверхности образцов оксида магния проводили фотоманометрическим методом. Для измерения
8
давления в вакуумной системе использовали тепловой манометр типа Пирани чувствительностью 18-20 мВ/Па в зависимости от газа - адсорбата. Кюветы с нанесенными образцами после предварительного вакуумирования при Тк подвергали многочасовым прогревам в кислороде (Т = 673-723 К, Р(СЬ) ~ 100 Па) с последующей вакуумной откачкой. Критерием достаточной чистоты и стабилизации состояния поверхности образцов являлось: 1) возможность полного (с точностью до 5 %) выделения фотоадсорбированного кислорода в молекулярной форме при отсутствии выделения СО и ССЬ при нагреве до максимальной температуры тренировки; 2) воспроизводимость ТД спектра фотосорбированного кислорода; 3) воспроизводимость кинетических параметров фотоадсорбции кислорода и водорода.
Третья глава посвящена изучению кислотно-основных и адсорбционных свойств поверхности оксидов и фторидов щелочноземельных металлов и магния; выяснению влияния на указанные свойства природы металлов и неметаллов, входящих в состав исследуемых соединений, кристаллографической структуры, методов синтеза и способности к образованию дефектов.
Представление об общем кислотно-основном состоянии поверхности МеО и MeF2 было получено при использовании метода рН-метрии в разных вариациях. Наиболее экспрессным и информативным методом оказался метод регистрации изменения рН водных суспензий во времени. По его результатам были построены кривые в координатах рНсусп = f(x ), представленные на рисунке 2. Расположение и характер кривых свидетельствует о совершенно разном кислотно-основном состоянии поверхности изучаемых нами соединений, а именно, поверхность оксидов ЩЗМ магния является сильноосновной, в то время как поверхность фторидов - слабокислотной (для фторидов кальция, стронция и бария) или слабоосновной (для MgF2).
Характер изменения рН водных суспензий: резкое подщелачивание в начальный момент времени, рост величин рН5-, рНю-, рН^-, большая скорость изменения рН (рисунок 2, таблица 2), свидетельствуют о присутствии на поверхности оксидов сильных основных центров апротонного типа. Широкое плато в области 70-250 секунд при достаточно высоких значениях рН указывает на преобладание на поверхности МеО сильных протонных центров основного характера. При этом основность поверхности оксидов ЩЗМ (М§0, СаО, ВаО) возрастает закономерно с увеличением радиуса катиона металла. Образцы М§0 № 5, № 6, № 7, № 8 имеют несколько различные величины рНШ1С, что связано с разными технологическими условиями их синтеза (таблица 1).
9
8
»") Рисунок 2 - Изменение рН водных суспензий оксидов и фторидов ЩЗМ и магния во времени
о
50 100 150 200 250 f, »ее
Сходные результаты в отношении значений рНяис для этих образцов дает и метод потенциометрического титрования (таблица 2).
Таблица 2 - Кислотно-основные параметры для оксидов и фторидов ЩЗМ и магния
Образец Данные рН-метрии Данные потенциометрического титрования Но
рН, рНу рНю- рН15- рН,™ (равн.) рН™ (НС1) рНиис (КОН)
\lgF2 № 1 6,4 6,9 7,2 7,2 7,6 - - 6,9
СаРг № 2 5,6 5,6 5,5 5,5 - - 5,6
ЗгБг № 3 5,6 5,3 5,3 6,0 - - 6,2
ВаИг № 4 5,6 5,7 5,8 5,4 - - 5,3
МяО № 5 9,4 9,5 9,6 10,2 10,3 10,3 7,4
МйО № 6 10,6 10,7 10,8 10,9 10,8 10,9 7,8
10,2 10,4 10,5 10,8 10,7 10,6 7,9
Г^О № 8 10,2 10,4 10,5 10,5 10,5 10,6 7,5
СаО № 9 11,8 12,2 12,3 12,3 - - 8,1
Ва О №10 12,1 12,3 12,5 12,5 - - 8,3
Примечание - рН5", рНю-\ рН15 - - значения рН после 5, 10 и 15 секунд соприкосновения образца с водой; рН„„с - рН изоионного состояния; Н„ - функция кислотности Гаммета, определена из спектров РЦА
Поведение фторидов ЩЗМ при их суспендировании в воде отличается от оксидов соответствующих металлов (рисунок 2, таблица 2). Для фторидов Са, Бг и Ва наблюдается подкисление рН среды по сравнению с линией нейтральности (или с начальным значением рН0 воды), что говорит о преимущественном вкладе апротонных и протонных центров кислотного характера в общую кислотность поверхности фторидов. Для фторидов ЩЗМ не наблюдается ожидаемого нами, с точки зрения химических свойств, нейтрального характера поверхности. Можно предположить, что преимущественно кислотный характер поверхности фторидов кальция и бария связан с возможностью образования при их синтезе гидрофторидов. Если образцы фторидов выдержать в течение часа в бидистиллированной воде с последующей их сушкой, то значения рН,™ для этих соединений приближаются к нейтральным. В случае фторида магния характерно незначительное увеличение рН раствора в начальный момент времени, что указывает на наличие некоторой доли основных центров на поверхности.
Использование разбавленных растворов электролитов, содержащих небольшие количества НС1 или КОН со значением рН0 от 4 до 9, приводит к интересным результатам. Независимо от начального значения рНо конечные величины рНк для оксидов металлов примерно одинаковы, а построение зависимостей в координатах ДрН = (рН0 - рНк) от рН0 представляют собой прямые с углом наклона ~ 45° и тангенсом угла ~ 1. Это связано с наличием сильных основных центров на поверхности соединения. Точка пересечения полученной прямой с осью абсцисс может быть использована для корректного определения параметра рНиис (рисунок 3). Наличие более слабых центров поверхности у фторидов, приводит к разбросу значений рНк, к величинам тангенса угла наклона = 0,7-0,8, и коэффициент корреляции прямой при этом оказывается не выше значения 0,9.
-3
» '» от рН0 для оксида и фторида магния
Рисунок 3 -£■_, Зависимость ДрН
Изложенные варианты метода рН-метрического исследования образцов могут быть использованы для первоначального входного контроля при оценке кислотно-основных свойств поверхности любых твердых тел.
Для регистрации и дифференциации кислотно-основных центров поверхности, как указывалось ранее, был применен индикаторный метод.
Для оксидов ЩЗМ и магния выявлены основные центры Льюиса (полосы с рКа = -0,29), в качестве которых могут выступать поверхностные анионы кислородсодержащих соединений и О"". Полосы с рКа > 14 обязаны наличию на поверхности МеО кислотных центров Льюиса (Ме"+). Кроме того, в спектрах РЦА присутствуют полосы, указывающие на присутствие ОН-групп. Так, для оксидов кальция и бария зафиксированы интенсивные полосы трех типов бренстедовских центров: кислотные Ме-(ОН)5+ (рКа 2,5; 3,46; 4,1), нейтральные Ме-(ОН)50 (рКа = 6,4), основные Ме-(ОН)5" (рКа 8,8; 9,45; 12). Отмечено, что более интенсивными являются полосы, относящиеся к основным центрам. Поверхности образцов М»0 разного способа получения обладают тем же набором активных центров, что и оксиды Са и Ва, но концентрация этих центров значительно меньше. Для синтезированных в лаборатории образцов оксида магния (№ 6 и № 7 в таблице 1), в отличие от промышленных (№ 5 и № 8), наблюдается более разнообразный спектр ОН-групп основного характера., что связано с наличием в этих образцах аморфных фаз.
Поверхность фторидов ЩЗМ и магния характеризуется более сложным набором центров, что обусловлено наличием в их структуре кислородных примесей. Интенсивные полосы с рКа 6,4; 7,3; 9,45; 12,8 отнесены к протонодонорным центрам адсорбции типа Ме-(ОН) и Ме-(ОН)5", образованным координационно-связанными молекулами воды или ОН-группами с основными (МеО)" или кислотными Ме2+ центрами Льюиса. Менее интенсивные полосы в области рКа = 2,5-г5 и с рКа = 1,3 связаны с присутствием на поверхности протоноакцепторных центров, образованных группой (Мер)" и протоном молекулы воды, а также бренстедовских центров типа Ме-(ОН)5+, склонных к отщеплению протона. Полоса с рКа < 0 отвечает основным апротонным центрам и связана с присутствием на поверхности ионов фтора, а также ионов О"", замещающих ионы Р в анионной подрешетке. В ряду фторидов ЩЗМ наибольшая бренстедовская кислотность характерна для ВаР2.
Результаты индикаторного метода подтверждают и детализируют выводы, сделанные в работе, на основании рН-метрического изучения образцов.
На наличие широкого набора кислотно-основных центров на реальной (гидроксилированной) поверхности фторидов ЩЗМ указывают данные ИК-спектроскопии. В ИК-фурье-спектрах фторидов (1000-4000 см"1) присутствуют
полосы поглощения (п.п.) с максимумами при 3450 и 1640 см"1, относящиеся к валентным и деформационным колебаниям связей О-Н в адсорбированных молекулах воды. Кроме того, в спектре М§Р2 наблюдаются три п.п. в диапазоне 3700-3200 см"1 и широкая п.п. в районе 1600-1450 см'1, относящиеся к валентным и деформационным колебаниям связей О-Н в гидроксиде магния, а в спектрах СаИо и ВаРг п.п. 1550-1400 см"1 соответствуют колебаниям карбонатных группировок на поверхности фторидов.
После вакуумирования образца РЛдРз (№ 1 в таблице 1) при 773 К в течение 1,5 часов в ИК-спектрах слабая узкая полоса при 1666 см'1 может быть отнесена к карбонатному фрагменту, связанному с ионом магния через один атом кислорода, а дублет 1411+1503 см"1 - к бидентатно-связанному с поверхностью С03 фрагменту. В области ОН-групп наблюдаемая интенсивная полоса 3616 см'1 соответствует К^ОН-изолированным группам. К тому же наблюдаются слабые полосы 3590, 3521 3390, 3251 и 3202 см"1. В области составных колебаний ОН-групп присутствуют п.п. 4326,4625 и 4722 см"1.
После адсорбции молекул СО на поверхности фторида магния зафиксировано присутствие трех типов льюисовских кислотных центров (ЛКЦ). Первый тип (2194—»2188 см"1) - сильные ЛКЦ, способны образовывать дикарбонилы. Второй тип центров льюисовского типа (2183—>2176 см"1) обусловлен влиянием друг на друга соседних молекул СО, адсорбированных на близко расположенных центрах плоских граней кристаллитов М§р1. Третий тип центров (2162 см"1) находится, вероятно, на отдельных атомах магния в кислородном окружении и по частоте близок к наиболее сильным ЛКЦ на чистом оксиде магния. Выявлены полосы, относящиеся к слабым бренстедовским центрам кислотного характера (3590 и 3521 см"1). Отмечено существование на поверхности М§Р2 ряда ОН-групп (3616, 3390, 3200 см"1 и др.), которые не взаимодействуют с СО (возможно, локализованы внутри кристаллитов фторида магния). Для сравнения в таблице 3 представлены измеренные концентрации ЛКЦ и БКЦ для и результаты
спектрального анализа М§0 [2].
Таблица 3 - Характеристика кислотных центров на поверхности фторида и оксида магния
Льюисовские кислотные центры Бренстедовские кислотные центры
МйР2 № 1
Частота, см'1 2188*—2194 2176-2183 2162-2173 3521 3590
Сила, кДж/моль* 36 29 25,5 1780 1690
Число, мкмоль/г 27 60 120 17
МяО
Частота, см"' 2158-2165 3750
Сила, кДж/моль* 22 1560
Число, мкмоль/г 310
♦Примечание - в шкале теплоты адсорбции СО для ЛКЦ и в шкале сродства к протону (РА) для БКЦ [2].
Показано, что на поверхности присутствуют сильные и два типа более слабых ЛКЦ, а также два типа сильных БКЦ. На поверхности М§0 присутствуют льюисовские кислотные центры более слабые, чем на N^2, но с несколько большей концентрацией.
Таким образом, на основании данных, полученных с использованием комплекса методов (рН-метрия, адсорбция индикаторов Гаммета и ИК-спектроскопия) сделано заключение о кислотно-основном состоянии поверхности изучаемых образцов, которое формируется не только индивидуальными МеО или МеР2, но и наличием на их поверхности гидратных, карбонатных структур, остаточных молекул Ш\
В главе 3 представлены также результаты исследования адсорбционной способности оксидов и фторидов ЩЗМ и магния по отношению к парам бензола и воды. Перед адсорбционными исследованиями проводилось вакуумирование образцов при Тк в течение 24 часов (Р ~ Ю^Па) и (или) термовакуумирование при 573 К в течение 4 часов (Р ~ 10"4 Па). Изотермы адсорбции паров снимались при комнатной температуре.
Данные по адсорбции паров бензола использованы для определения пористости образцов. Однако, присутствие в молекуле бензола тс-электронов придает его адсорбции специфический характер (особенно на полярных веществах) и это позволяет проводить сравнение образцов по прочности связи адсорбата с поверхностью адсорбента. Взаимодействие частично дегидроксилированных образцов оксидов и фторидов ЩЗМ с неполярным бензолом протекает по-разному. На оксидах бензол адсорбируется слабее, чем на фторидах металлов, что связано с фактом присутствия на поверхности МеР2 более широкого набора ОН-групп по сравнению с поверхностью МеО. Дифференциальная теплота адсорбции бензола на оксидах и фторидах свидетельствует о преобладании при адсорбции дисперсионных сил.
На присутствие кислородсодержащих функциональных групп реагируют главным образом молекулы, способные к сильным специфическим взаимодействиям, включая образование водородных связей и донорно-акцепторных взаимодействий. К таким адсорбатам относятся пары воды. Изотермы адсорбции паров Н20 для всех образцов оксидов и фторидов (кроме ВаО № 10 в таблице 1) имеют вид изотерм IV типа по классификации Брунауэра (рисунок 1) и описываются уравнением БЭТ. Судя по величинам ащ и Эщах при ряч=1 и исходя из значений адсорбционных констант (таблица 4), большей адсорбционной способностью к парам воды обладают фториды металлов по сравнению с оксидами, но более сильное взаимодействие паров Н20 с поверхностью наблюдается для МеО Это соответствует полученным в работе представлениям о кислотно-основном состоянии изученных образцов.
Повышение температуры предварительной вакуумной обработки образцов (с 298 К до 573 К) увеличивает адсорбционную способность к парам воды для всех образцов. Особенно это заметно для фторида бария и оксида кальция, и, связано с освобождением центров адсорбции, ранее занятых адсорбированными газами, а также появлением новых в результате разложения гидрофторида бария и Са(ОН)2. В случае оксида бария наблюдаемый V тип изотерм адсорбции паров воды и очень малые значения адсорбционных констант объясняются наличием фазы Ва(0Н)2Н20 в его структуре.
Значения адсорбционных констант (таблица 4) и теплоты адсорбции (порядка 60 кДж/моль) объясняют протекание адсорбции паров воды при малых степенях
заполнения за счет образования донорно-акцепторных связей. Последующее снижение теплоты адсорбции при росте величины адсорбции до величин, близких к теплоте конденсации [3], свидетельствует о взаимодействии паров воды с предварительно адсорбированными молекулами воды и ОН-группами по типу водородных связей.
Таблица 4 - Некоторые параметры, рассчитанные из изотерм адсорбции паров воды на оксидах и фторидах ЩЗМ и магния______
МеО № 5 № 6 МЙО № 7 Г^О № 8 СаО № 9 ВаО № 10
ам, ммоль/м2 573 К 0,11 0,02 0,02 0,09 0,30 -
Сбэт 573 К 16,2 11,0 11,7 14,5 21,0 -
кг 573 К 1,4 0,8 1,0 1,2 1,7 0,03
К 573 К 2,8 1,8 1,9 2,1 3,0 0,1
МеРг № 1 СаБг № 2 ЭгРг № 3 ВаИг № 4
а,„ ммоль/м/ 573 К 0,28 0,59 0,31 0,86
Сбэт 573 К 9,0 3,5 5,1 24,7
Кг 573 К 0,6 0,5 0,5 0,7
К 573 К 1,9 1,4 1,7 2,4
Примечание - ам - емкость монослоя, рассчитанная по уравнению БЭТ; Сбэт - константа уравнения БЭТ; Кг - константа уравнения Генри; К - константа из изотерм адсорбции в относительных координатах; 573 К - температура вакуумной обработки образцов
Оксид углерода (II) при адсорбции на поверхности фторида и оксида магния выступает в качестве донорного газа, благодаря чему происходит достаточно сильное взаимодействие СО с акцепторными центрами и ОН-группами кислотного характера (о чем свидетельствуют данные, представленные в таблице 3). СО является зондом на наличие кислотных поверхностных центров.
В четвертой главе изложены результаты изучения фотосорбции 02 и Н2 на образцах N^0 (№ 5 - № 8 в таблице 1) *, отличающихся способом получения, величиной удельной поверхности (52-155 м"/г), кислотно-основными свойствами и адсорбционной способностью по отношению к парам воды.
Методика исследования фотостимулированных процессов на оксиде магния описана в главе 2. После установления темнового адсорбционного равновесия, кювету с образцом освещали светом определенной длины волны (X ~ 254 нм), и по изменению давления газов в системе было сделано заключение о наличии фотоадсорбционного эффекта (рисунок 4).
Рисунок 4 - Барограммы фотосорбции водорода (а) и кислорода (б) на образцах оксида магния: 1 -№ 5, 2 - Х^О № 6, 3 - N^0 № 7,4 - N^0 № 8 (таблица 1)
При выключении света (-Ьу) наблюдался дополнительный эффект, который довольно слаб по сравнению с основным.
|Ь»
а 1-
* Фотосорбционные исследования выполнены в отделе фотоники НИИ Физики им. В.А. Фока при СПбГУ под руководством д.ф-м.н., профессора В.К. Рябчука
14
На основании проведенных фотосорбционных исследований показано:
- фотоадсорбция на всех образцах М§0 при Тк носит необратимый характер, обратимость появляется при 373 К и достигает 100 % при 573 К. В этом же интервале температур происходит выделение фотоадсорбированных молекул 02 и частично Н2;
- для всех образцов оксида магния в отношении фотосорбции 02 и Н2 наблюдается эффект «памяти» к предварительному (до впуска газа) освещению при Тк. По мере повышения температуры, при которой производится освещение, этот эффект уменьшается и исчезает выше 333 К;
- выявлена повышенная фотоадсорбционная способность М§0 по отношению к кислороду.
Из барограмм фотосорбции были построены зависимости начальной скорости фотосорбции от давления; рассчитаны количественные характеристики: максимальная скорость фотосорбции, время жизни активного центра, фотосорбционная емкость. Результаты расчетов приведены в таблице 5.
Таблица 5 - Параметры, характеризующие фотоадсорбционную способность образцов оксида магния, полученных разными способами___
Оксид (из 1^С03) М^Яаб (из (МвОНЭгСОз с м. о. МйСОз/\^(ОН)2= 3,89) МяО№7 (из (\^0Н)2С03 с м. о. МйСОЗ/МЙ(ОН)2= 1,74) МёО№8 (из МкБОд)
т, сек(02) 0,72-10"' 0,76-10"' 1,33-10^ 1,65-10'3
т, сек (Нг) 0,42-10"' 0,58-10"3 0,25-10"' 0,25-10
Умах, Па/сек (Р=1 ПаОг) 0,124 0,034 - 0,074
Умах, Па/сек (Р = 1 ПаН2) 0,002 0,006 - 0,004
ДР«(Ог), Па 7 5 6
ДР*(Н2), Па 2 3 • 3
Примечание - т - время жизни активных центров; уиах - максимальная скорость фотоадсорбции; А Р„ - фотоадсорбционная ёмкость
Анализ полученных экспериментальных и расчетных данных показал различия в фотоадсорбционной способности по отношению к акцепторному (02) и донорному (Н2) газам у образцов оксида магния разного способа получения, а именно: наблюдается уменьшение фотоадсорбции О? в ряду (М§0 № 5) > (М§0 № 8) > (М§0 № 6) и возрастание фотоадсорбции Н2. Понижение фотосорбционной активности образца (М§0 № 6) к кислороду обусловлено наличием аморфной фазы в его структуре. При сопоставлении величин, характеризующих кислотно-основные свойства поверхности (рНиис, Ц, в таблице 2) с фотоадсорбционными параметрами (Умах, ДР„ в таблице 5) установлена зависимость: чем ниже основность поверхности 1^0, тем выше фотоадсорбционная активность к 02 и меньше по отношению к Н2.
В фотосорбционном отношении образцы оксида магния являются более активными по сравнению с фторидом магния. Это является результатом того, что фотосорбция кислорода и водорода на фторидах металлов имеет примесную природу и обусловлена внедрением кислорода в структуру 1^Р2. Данный факт способствует возникновению центров поглощения в УФ области спектра. Даже
при содержании незначительных количеств оксидных примесей во фторидах металлов, кислород, замещая ионы фтора, внедряется в решетку в виде гидроксильной группы (ОН") либо в виде ионов 02~ и при этом возникает дополнительное число анионных вакансий. В отличие от М§0, адсорбция доноров электронов не характерна для МеР2 и при фотосорбции Н2 на фторидах происходит взаимодействие примесных ионов 02~ с водородом. В общем, к фотосорбции Н2 и 02 на оксиде и фториде магния под действием света приводит возбуждение примесей и собственных дефектов либо поверхностных состояний, индуцированных темновой адсорбцией газов.
Отличительной особенностью оксида магния является эффект вспышки люминесценции, характерный для твердого тела, при постсорбции водорода на предварительно УФ-облученных образцах. На фторидах такого эффекта не наблюдается. Впервые это явление было зарегистрировано на А1203 и получило название фотоиндуцированной адсорболюминесценции (ФИАЛ). Для выяснения механизма ФИАЛ на М§0 нами были проведены термодесорбционные измерения фотосорбированного кислорода до и после впуска водорода. Сопоставление ТПД-спектров между собой и анализ известных уравнений процесса термодесорбции свидетельствуют о следующем возможном механизме протекания ФИАЛ: Н2 + ОГ-*ОНГ + Н- (1); ОГ + Н-^ОНГ+О (3);
Н +Н'->Н2 + 0 (3); М§0 + О (К^О)* -> МяО + Ьи (4).
На первой стадии происходит диссоциативная хемосорбция водорода на активных поверхностных центрах 05~. Установлено, что процесс (1) является активационным, с понижением температуры вероятность его протекания падает, и при температуре жидкого азота эффект ФИАЛ не наблюдается. Образовавшийся радикал Н' может взаимодействовать с поверхностным кислородом 05~ (стадия 2) и (или) происходит рекомбинация радикалов водорода между собой (стадия 3). В обеих стадиях (2 и 3) выделяется энергия (0), достаточная для возбуждения твердого тела и люминесценции.
На основании вышеизложенных результатов и данных литературы следует вывод: эффект ФИАЛ, сопровождающий диссоциативную адсорбцию молекул водорода на фотоиндуцированных дырочных активных центрах типа 05~ является проявлением взаимосвязи между поверхностными фотопроцессами и процессами, происходящими в твердом теле. По своей природе данный эффект может быть сопоставим с хемиадсорболюминесценцией или радикало-рекомбинационной люминесценции. При этом отличительной чертой ФИАЛ является то, что этот тип люминесценции наблюдается при адсорбции молекул водорода и только на предварительно фотоакгивированной поверхности оксида магния.
В пятой главе представлены результаты исследования поверхностных свойств систем N^0 - МдР2, полученных фторированием оксида магния, и механических смесей с разным содержанием образцов М§0 № 8 и М§Р2 № 1 (таблица 1). Актуальность таких исследований связана с фактом загрязнения фторидов металлов кислородсодержащими примесями. Присутствие кислорода в зафиксировано и нами при использовании метода РЭМ (таблица 6), хотя методом РФА фаза оксида магния в М§Р2 не найдена. Это свидетельствует о вероятности нахождения кислорода, кислородных примесей в пустотах решетки фторидов.
Термодинамические расчеты сравнительной оценки вероятности протекания различных реакций с участием МеР2 также говорят о возможности взаимодействия фторидов с компонентами воздуха и появления оксидных примесей во фториде магния в процессе его синтеза.
Таблица 6 - Процентное содержание фаз и элементов кислорода, фтора и магния в образцах
Метод исследования Данные МрР, № I МеО № 8
РФА Содержание MgO, % - 95
Содержание MgF2, % 100 -
Содержание М§(ОН)2, % - 2
Содержание MgC0.1, % - 3
РЭМ \У((0), % 2,66 38,28
\VtfF), % 52,82 -
\VKMg), % 44,52 61,72
Чтобы выяснить, как изменяются поверхностные свойства систем с разным содержанием оксидов и фторидов ЩЗМ, в работе были получены системы М§0 -\lgF2 путем прямого фторирования оксида магния и при действии на оксид магния фтористоводородной кислотой (так называемый «кислый» способ) **.
При проведении прямого фторирования были получены системы, содержащие по данным РФА до 10 % \lgF2 (таблица 1, системы № 11-14). При 2-ом способе фторирования получены системы состава = 90 %, ~ 8 %, М§50(0Н)8 = 2 % (таблица 1, системы № 15 и № 16). Присутствие оксигидроксида магния объясняется возможностью гидратации поверхности образцов при взаимодействии с водным раствором НБ или парами воды при проведении реакции.
На то, что образуются бинарные системы, а не просто смеси, указывают данные рН-метрии. Системы М§0 - N^2, полученные 1-ым способом, по характеру изменения рН близки к фториду магния, что говорит о том, что образование \lgF2 начинается на поверхности кристаллов оксида магния и в процессе фторирования распространяется вглубь частиц: уже небольшие количества образовавшегося N^2 приводят к значительному уменьшению рНиис для систем N^0 -(рисунок 5), указывая на его поверхностное расположение.
Рисунок 5 - Диаграмма свойство (рНиис) -состав (1^0 - N^2) для оксида и фторида
магния, систем и смесей М§0 -Черные точки - экспериментальные данные по рНиис для исходных и и механических смесей. Красные точки -экспериментальные данные по рН„„с для систем - N^2, полученных разными способами
Г
а. ю
(I")
(21) . (23) (2Я
9
8 Н 7 6
(18)
М«Е.<1)
(20) <"> (24)
г-ма<11>* с-ма(12) с-ма(Ы)
с-ма*13)
М(0(8)
с-ма(15)
• с-ма(1«)
О 10 20 30 40 50 60 70 80 90 100 \\<меО),*/.
100 90 80 70 60 50 40 30 20 10 О
иш.ь1 \ • _
** Получение систем проводилось в лаборатории современных методов фторирования и
фторидов галогенов ООО «Фторидные технологии»
17
Для систем М§0 - MgF2 (образцы № 15 и № 16 в таблице 1), полученных «кислым» способом, резкое уменьшение рН в начальный момент времени является результатом образования значительного количества фазы фторида магния (до 90 % по данным РФ А), проявляющего кислотные свойства.
Таким образом, метод рН-метрии позволил определить, являются ли исследуемые объекты механическими смесями или бинарными системами, и способствовал выяснению механизма образования систем М§0 - М§Р2.
Выявленные особенности кислотно-основных свойств поверхности систем М§0 - проявились при изучении адсорбции паров воды. Изотермы
адсорбции данного адсорбата на поверхности системы (образец № 12 в таблице 1) относятся к IV типу изотерм адсорбции по классификации Брунауэра. Сравнение адсорбционных констант (БЭТ, Генри, из изотерм в относительных координатах), характера начального участка изотерм адсорбции, величин теплоты адсорбции для оксида и фторида магния, образца - М^Р2 № 12 свидетельствует о менее прочной связи адсорбированных молекул воды с поверхностью системы.
Установленный факт малой активности N^0 - MgF2 систем по отношению к парам воды, позволил нам использовать их в качестве влагозащитных покрытий для люминофоров. Для нанесения покрытий Г^О и N^0 - 1^Р2 были выбраны промышленные электролюминофоры: 1' - «3-455-115(220)» состава гп8:Си,С1 (Си = 0.22 %); 2' - образец Г обработан в плазме азота 120 сек; 3' - образец 1' капсулирован пленкой ТЮ2; 4' - «Э-515-115(220)» состава 2п5:Си,А1 (Си = 0.3 %, А1 ~ 0.02 %); 5' - образец 4' обработан в плазме азота 120 сек. Для оксидных покрытий использовали водно-спиртовый пленкообразующий раствор, содержащий нитрат магния. Добавлением в этот раствор НР получали N^0 -покрытия. Влияние нанесенных покрытий на состояние поверхности люминофоров оценивали по изменению их кислотно-основных, фотолюминесцентных и влагосорбционных свойств. Наблюдаемый характер изменения рН водных суспензий представлен на рисунке б.
11
рН
1' ( М|0 >1|! ; 10
- Рисунок 6 - Изменение рН ~"»«р>каГсМ|ОЛ18г. водных суспензий гпБ-
.............. люминофоров (исходных и
«черни 2' модифицированных
покрытиями и -
—----■ \lgF2) во времени
Сравнение полученных результатов по кислотности поверхности для различных форм люминофоров с кислотно-основными параметрами для образцов и ]У^Р2 (таблица 2), а также изученных ранее систем - MgF2 (рисунок 5), свидетельствует о поверхностном протекании процесса формирования покрытий.
Исследования по изучению фотолюминесцентных характеристик исходных и модифицированных форм электролюминофоров на спектрофлуориметре СМ 2203 показали, что в среднем интенсивность люминесценции при нанесении покрытий уменьшается примерно на 5-7 %. Вместе с тем, изучение их влагосорбционных свойств гравиметрическим методом указывает на значительное (примерно в 2 раза) уменьшение способности к влагопоглощению. Таким образом, при
18
некотором снижении яркости фотолюминесценции, нанесение покрытий приводит к повышению влагостойкости люминофоров. При этом эффект от оксид-фторидных покрытий выше, чем от оксидных. Полученные данные могут быть использованы при разработке технологического процесса синтеза люминофоров с повышенной влагостойкостью и при определении условий их хранения.
Выводы
1. Изучены свойства поверхностей оксидов и фторидов щелочноземельных металлов и магния различными методами. Кислотно-основные, адсорбционные и фотосорбционные характеристики образцов различной химической природы, измеренные в идентичных условиях, сопоставлены между собой. Установлено, что свойства изученных соединений определяются не только их химической природой, но также зависят от кристаллографического строения, способов получения и способности к образованию дефектов.
2. Показано, что исследуемые образцы оксидов и фторидов металлов представляют собой полидисперсные мезопористые порошки. Оксиды ЩЗМ обладают более развитой поверхностью и являются более крупнодисперсными по сравнению с фторидами металлов, содержат гидроксиды и карбонаты металлов в качестве примесных фаз. Фториды металлов обладают высокой кристалличностью, не содержат примесных фаз (по результатам РФА), однако методом РЭМ зафиксировано присутствие в их составе кислорода.
3. Установлено, что при переходе от оксидов к фторидам преобладающий сильноосновный характер поверхности оксидов металлов меняется на слабокислотный (или слабоосновный) для фторидов. При этом на фторидах металлов наблюдается более широкий спектр бренстедовских центров, а сила и число типов кислотных льюисовских центров, обнаруженных и детализированных методом ИК-спектроскопии адсорбированного СО, количественно превышают эти характеристики для оксидов металлов.
4. Показано, что влияние природы катиона металла проявляется в увеличении основности поверхности оксидов в ряду от М£0 к ВаО и увеличении кислотности поверхности фторидов в ряду от MgF2 к ВаР2. Особое положение катиона магния обусловливает некоторые особенности кислотно-основных свойств поверхности MgO и М§Р2. Указанная закономерность проявляются и при адсорбции паров воды.
5. Выявлено, что при переходе от фторидов к оксидам увеличивается прочность связи адсорбированных молекул воды с поверхностью образцов и уменьшается разнообразие форм адсорбированной воды, обусловленные, главным образом, наличием сильных основных центров на поверхности оксидов, с одной стороны, и частичным внедрением кислорода в кристаллическую решетку фторидов металлов, с другой.
6. Выявлены основные закономерности фотосорбции 02 и Н2 на образцах М§0: необратимость при комнатной температуре, эффект «памяти» к предварительному (до впуска газа) освещению, увеличение начальной скорости фотосорбции с ростом интенсивности падающего света. Показано, что фотосорбционная
активность по отношению к кислороду и водороду для оксида магния много выше, чем для фторида магния.
7. Для оксида магния установлен новый эффект - фотоиндуцированная адсорболюминесценция (ФИАЛ), который проявляется в виде вспышки люминесценции при постсорбции водорода на предварительно УФ-облученных образцах (А. = 254 нм). Предложен вероятный механизм этого явления.
8. Методом рН-метрии показано, что кислотные свойства систем, полученных при фторировании оксида магния, резко отличаются от таковых для обычных механических смесей оксидов и фторидов металлов, взятых в сходных пропорциях, и свидетельствуют о том, что в системах на поверхности оксидных частиц образуется фторид магния. Выявлено, что синтезированные системы мало активны по отношению к парам воды.
9. Предложен метод синтеза магниевых оксидных и оксид-фторидных покрытий из водно-спиртовых пленкообразующих растворов и показана возможность их использования в качестве влагозащитных покрытий для ZnS-электролюминофоров.
Список цитированной литературы
1. Нечипоренко А. П. Донорно-акцепторные свойства поверхности оксидов и халькогенидов : дис.... д-ра хим. наук. / А. П. Нечипоренко. - СПб., 1995. - 508 с.
2. Паукштис Е. А. ИК-спектроскопия в гетерогенном кислотно-основном катализе / Е. А. Паукштис. - Новосибирск : Наука, 1992. - 256 с.
3. Ostrovskii V. Е. Some problems in adsorption and calorimetric studies of the steps of catalytic processes / V. E. Ostrovskii // Journal of Natural Chemistry. 2004. - Vol. 13. -P. 123- 147.
Основные результаты диссертации опубликованы в работах
1. Екимова И. А. Кислотно-основные, адсорбционные и фотосорбционные свойства образцов оксида магния / И. А. Екимова, Т. С. Минакова // Физикохимия поверхности и защита материалов. - 2008. - Т. 44, № 3. - С. 330-334.
2. Изучение поверхностных свойств кислородных соединений кремния и кальция / И. А. Екимова, Е. Б. Дайбова, Т. С. Минакова, В. С. Захаренко // Оптика атмосферы и океана. - 2008. - Т. 21, № 6. - С. 563-565.
3. Екимова И. А. Влияние освещения на адсорбционную способность оксида магния / И. А. Екимова, Т. С. Минакова, В. К. Рябчук // Изв. высш. учеб. заведений. Физика. - 2008. - Т.51, № 8/2. - С. 159-162.
4. Исследование поверхностных свойств оксидов и фторидов щелочно-земельных металлов / И. А. Екимова, Т. С. Минакова, В. В. Козик, Р. В. Оствальд, В. В. Шагалов // Ползуновский вестник. - 2009. - № 3. - С. 256-258.
5. Екимова И. А. Фотосорбционные свойства оксида магния / И. А. Екимова, В. К. Рябчук, Т. С. Минакова // Полифункциональные материалы : сб. статей. - Томск : Изд-во Том. ун-та, 2001. - С. 100-103.
6. Екимова И. А. Теплоты адсорбции паров воды на образцах оксида магния / И. А. Екимова, Т. С. Минакова // Всероссийский семинар 'Термодинамика поверхностных явлений и адсорбции": труды семинара. - Иваново : Иван. гос. хим.-технол. ун-т, 2003. - С. 57.
7. Екимова И. А. Пористость образцов оксида магния // Химия : материалы ХП Междунар. науч. студ. конф. "Студент и научно-технический прогресс". -Новосибирск: Новосиб. гос. ун-т, 2003. - С. 117-118.
8. Екимова И. А. Особенности адсорбции паров воды на поверхности оксида магния / И. А. Екимова, Т. С. Минакова, Е. В. Аверина // Проблемы термодинамики поверхностных явлений и адсорбции. - Иваново : Иван. гос. хим.-технол. ун-т, 2005. - С. 98-100.
9. Екимова И. А. Адсорбционные и кислотно-основные свойства поверхности оксидов щелочно-земельных металлов и магния / И. А. Екимова, Т. С. Минакова // Полифункциональные химические материалы и технологии : сб. статей. - Томск,
2007.- Т. 1.-С. 83-85.
10. Екимова И. А. Поверхностные свойства порошкообразных оксидов и фторидов магния, кальция, стронция и бария / И. А. Екимова, Т. С. Минакова // Полифункциональные наноматериалы и нанотехнологии : сборник статей. -Томск, 2008. - Т. 2. - С. 274-277.
11. Екимова И. А. Адсорбция паров воды и кислотно-основное состояние поверхности оксидов и фторидов щелочно-земельных металлов и магния / И. А. Екимова, А. Г. Царёва, Т. С. Минакова // Физика и химия высокоэнергетических систем : сб. материалов IV Всерос. конф. молодых ученых. - Томск : ТМЛ-Пресс,
2008. - С. 389-392.
12.Дайбова Е. Б. Кислотно-основное состояние поверхности оксидов кальция и магния / Е. Б. Дайбова, Т. С. Минакова, И. А. Екимова // Полифункциональные наноматериалы и нанотехнологии: сб. статей. - Томск, 2008. - Т. 1. - С. 175-177.
13. Екимова И. А. Изучение оксидов и фторидов ЩЗМ и магния адсорбционно-структурным методом / И. А. Екимова, Е. А. Ляпина, Т. С. Минакова // Молодежная научная конференция Томского государственного университета,
2009. - Томск : Изд-во Том. ун-та, 2010. - Вып. 2 : Проблемы естествознания. -С. 47-49. - (Труды Томского государственного университета ; т. 273 : Серия общенаучная).
14. Екимова И. А. Адсорбция паров воды на оксидах и фторидах магния, кальция, стронция, бария / И. А. Екимова, Т. С. Минакова, Е. А. Ляпина // Материалы XIV Всероссийского симпозиума с участием иностранных ученых "Актуальные проблемы теории адсорбции, пористости и адсорбционной селективности". -Москва; Клязьма, 2010. - С. 191.
Список используемых сокращений
ЩЗМ - щелочноземельные металлы;
ФИАЛ - фотоиндуцированная адсорболюминесценция;
КОП - кислотно-основной параметр;
КОЦ - кислотно-основные центры;
БКЦ - бренстедовский кислотный центр;
ЛКЦ - льюисовский кислотный центр;
РЦА - распределение центров адсорбции;
рНиис_ рН изоионного состояния вещества;
РН5", ю", 15- - значения рН суспензии через 5,10,15 с момента контакта образца с водой;
%рк - количество адсорбированного красителя, моль/м2;
Но - функция кислотности Гаммета, определена из спектров РЦА;
п.п. - полосы поглощения;
Буд - удельная поверхность, м"/г;
ам - ёмкость монослоя, рассчитанная по уравнению БЭТ, ммоль/м2; Сбэт - константа уравнения БЭТ; Кг - константа уравнения Генри;
К - константа из изотерм адсорбции в относительных координатах;
Б0 - площадка молекулы адсорбата, (А)";
г - время жизни активных центров, сек;
Умах - максимальная скорость фотосорбции, Па/сек;
АРх, - фотосорбционная ёмкость, Па.
Тираж 100. Заказ № 553. Томский государственный университет систем управления и радиоэлектроники 634050, г. Томск, пр. Ленина, 40
Введение.
Глава 1. Литературный обзор.
1.1 Оксиды и фториды магния и щелочноземельных металлов (Са, Бг, Ва).
1.1.1 Некоторые сведения о свойствах элементов, входящих в состав изучаемых соединений.
1.1.2 Структура и физико-химические свойства оксидов и фторидов ЩЗМ и магния.
1.1.3 Сравнительная характеристика оксидов и фторидов ЩЗМ и магния.
1.1.4 Методы получения оксидов и фторидов ЩЗМ и магния.
1.1.5 Области применения оксидов, фторидов ЩЗМ и магния.
1.2 К вопросу об исследовании кислотно-основных свойств поверхности твёрдых
1.2.1 Метод рН-метрии.
1.2.2 Индикаторный метод.
1.2.3 ИК-спектроскопия.
1.3 Исследования адсорбции паров воды на твердой поверхности.
1.3.1 Особое поведение адсорбированной воды.
1.3.2 Природа взаимодействия воды с поверхностью.
1.3.3 Адсорбция паров воды на оксидах и фторидах ЩЗМ и магния.
1.4 Фотостимулированные процессы на поверхности твердого тела.
1.4.1 Количественные характеристики фотоадсорбции.
1.4.2 Фотостимулированные процессы на поверхности оксидов и фторидов щелочноземельных металлов и магния.
1.5 Постановка задачи. Выбор объектов и методов исследования.
Глава 2. Объекты исследования и методика проведения эксперимента.
2.1 Объекты исследования и их идентификация.
2.2 Качественный эмиссионный спектральный анализ.
2.3 Методика определения удельной поверхности.
2.4 Лазерный экспресс-анализ распределения размеров твердых частиц.
2.5 Растровая электронная микроскопия.
2.6 Методика исследования кислотно-основных свойств поверхности.
2.7 Методика адсорбционных измерений.
2.7.1 Весовой (гравиметрический) метод изучения адсорбции.
2.7.2 Определение размеров и объема пор.
2.7.2.1 Изучение пористой структуры образцов оксидов и фторидов ЩЗМ и магния.
2.8 Методика исследования фотостимулированных процессов.
2.8.1 Описание установки.
2.8.2 Методы очистки и обработки образцов. Получение и очистка адсорбатов.
2.9 Оценка точности измерений.
Глава 3. Поверхностные свойства оксидов и фторидов ЩЗМ и магния.
3.1 Кислотно-основные свойства поверхности оксидов и фторидов ЩЗМ и магния.
3.1.1 Исследование кислотности поверхности оксидов и фторидов щелочноземельных металлов и магния методом рН-метрии.
3.1.1.1 Влияние термоактивации на кислотно-основные свойства поверхности оксидов магния и кальция.
3.1.1.2 Тепловыделение при гидратации оксидов щелочноземельных металлов и магния.
3.1.2 Исследования поверхностной кислотности оксидов и фторидов ЩЗМ и магния индикаторным методом.
3.1.2.1 Адсорбция водорастворимых красителей на поверхности оксидов и фторидов ЩЗМ и магния.
3.1.3 ИК-спектроскопическое исследование поверхности МеО и MeF2.
3.2 Адсорбционные исследования паров воды на оксидах и фторидах ЩЗМ и магния.
3.2.1 Адсорбция паров воды на поверхности оксидов ЩЗМ и магния.
3.2.2 Адсорбция паров воды на поверхности фторидов ЩЗМ и магния.
3.2.3 Особенности адсорбции паров воды оксидами и фторидами ЩЗМ и магния.
3.3 Взаимосвязь кислотно-основных свойств поверхности оксидов и фторидов ЩЗМ и магния с адсорбционной способностью по отношению к парам воды.
Глава 4. Фотосорбция кислорода и водорода на различных образцах оксида магния.
4.1 Анализ барограмм фотосорбции.
4.2 Кинетические механизмы гетерогенных фотореакций.
4.2.1 Кинетика Ленгмюра-Хиншельвуда.
4.2.2 Кинетика Или-Ридила.
4.3 Кинетика фотосорбции кислорода и водорода на MgO.
4.4 Влияние способа получения на кислотно-основные свойства поверхности и фотостимулированные процессы образцов оксида магния.
4.5 Фотоиндуцированная адсорболюминесценция на MgO.
Глава 5. Синтез систем MgO — MgF2 и исследование их поверхностных свойств.
5.1 Термодинамический анализ взаимодействия в системах с участием МеО и MeF2.
5.2 Синтез систем MgO - MgF2 и их идентификация.
5.3 Кислотно-основные свойства поверхности систем MgO — MgF2 и механических смесей оксида и фторида магния.
5.4 Адсорбция паров воды на поверхности системы MgO - MgF2.
5.5 Формирование защитных покрытий (MgO и MgO - MgF2) на поверхности люминофоров на основе сульфида цинка.
Выводы.
Актуальность работы. Для понимания природы и механизма процессов, протекающих на поверхности твердого тела, необходимо иметь комплекс экспериментальных данных, характеризующих группы родственных соединений с различных, но взаимосвязанных сторон. Это позволяет проводить сравнительный анализ поверхностных свойств соединений в зависимости от входящих в их состав металлов, неметаллов, кристаллографического строения, физических характеристик, и использовать полученные выводы при решении практических задач. В данной работе такого рода исследования проведены на оксидах и фторидах щелочноземельных металлов (ЩЗМ) и магния.
Значительный интерес к оксидам и фторидам ЩЗМ в последние десятилетия вызван их многофункциональностью [1, 2]. Так, оксиды щелочноземельных металлов и магния применяются в качестве составной части катализаторов, носителей активной фазы и самостоятельной каталитической системы, наибольшее распространение они получили как удобные модельные матрицы для химического модифицирования [2]. Фториды ЩЗМ и магния успешно применяются для изготовления активных и пассивных элементов фотоники, при конструировании оптических приборов и технических устройств [3]. Разностороннее изучение свойств фторидов металлов важно с позиций развивающихся фторидных технологий.
Анализ литературных данных показывает, что наличие во фторидах металлов кислородсодержащих примесей приводит к изменению их химических и физических свойств, отражается на технических характеристиках готовой продукции (например, оптической керамики). В связи с этим необходимо иметь информацию о свойствах оксидов тех же металлов, чтобы определить их возможное влияние на поверхностные свойства фторидов металлов. На примере оксидов и фторидов ЩЗМ можно проследить изменение поверхностных свойств в зависимости от природы аниона (МеО —> МеБг).
Сведения о состоянии поверхности и факторах её изменяющих можно получить и при изучении фотопроцессов. Исследования фотоиндуцированных процессов в гетерогенных системах продолжают оставаться актуальными, и направлены на установление механизмов этих процессов, на создание новых и модификации известных фотоактивных дисперсных материалов [4, 5]. В этом отношении в последнее десятилетие интерес к изучению фотосорбционных свойств оксидов и фторидов ЩЗМ резко возрос.
Большинство исследований физико-химических свойств поверхности относятся к индивидуальным оксидам или фторидам ЩЗМ и магния. Данных о сравнительном изучении поверхностных свойств этих соединений в литературе недостаточно, что не позволяет выявить связь между структурой и свойствами поверхности, между природой дефектов и их ролью при протекании поверхностных реакций в ряду оксидов и фторидов металлов.
Цель работы заключалась в выявлении кислотно-основных, адсорбционных, фотосорбционных свойств поверхности оксидов и фторидов щелочноземельных металлов и магния и выяснении влияния на поверхностные свойства исследуемых соединений природы металлов и неметаллов, кристаллографической структуры, способности к образованию дефектов.
Для достижения поставленной цели необходимо было решить следующие задачи: исследовать фазовый состав оксидов и фторидов ЩЗМ и магния, химическую природу примесей, определить текстурные характеристики (удельную поверхность, дисперсность, пористость) образцов; провести сравнительное исследование кислотно-основного состояния поверхности МеО и МеРг методами рН-метрии, адсорбции индикаторов Гаммета и ИК-спектроскопии; выявить закономерности адсорбции паров воды на поверхности образцов оксидов и фторидов ЩЗМ и магния; исследовать фотоиндуцированные процессы на поверхности промышленных и синтезированных в лаборатории образцах оксида магния; провести синтез систем М^О - путем фторирования оксида магния в разных условиях, изучить поверхностные свойства полученных композитов; разработать способ нанесения магниевых оксидных и оксид — фторидных покрытий на поверхность ZnS-люминoфopoв для повышения их влагостойкости.
Научная новизна:
1. Установлено, что при переходе от оксидов к фторидам щелочноземельных металлов преобладающий сильноосновный характер поверхности оксидов меняется на слабокислотный (или слабоосновный) для фторидов. При этом на фторидах ЩЗМ и магния наблюдается более широкий спектр бренстедовских центров, а сила кислотных льюисовских центров значительно выше, чем для оксидов металлов.
2. Впервые показано, что оксид магния по сравнению с фторидом магния более фотосорбционно активен по отношению к таким газам, как кислород и водород.
3. Впервые обнаружен эффект фотоиндуцированной адсорболюминесценции (ФИАЛ) на MgO, проявляющийся в виде вспышки люминесценции при УФ облучении (к ~ 254нм). Предложен его возможный механизм: диссоциативная адсорбция молекул водорода на фотоиндуцированных дырочных активных центрах типа 05~.
4. Установлено, что различие в поверхностных свойствах оксидов и фторидов ЩЗМ наряду с влиянием природы аниона (в большей степени) и катиона, определяется кристаллографической структурой исследованных образцов, методами синтеза, дефектностью и наличием примесей.
Практическая значимость работы заключается в возможности использования кислотно-основных параметров (рНнис, рНу, рНк)",рН15"): для оценки общего кислотно-основного состояния поверхности образцов фторидов и оксидов металлов и предположения о КОЦ разной природы и силы; для построения диаграмм свойство — состав (рН„„с — МйО — М^г), показывающих различие в кислотности-основности поверхности механических смесей с разным содержанием оксида и фторида магния и систем на их основе; для первоначального входного контроля при оценке кислотно-основных свойств поверхности любых твердых тел.
Предложена методика нанесения покрытий М^О — М^Бг из водно-спиртовых пленкообразующих растворов, повышающая влагозащитные свойства 2п8-электролюминофоров.
Рекомендовано обнаруженный эффект ФИАЛ на МцО учитывать, например, при проведении люминесцентной дефектоскопии и при изготовлении оптических сенсоров, включающих оксид магния, и эксплуатирующихся в условиях УФ облучения в контакте с водородсодержащей газовой средой.
Положения, выносимые на защиту:
1. Результаты исследования кислотно-основных свойств поверхности оксидов и фторидов ЩЗМ и магния, синтезированных систем (М^О - М^Р2) и покрытий (1^0 и М§0 — методами рН-метрии, адсорбции индикаторов Гаммета и ИК-спектроскопии.
2. Экспериментальные данные по адсорбции паров воды, бензола, оксида углерода (II) на поверхности оксидов и фторидов магния и ЩЗМ, механизм адсорбционных взаимодействий.
3. Закономерности фотосорбционных процессов, протекающих на поверхности оксида магния (необратимость, начальная скорость фотосорбции, фотосорбционная емкость); механизм обнаруженного эффекта ФИАЛ на
4. Различия в поверхностных свойствах систем М§0 — Ъ^Бг с разной степенью фторирования.
Диссертационная работа проводилась в рамках координационного плана Научного совета РАН по адсорбции и хроматографии на 2003-2010 годы (код тем 2.15.3.Ц; 2.15.4.М; 2.15.1.Т; 2.15.2.АП); при выполнении НИР ФЦП «Интеграция науки и высшего образования России на 2002-2006 гг.» (стажировка в НИИ Физики им. В.А. Фока при СПбГУ, 2004 г.) и при частичной финансовой поддержке гранта РФФИ (проект № 09-03-99038).
выводы, сделанные по результатам рН-метрии, потенциометрии и индикаторного метода анализа.
На основании результатов исследования кислотности поверхности оксидов и фторидов ЩЗМ разными методами были составлены общие представления и отличительные особенности кислотно-основного состояния поверхности МеО и МеБг. Наличие на поверхности указанных соединений как кислотных, так и основных центров придает ей характер бифункциональное™, который должен проявиться в процессах адсорбции, катализа и фотоиндуцированных явлениях.
3.2 Адсорбционные исследования паров воды на оксидах и фторидах ЩЗМ и магния
Для прогнозирования активности поверхностных функциональных групп оксидов и фторидов щелочноземельных металлов и магния в различных химических процессах или при выборе оптимального катализатора, адсорбента требуется комплекс методов исследования поверхности. Ранее были рассмотрены кислотно-основные свойства поверхности этих веществ.
В связи с тем, что оксиды и фториды ЩЗМ хранятся и работают в качестве адсорбентов и катализаторов в атмосфере с различной влажностью, то необходимы знания об отношении образцов к присутствующим парам воды при разных условиях. Пары воды реагируют на кислородсодержащие функциональные группы, а также способны к сильным специфическим взаимодействиям, включая водородные и донорно-акцепторные.
3.2.1 Адсорбция паров воды на поверхности оксидов ЩЗМ и магния
Весовым адсорбционным методом изучали адсорбцию паров воды на образцах оксидов ЩЗМ и магния, предварительно вакуумированных (Р ~ 10"4 Па) при комнатной температуре в течение 24 часов. После проведения опыта образец откачивался в вакууме при ТК0Мн в течение 4 часов, затем он подвергался термовакуумированию при 573 К в течение 4 часов (Р ~ 10"4 Па). После этого вновь проводился эксперимент с адсорбатом. На рисунке 3.13 представлены изотермы адсорбции паров воды на поверхности образцов оксидов магния, кальция и бария, предварительно вакуумированных при ТКОми и термовакуумированных при 573 К.
Изотермы адсорбции для всех образцов оксидов магния и оксида кальция относятся к IV типу изотерм адсорбции по классификации Брунауэра [65]. В интервале относительных давлений 0,05-0,35 изотермы адсорбции описываются уравнением БЭТ. Полученные значения константы уравнения БЭТ (Сбэт) и величины ёмкости монослоя ач приведены в таблице 3.6. Изотермы адсорбции паров воды для оксида бария (рисунок 3.13) имеют вид изотерм У типа.
Рисунок 3.13 — Изотермы адсорбции паров воды на поверхности оксидов магния, кальция и бария: А - М§0 (5), Б - СаО (9), В - ВаО (10). Сплошная линия — предварительная обработка при Т = 298 К, пунктирная линия - обработка при Т = 573 К. и " " — адсорбция; О и " "Д " — десорбция
В таблице 3.6 представлены расчетные данные, полученные из изотерм адсорбции паров воды на поверхности оксидов ЩЗМ и магния. Из таблицы видно, что количество адсорбированного вещества при заполнении монослоя увеличивается с повышением-температуры предварительной обработки. Подобную зависимость наблюдали в работе [122], где было показано влияние на величину ам условий обезгаживания оксидов металлов. Обезгаживание их поверхности при прогрессивно повышающихся температурах приводило к потере лигандов Н20 и ОН-групп. В результате целостность поверхностного слоя нарушалась, и поверхность переставала быть атомногладкой. Таким образом, предварительная термообработка в вакууме может приводить к образованию активных мест на поверхности или появлению пор различной природы, что не всегда достижимо при вакуумировании при комнатной температуре. Эти процессы и приводят, к увеличению величины мономолекулярного покрытия поверхности.
1. Ардашникова Е. И. Неорганические фториды // Соровский образовательный журнал. — 2000. Т. 6, № 8. - С. 54-60.
2. Химия привитых поверхностных соединений / под ред. Г. В. Лисичкина. — М. : Физматлит, 2003. — 592 с.
3. Щеулин А. С. Голографические среды на основе кристаллов со структурой флюорита с центрами окраски / А. С. Щеулин, А. Е. Ангервакс, А. И. Рыскин. — СПб. : ИТМО, 2009. — 127 с.
4. Рябчук В. К. Фотостимулированное дефектообразование и молекулярные процессы на поверхности широкощелевых галогенидов и оксидов металлов : автореф. дис. . д-ра. физ.-мат. наук / В. К. Рябчук. Санкт-Петербург, 2008. — 32 с.
5. Емелин А. В. Спектральные и кинетические проявления фотопроцессов на поверхности дисперсных оксидов металлов в газах и растворах : автореф. дис. . д-ра физ.-мат. наук / А. В. Емелин. Санкт-Петербург, 2009. — 32 с.
6. Волков А. И. Большой химический справочник / А. И. Волков, И. М. Жарский. — Минск : Современная школа, 2005. — 607 с.
7. Химия : справочник / В. Шретер и др. ; пер. с нем. В. А. Молочко, С. В. Крынкиной. — М.: Химия, 2000. 646 с.
8. Никитин И. В. Кислородные соединения галогенов Х2О2 (X атом галогена) // Успехихимии. 2002. - Т. 71, № 2. - С. 99-112.
9. Хьюи Дж. Неорганическая химия: строение вещества и реакционная способность / Дж. Хьюи. М.: Химия, 1987. - 696 с.
10. Бацанов С. С. Электроотрицательность элементов и химическая связь / С. С. Бацанов. Новосибирск : Наука, Сиб. отд-ние. - 1962. - 196 с.
11. Некрасов Б. В. Основы общей химии / Б. В. Некрасов. М. : Химия, 1972 — Т. 1. — 656 с.; 1973.-Т. 2.-688 с.
12. Лазарев В. Б. Химические и физические свойства простых оксидов металлов / В. Б. Лазарев., В. В Соболев, И. С Шаплыгин. М. : Наука, 1983. - 239 с.
13. Лидин Р. А. Справочник по общей и неорганической химии / Р. А. Лидин. — М. : КолосС, 2008. 350 с.
14. Химическая технология керамики и огнеупоров / под ред. И. Я. Гузмана. — М. : Стройматериалы, 2005. 336 с.
15. Мозговой А. Н. Пирамида из главных оксидов и углерода, образующих огнеупоры // Новые огнеупоры. 2008. - № 6. - С. 58-60.
16. Адсорбция молекул оксида азота на поверхности наноразмерных кластеров никеля, сформированных на пленке оксида магния со структурой поверхности (111) / Д. Ф. Ремер и др. // Изв. высш. учеб. заведений. Физика. 2010. — Т. 53, № 5. — С. 40-45.
17. Малышев В. Н. Формирование керамических покрытий методом микродугового оксидирования в электролитах суспензиях / В. Н. Малышев, К. М. Зорин // Упрочняющие технологии и покрытия. - 2006. - № 11. С. 34-40.
18. Дукельский К. В. Формирование наноразмерных MgO-покрытий на поверхности стекла / К .В Дукельский., С. К Евстропьев // Оптический журнал. — 2010. — Т. 77, № 1. — С. 58-64.
19. Уэллс А. Структурная неорганическая химия : в 3 т. : пер. с англ. / А. Уэллс. — М.: Мир, 1987.-Т. 1.-408 с.
20. ГГартэ Э. Некоторые главы структурной неорганической химии / Э. Партэ ; пер. с англ. А. В. Аракчеевой ; под ред. Д. Ю. Пущаровского. — М.: Мир, 1993. 144 с.
21. Сорокин Н. И. Особенности суперионного транспорта во фторидных твердых растворах со структурой типа флюорита // Электрохимия. 2006. - Т. 42, № 7. — С. 828—844.
22. Трновцова В. Фторидные твердые электролиты / В. Трновцова., П. П. Федоров, И. Фурар // Электрохимия. 2009. - Т. 45, № 6. - С. 668-678.
23. Рысс И. Г. Химия фтора и его неорганических соединений / И. Г Рысс. — М. : Госхимиздат, 1966. 718 с.
24. Басиев Т. Т. Фторидная оптическая нанокерамика / Т. Т. Басиев и др. // Изв. Рос. акад. наук. Сер. хим. 2008. - № 5. - С. 863-872.
25. Коттон Ф. Современная неорганическая химия / Ф. Коттон, Дж. Уилкинсон. — М. : Мир, 1969.-4.1.-494 с.
26. Анорганикум : в 2 т. / Г. Блументаль и др.. М.: Мир, 1984. - Т. 1. - 668 с.
27. Хуснутдинов В. А. Физико-химические основы технологии переработки нетрадиционного магнезиального сырья на чистый оксид и другие соединения магния : автореф. дис. .д-ра. хим. наук / В. А. Хуснутдинов. — М., 2000. — 36 с.
28. Anhui gongcheng keji xueyuan xuebao. Ziran kexue ban / Hu Zhang-wen et.al. // J. Anhui Univ. Technol. and Sei. Natur. Sei. 2004. - Vol. 19, № 4. - P. 18-21.
29. Лидин Р. А. Неорганическая химия в реакциях: справочник / Р. А. Лидин, В. А. Молочко, Л. Л. Андреева; под ред. Р. А. Лидина. М.: Дрофа, 2007. — 637 с.
30. Руководство по неорганическому синтезу : в 6 т. / под ред. Г. Брауэра. — М.: Мир, 1985. -Т.3.-392 с.
31. Рентгенографическое исследование субструктуры MgO, полученной разложением различных соединений магния. / Е. Е Бадин и др. // Неорганические материалы. —1975. — Т. 11, № 11.-С. 455-460.
32. Треущенко В. А. Получение оксида магния с высокими адсорбционными свойствами // Журнал прикладной химии. 2004. — Т. 77, вып. 9. - С. 1442-1445.
33. Малоотходная технология получения фторидов бария, лития и кальция для термолюминесцентных детекторов и высокоплотных сцинтилляторов М.Б Серегин и др. // Оборон, комплекс научно-техническому прогрессу России. - 1999. - №3. - С. 75.
34. Синтез сорбента на основе фторида кальция / И. И Жерин и др. // Технология и автоматизация атомной энергетики : отраслевая научно-техническая конференция : сб. статей. — Северск, 2003. С. 6-9.
35. Получение гранулированного фторида кальция / В.Ю. Кольцов и др. // Хим. технол. — 2005. — № 12.-С. 3-5.
36. Фиськов А. А. Получение сорбционных материалов на основе фторидов щелочных и щелочно-земельных металлов для разделения азеотропной смеси UFö — HF / А. А Фисько, А. Ю Макасеев // Атомная энергия. 2010. Т. 109, № 3. - С. 158-161.
37. Влияние термообработки в атмосфере HF на оптические и электрофизические свойства керамики BaF2 / H. И. Сорокин и др. // Неорганические материалы. — 2009. — Т. 45, № 10.-С. 1265-1270.
38. Мещеряков Е. П. Сорбционные, фото- и рентгеностимулированные процессы на фторидах щелочно-земельных металлов и магния : дис. . канд. хим. наук. / Е. П. Мещеряков Томск, 1995. - 155 с.
39. Naylor В. P. Heat contents at high temperatures of magnesium and calcium fluorides // J. Amer. Chem. Soc. 1945. - Vol. 67, № 1. - P. 150-152.
40. Волынец Ф. К. Способы изготовления, структура и физико-химические свойства оптической керамики / Ф. К Волынец // Оптико-механическая промышленность. 1973. — № 9. -С. 48-61.
41. Волынец Ф. К. Оптические свойства и области применения оптической керамики / Ф. К. Волынец // Оптико-механическая промышленность. 1973. -№ 10. - С. 47-57.
42. Танабе К. Твердые кислоты и основания. / К. Танабе. М. : Мир, 1973. - 184 с.
43. Моррисон С. Химическая физика поверхности твердого тела / С. Моррисон. М. : Мир, 1988.-488 с.
44. Иконникова JT. Ф. Взаимосвязь поверхностных и структурных свойств сульфида цинка с оптическими характеристиками изделий на его основе : дис. . канд. хим. наук. / Л. Ф. Иконникова. Томск, 2002. — 138 с.
45. Нечипоренко А. П. Исследование кислотности твердых поверхностей методом рН-метрии / А. П. Нечипоренко, А. И. Кудряшова. // Журн. прикладной химии. 1987. - Т. 60, №9.-С. 1957-1961.
46. Минакова Т. С. Адсорбционные процессы на поверхности твердых тел / Т. С. Минакова. — Томск : Изд-во Том. ун-та, 2007. — 284 с.
47. Исследование кислотности поверхности порошков и свойств тонких пленок системы ТагС>5 — ЬагОз, полученных золь-гель методом / В. В. Козик и др. // Известия Томского политехнического университета. — 2006. — Т. 309, № 4. — С. 95—97.
48. Алесковский В. Б. Физико-химические основы рационального выбора активных материалов / В. Б. Алесковский, В. Г. Корсаков. — Л .: Изд-во Ленингр. ун-та, 1980. — 160 с.
49. Киселёв В.Ф. Поверхностные явления в полупроводниках и диэлектриках / В. Ф. Киселев. М.: Наука, 1970. - 400 с.
50. Иконникова К. В. Влияние структурных параметров оксида алюминия различной модификации на кислотно-основные свойства его поверхности : дис. . канд. хим. наук / К. В. Иконникова. Кемерово, 2007. — 125 с.
51. Нечипоренко А. П. Донорно-акцепторные свойства поверхности оксидов и халькогенидов : дис. . д-ра хим. наук. / А. П. Нечипоренко. СПб., 1995. - 508 с.
52. Экспериментальные методы исследования катализа / под ред. Р. Андерсона. — М. : Мир, 1972.-480 с.
53. Кислотно-основной спектр поверхности люминофора с длительным послесвечением на основе сульфида цинка / В. А. Зинченко и др. // Химия твердого тела и современные микро- и нанотехнологии : материалы III Междунар. конф. Ставрополь, 2003. - С. 212.
54. Глазнева Т. С. Кислотно-основные свойства поверхности оксидных катализаторов: от изучения водных суспензий к исследованиям in situ / Т. С. Глазнева, Н. С. Коцаренко, Е. А. Паукштис // Кинетика и катализ. 2008. - Т. 49, № 6. - С. 906-915.
55. Альберт А. Константы ионизации кислот и оснований / А. Альберт, Е. Сержант. М.; Л. : Химия, 1964. - 262 с.
56. Бишоп Э. Индикаторы / Э. Бишоп. М.: Мир, 1976. - Т. 1. - 496 с.; Т. 2. - 446 с.
57. Волькенштейн Ф. Ф. Электронная теория катализа на полупроводниках. / Ф. Ф. Волькенштейн. М. : Физматгиз, 1960. - 431 с.
58. Рудакова А. В. Физико-химия поверхности фторидов щелочно-земельных металлов и магния и фотостимулированные процессы, протекающие на них : дис. . канд. хим. наук / А. В. Рудакова. Томск, 1999. - 142 с.
59. Кузнецов А. М. Адсорбция паров воды на металлических поверхностях // Соровский образовательный журнал. 2000. — № 5. — С. 45-51.
60. Витковская Н. М. Метод молекулярных орбиталей: основные идеи и важные следствия // Соровский образовательный журнал. 1996. - № 6. - С. 58-64.
61. Стрелов К. К. Технология огнеупоров / К. К. Стрелов, П. С. Мамыкин. М. : Металлургия, 1978. - 376 с.
62. Грег С. Адсорбция, удельная поверхность, пористость / С. Грег, К. Синг. — М. : Мир, 1984.-306 с.
63. Киселев А. В. Межмолекулярные взаимодействия в адсорбции и хроматографии / А.
64. B. Киселев. М. : Высш. шк., 1986. - 360 с.
65. Карнаухов А. П. Адсорбция. Текстура дисперсных и пористых материалов / А. П. Карнаухов. Новосибирск : Наука, Сиб. предприятие РАН, 1999. - 470 с.
66. Leeuw N. Н. Atomistic simulation of the Effect of Dissociative Adsorption of Water on the Surface Structur and Stability of Calcium and Magnesium Oxide / N. H. Leeuw, G. W. Watson, S.
67. C. Parker // J. Phys. Chem. 1995. Vol. 99, № 47. - P. 17219-17225.
68. Kim Y. D. Dissociation of Watter on MgO(lOO) / Y. D. Kim, J. Stultz, D. W. Goodman // J. Phys. Chem.-2002.-Vol. 106, №7.-P. 1515-1517.
69. Water monolayers on MgO(lOO): structural investigations by LEED experiments, tensor LEED dynamical analysis and potential calculations / D. Ferry et.al. // Surf. Sci. — 1998. — Vol. 409, № 1. — L. 101-116.
70. Xu C. Structure and Geometry of Water Adsorbed on the MgO(lOO) Surface / C. Xu, D. W. Goodman // Chem. Phys. Lett. 1997. - Vol. 265. - P. 341-346.
71. Delle Site L. The structure and spectroscopy of monolayers of water on MgO: An ab initio study / L. Delle Site, A. Alav, R. M. Lynden-Bell // J. Chem. Phys. 2000. - Vol. 113. - P. 33443350.
72. Лазебных В. Ю. Теоретическое исследование эффекта спин-селективной адсорбции молекул воды на поверхности MgO / В. Ю. Лазебных, А. С. Мысовский, Л. Н. Синица // Оптика и спектроскопия. 2009. - Т. 107, № 4. - С. 607-612.
73. Эффект спин-селективной адсорбции водяного пара / А. А. Вигасин и др. // Докл. Акад. наук. 2002. - Т. 387, № 5. - С. 1-4.
74. Потехин С. А. Теоретическая модель эффекта спин-селективной адсорбции молекул воды / С. А. Потехин, Р. С. Хусайнова // Биофиз. химия. 2005. - № 118. - С. 84.
75. Morimoto Т. Adsorption of water on CaF2: two-dimensional condensation of water / T. Morimoto, T. Kadota, Y. Kuroda // J. Colloid and Interface Sci. 1985. - Vol. 106, № 1. - P. 104109.
76. Kuroda Y. Effect of chemisorbet Water on the two-dimensional Condensation of Water and argon on CaF2 // J. Chem. Soc. Faraday Trans. 1985. - Vol. 81, № 3. - P. 757-768.
77. Kuroda Y. Interaction of Water with the surface of SrF2. II. Strongly adsorber water on SrF2 / Y. Kuroda, T. Morimoto // Langmuir. 1988. Vol. 4, № 2. - P. 430-432.
78. Barraclough P. B. Adsorption of water on MgF2 / P. B. Barraclough, P. G. Hall // J. Chem. Soc. Faraday Trans. 1976. - Vol. 72, № 3. - P. 610-618.
79. Barraclough P. B. Adsorption of water on CaF2, BaF2, PbF2 / P. B. Barraclough, P. G. Hall // J. Chem. Soc. Faraday Trans. 1975. - Vol. 71, № 11. - P. 2266-2276.
80. Wojciechowska M. Hydroxyl groups on the surface of magnesium fluoride // Bull. Acad. Polon.Ser. Sci. Chim.- 1981.-Vol. 29, № 11-12.-P. 531-547.
81. Wojciechowska M. Surface chemistry of porous magnesium fluoride / M. Wojciechowska, R. Fiedorov // J. Fluorine Chem. 1980. - Vol. 15. - P. 443-452.
82. Wojciechowska M. Wlasnosci powierzchni i Iktywnosc katalityczna fluozku magnezu / M. Wojciechowska, R. Fiedorov, W. Kania // Chemia stosowana. — 1977. Vol. 21. № 3—4. — P. 431— 439.
83. Емелин А. В. Экспериментальное исследование и моделирование процессов создания центров фотостимулированной адсорбции на поверхности широкощелевых оксидов : дис. . канд. физ.-мат. наук / А. В. Емелин. — СПб, 1995. — 196 с.
84. Басов Л. Л. Щелочно-галоидные соли как фотокатализаторы / Л. Л. Басов, В. К. Рябчук, Ю. П. Солоницын // Успехи фотоники. Л., 1980. - Вып. 7. - С. 3—48.
85. Бородина Т. А. Исследование адсорбционных и фотосорбционных процессов на цинк-сульфидных кристаллофосфорах : дис. . канд. хим. наук / Т. А. Бородина. Томск, 1978. — 162 с.
86. Мещеряков Е. П. Фотосорбция кислорода на фторидах щелочно-земельных металлов / Е. П. Мещеряков, В. К. Рябчук, Т. С. Минакова // Хим. физика. 1991. - Т. 10, № 10. - С. 1331-1334.
87. Артемьев Ю. М. Введение в гетерогенный фотокатализ / Ю. М. Артемьев, В. К. Рябчук. СПб.: Изд-во СПбгУ, 1999. - 304 с.
88. Рябчук В. К. Нанофотоника гетерогенных систем / В. К. Рябчук, А. В. Емелин. СПб. : Изд-во СПбгУ, 2007. - 326 с.
89. Басов JI. JI. Фотодесорбция и фотосорбция кислорода на окиси цинка. Анализ продуктов / JI. JI. Басов, Ю. П. Солоницын // Кинетика и катализ. — 1965. Т. 6, № 4. — С. 752-754.
90. Прудников И. М. Сравнительные исследования фотосорбции кислорода и фотоиндуцированных сигналов ЭПР на окиси магния и алюминия / И. М. Прудников, Ю. П. Солоницын // Кинетика и катализ. 1972. — Т. 13, № 2. — С. 426-430.
91. Алексеев А. В. Фотостимулированные реакции на поверхности простых и модифицированных оксидных адсорбентов / А. В. Алексеев, С. Ф. Герасимов // Успехи фотоники. Л., 1987. - Вып. 9. - С. 149-189.
92. Фотосорбционные процессы на окислах / Л. Л. Басов и др. // Успехи фотоники. — Л., 1976.-Вып. 6.-С. 82-120.
93. Смирнов Е. П. Кластерные модели в теории фотосорбционных и фотокаталитических процессов на окиси магния // Успехи фотоники. — Л., 1980. — Вып. 7. — С. 169-191.
94. Harkins С. G. Relation of the catalytic activity of MgO to the electron energy states / C. G. Harkins, W. W. Shang, T. W. Laland // J. Physis. Chem. 1969. Vol. 73, № 1. - P. 130-141.
95. Лисаченко А. А. Фотокаталитические свойства окислов в области несобственного поглощения / А. А. Лисаченко, Ф. И. Вилесов // Успехи фотоники. Л., 1974. - Вып. 4. - С. 18-34.
96. Вилесов Ф. И. Масс-спектрометрическое исследование некоторых реакций простых молекул, адсорбированных на окислах алюминия, цинка и магния / Ф. И. Вилесов, В. А. Котельников, А. А. Лисаченко // Молекулярная фотоника. Л., 1970. - С. 318-334.
97. Крылов О. В. Катализ неметаллами / О. В. Крылов. М. : Химия, 1987. - 240 с.
98. Басов Л. Л. Фотосорбция простых газов и фотодиссоциация адсорбированных молекул на окисных адсорбентах / Л. Л. Басов, В. А. Котельников, А. А. Лисаченко // Успехи фотоники.-Л., 1969.-Вып. 1.-С. 78-112.
99. Лисаченко А. А. Стимулированное УФ-освещением разложение N20 на окиси магния / А. А. Лисаченко, Ф. И. Вилесов // Кинетика и катализ. 1968. Т. 9, № 4. - С. 935-936.
100. Sushko P. V. Electronic structure of excited states at low-coordinated surface sites of MgO / Peter V. Sushko, Alexander L. Shluger // Surface Science. 1999. - Vol. 421, № 3. - P. 157-165.
101. Energies and Dynamics of Photoinduced Electron and Hole Processes on MgO Powders / M. Sterrer et.al. // J. Phys. Chem. 2002. - Vol. 106, № 48. - P. 12478-12482.
102. Sterrer M. Knôzinger E. Energy transfer on the MgO surface, monitored by UV-induced H2 chemisorption / M. Sterrer, T. Berger, E. Knôzinger // J. Am. Chem. Soc. 2003. - Vol. 125. — P. 195-199.
103. Reactivity of (H^e-) color centers at the MgO surface: formation of O2- and N2- radical anions / D. Ricci et.al. // Surface Science. 2003. - Vol. 542. - P. 293-306.
104. Воробьев А. А. Адсорбция на CaF2 и SrF2, стимулированная у-излучением / A. A. Воробьев, E. К. Завадовская, H. M. Тимошенко // Физические свойства кристаллов фторидов щелочно-земельных металлов. — Томск, 1968. С. 39-44.
105. Мещеряков Е. П. Фотосорбция простых газов на фторидах щелочно-земельных металлов / Е. П. Мещеряков, В. К. Рябчук, Т. С. Минакова. — Томск, 1990. — 14 с. — Деп. В ОНИИТЭ. Хим. 15.05.90., № 374. ХП 90.
106. Фотокаталитическое окисление на фторидах щелочно-земельных металлов / Е. П. Мещеряков, А. В. Емелин, В. К. Рябчук, Т. С. Минакова // Кинетика и катализ. — 1992. Т. 33, №3,-С. 581-585.
107. Нечипоренко А. П. Индикаторный метод исследования поверхностной кислотности твердых веществ / А. П. Нечипоренко, Т. А Буренина, С. И. Кольцов // Журн. общей химии. — 1984.-Т. 55, вып. 9.-С. 1907-1912.
108. Комаров В. С. Адсорбенты и их свойства / В. С. Комаров. — Минск : Наука и техника, 1977.-432 с.
109. Екимова И. А. Пористость образцов оксида магния // Химия : материалы XLI Междунар. науч. студ. конф. "Студент и научно-технический прогресс". — Новосибирск : Новосиб. гос. ун-т, 2003. С. 117-118.
110. Солоницин Ю. П. Исследование процессов в системе кислород-окись цинка : дис. . канд. физ.-мат. наук / Ю. П. Солоницин. Л., 1965. — 143 с.
111. П.Басов Л. Л. Фотосорбционные и фотокаталитические процессы на поверхности оксида цинка и двуокиси титана : дис. . канд. физ.-мат. наук / Л. Л. Басов. — Л., 1972. — 195 с.
112. Дайбова Е. Б. Кислотно-основное состояние поверхности оксидов кальция и магния / Е. Б. Дайбова, Т. С. Минакова, И. А. Екимова // Полифункциональные наноматериалы и нанотехнологии : сб. статей. — Томск, 2008. Т. 1. - С. 175-177.
113. Екимова И. А. Поверхностные свойства порошкообразных оксидов и фторидов магния, кальция, стронция и бария / И. А. Екимова, Т. С. Минакова // Полифункциональные наноматериалы и нанотехнологии : сборник статей. — Томск, 2008. — Т. 2. — С. 274—277.
114. Н.Рязанов М. А. Об индикаторном методе изучения кислотно-основных свойств частиц суспензий // Журнал физической химии. 2008. - Т. 82, № 10. - С. 1999-2000.
115. Изучение поверхностных свойств кислородных соединений кремния и кальция / И. А. Екимова, Е. Б. Дайбова, Т. С. Минакова, В. С. Захаренко // Оптика атмосферы и океана. — 2008. Т. 21, № 6. - С. 563-565.
116. Екимова И. А. Адсорбционные и кислотно-основные свойства поверхности оксидов щелочно-земельных металлов и магния / И. А. Екимова, Т. С. Минакова // Полифункциональные химические материалы и технологии : сб. статей. — Томск, 2007. — Т. 1.-С. 83-85.
117. Островский В. А. За нижней границей шкалы pH // Соровский образовательный журнал. 1998. -№ 12. - С. 58-64.
118. Адсорбция из растворов на поверхностях твердых тел / пер. с англ. Б. Н. Тарасевича ; под ред. В. И. Лыгина. М. : Мир, 1986. - 488 с.
119. Адсорбция органических веществ из воды / А. М. Когановский и др.. Л. : Химия, 1990.-256 с.
120. Паукштис Е. А. ИК-спектроскопия в гетерогенном кислотно-основном катализе / Е. А. Паукштис. Новосибирск : Наука, 1992. - 256 с.
121. Adsorption microcalorimetric study of rutile and silica-coated rutile / D. N. Furlong et.al. // Chem. Soc. Faraday Trans. 1980. - Vol. 75, is.I. - P. 68-73.
122. Екимова И. А. Особенности адсорбции паров воды на поверхности оксида магния / И. А. Екимова, Т. С. Минакова, Е. В. Аверина // Проблемы термодинамики поверхностных явлений и адсорбции. Иваново : Иван. гос. хим.-технол. ун-т, 2005. - С. 98-100.
123. Майдановская Л. Г. Теплоты адсорбции газов на полупроводниках типа цинковой обманки / Л. Г. Майдановская, И. А. Кировская // Журнал физической химии. —1966. — Т. 40, № 3. — С. 609-613.
124. Екимова И. А. Теплоты адсорбции паров воды на образцах оксида магния / И. А. Екимова, Т. С. Минакова // Всероссийский семинар "Термодинамика поверхностных явлений и адсорбции": труды семинара. — Иваново : Иван. гос. хим.-технол. ун-т, 2003. — С. 57.
125. Гостев Б. В. Калориметрическое и сорбционное изучение поглощения воды перфторированными мембранными материалами / Б. В. Гостев, В.Е. Островский // Журнал физической химии. 1993. - Т. 67, № 6. - С. 1255-1261.
126. Особенности синтеза некоторых дисперсных фторсодержащих материалов / С. И. Войтенко и др. // Химия твердого тела и современные микро и нанотехнологии : VI Междунар. конф. Кисловодск ; Ставрополь, 2006. — С. 134.
127. Кожухарь В. Я. Взаимодействие водяного пара и водородсодержащих газов со шлаками / В. Я. Кожухарь, В. В. Брем, А. С. Абеленцева // Труды Одесского политехнического университета. — 2004. Вып. 2, № 22. — С. 1-3.
128. Екимова И. А. Кислотно-основные, адсорбционные и фотосорбционные свойства образцов оксида магния / И. А. Екимова, Т. С. Минакова // Физикохимия поверхности и защита материалов. 2008. - Т. 44, № 3. - С. 330-334.
129. Екимова И. А. Влияние освещения на адсорбционную способность оксида магния / И. А. Екимова, Т. С. Минакова, В. К. Рябчук // Изв. высш. учеб. заведений. Физика. — 2008. -Т.51, № 8/2. С. 159-162.
130. Екимова И. А. Фотосорбционные свойства оксида магния / И. А. Екимова, В. К. Рябчук, Т. С. Минакова // Полифункциональные материалы : сб. статей. Томск : Изд-во Том. ун-та, 2001. - С. 100-103.
131. Андреев Н. С. Фотоиндуцированная адсорболюминесценция на окиси алюминия / Н. С. Андреев, В. А. Котельников // Кинетика и катализ. — 1974. — Т. 15, № 6. — С. 1612—1613.
132. Волькенштейн Ф. Ф. Радикало-рекомбинационная люминесценция полупроводников / Ф. Ф. Волькенштейн, А. II. Горбань, В. А. Соколов. М. : Наука, 1976. - 278 с.
133. Стыров В. В. Неравновесные хемоэффекты на поверхности твердых тел / В. В. Стыров, Ю. И. Тюрин. М. : Энергоатомиздат, 2003. - 507 с.
134. Песина Э. Л. Материалы для оптической керамики (фториды щелочно-земельных металлов) / Э. Л. Песина, Р. А. Бабицкая, А. А. Колпакова. М. : НИИТЭХим, 1987. - 42 с. (Обзорная информация. Сер. "Прикладная химия").
135. Нестеренко Ю. А. Взаимодействие кристаллического фтористого кальция с кислородсодержащими компонентами воздуха с позиции термодинамики / Ю. А. Нестеренко, Е. Э. Миткевич // Оптические и сцинтил. материалы. — Харьков, 1982. — Т. 9. — С. 119-123.
136. Исследование поверхностных свойств оксидов и фторидов щелочно-земельных металлов / И. А. Екимова, Т. С. Минакова, В. В. Козик, Р. В. Оствальд, В. В. Шагалов // Ползуновский вестник. 2009. - № 3. - С. 256-258.
137. Бахметьев В. В. Синтез и направленное регулирование электрооптических свойств электролюминофоров на основе сульфида цинка : автореф. дис. . канд. хим. наук / В. В. Бахметьев. СПб., 2009. - 32 с.
138. Оптимизация электрооптических свойств люминофоров для электролюминесцентных панелей / В. В. Бахметьев и др. // Оптический журнал. 2003. - Т. 70, № 7. - С. 74-77.
139. Влияние электронно-лучевой обработки на свойства электролюминофоров с различным содержанием активатора / В. В. Бахметьев и др. // Новые исследования в материаловедении и экологии : сб. науч. трудов. СПб., 2003. — Вып. 3. - С. 12-20.