Рост и свойства анодных оксидных пленок на сплавах системы титан-алюминий тема автореферата и диссертации по химии, 02.00.05 ВАК РФ

1. Введение.

2. Литературный обзор.

2.1. Диаграмма состояния ТьА1.

2.2. Окисление титана.

2.3. Окисление алюминия.

2.4. Диаграмма состояния ТЮг-А^Оз.

2.5. Механизмы образования анодных оксидных пленок,

2.6. Анодные оксидные пленки на сплавах вентильных металлов.

3. Экспериментальная часть.

3.1. Приготовление образцов и аттестация поверхности.

3.2. Локальный рентгеноспектральный анализ.

3.3. Рентгенофазовый анализ.

3.4. Электрохимические измерения.

3.5. Метод рентгеновской фотоэлектронной и Оже-спектроскопии.

3.6. Метод эллипсометрии.

3.7. Фотоэлектрохимический метод.

3.8. Метод дифракции отраженных быстрых электронов

3.9. Исследование анодной активации сплавов.

4. Результаты и обсуждение.

4.1. Кинетика формирования анодных оксидных пленок на сплавах системы ТьА1.

4.2. Состав анодной оксидной пленки на сплаве у-гПА1.

4.3. Эллипсометрические измерения.

4.4. Фотоэлектрохимичесие измерения.

4.5. Метод дифракции отраженных быстрых электронов

Сплавы системы титан-алюминий обладают полезными свойствами, в частности, повышенными механическими характеристиками в сочетании с низкой плотностью, а также с высокой жаропрочностью, жаростойкостью и склонностью к пассивации. Благодаря этим свойствам такие сплавы широко применяются в аэрокосмической, химической и нефтехимической промышленностях [ 1 -3].

Титан и алюминий принадлежат к металлам, обладающим большим сродством к кислороду и поэтому в окислительных средах всегда покрыты оксидной пленкой, обеспечивающей высокую коррозионную стойкость этих металлов на воздухе и в растворах электролитов [4].

Нанесение оксидных пленок можно осуществлять различными способами: напылением, высокотемпературным отжигом в кислородной атмосфере, электрохимически и др. Электрохимический метод получения анодных оксидных пленок (АОП) позволяет относительно легко и наиболее точно контролировать их толщину и основные свойства. Анализ литературы [5,6] показывает, что свойства АОП зависят от состава подложки (металла или сплава), способа подготовки поверхности, состава и температуры раствора, режима электрохимического формирования пленок и т.д.

Широкое применение АОП нашли для повышения коррозионной стойкости титановых конструкций [7], рассматривается возможность их применения в качестве диэлектрика для электролитических конденсаторов [8,9].

Легирование металлов различными элементами изменяет свойства оксидных пленок [10], а использование сплавов значительно расширяет возможности получения оксидных пленок с заданными свойствами. В то же время вопросы электрохимического оксидирования сплавов изучены недостаточно. В связи с этим, представляет интерес исследование роста анодных оксидных пленок на сплавах титана с алюминием. С одной стороны, имеется много исследований по оксидированию чистых титана и алюминия, с другой стороны система ТьА1 интересна наличием трех интерметаллических 5 соединений (ИМС): Тл3А1, Т1А1 и Т1А13, имеющих важное промышленное значение благодаря их механическим характеристикам в сочетании с относительно низкой плотностью, а также высокой жаростойкости.

Данная работа посвящена изучению закономерностей формирования АОП на ряде сплавов системы титан-алюминий, состава оксидных слоев и некоторых особенностей электрохимического поведения сплавов, покрытых анодными оксидными пленками.

2. Литературный обзор

114 Выводы.

1. Проведено систематическое исследование процессов формирования анодных оксидных пленок на сплавах системы титан-алюминий с различным соотношением компонентов в растворах серной кислоты, боратного буфера и сульфата натрия. Для изучения кинетики формирования пленок, их толщины и состава использован комплекс электрохимических (вольтамперометрия, хроноамперометрия, хронопотенциометрия) и спектральных (рентгеновская фотоэлектронная спектроскопия, Оже- электронная спектроскопия, дифракция отраженных быстрых электронов, эллипсометрия) методов.

2. Определен выход по току реакции образования анодных оксидных пленок. Наибольшие значения (0.9-1.0) выход по току имеет в нейтральных растворах (N82804 и борно-боратном буфере). Во всех случаях выход по току тем выше, чем выше скорость (плотность задаваемого тока в гальваностатическом оксидировании) процесса формирования анодного оксида. Определены условия (состав и концентрация электролита, область плотностей тока), при которых выход по току реакции образования анодного оксида является максимальным.

3. Показано, что при потенциостатическом оксидировании имеет место гиперболический закон роста толщины анодного оксида. Рассчитаны константы скорости роста анодной оксидной пленки (константы анодирования) для всех исследуемых сплавов: "П3А1, ~ПА1 и "ПА1з, которые составили: 2.2, 2.0 и 1.6 нм/В соответственно. Кинетика формирования анодных оксидов на этих сплавах при условиях, когда выход по току —1.0, подчиняется уравнению Гюнтершульце и Бетца для роста АОП в сильных полях.

4. Тип химической связи титана и алюминия с кислородом в анодной пленке на исследуемых сплавах соответствует оксидам ТЮг и А^Оз, при этом соотношение Т'|4+/А13+ сохраняется практически постоянным при переходе от границы оксид/электролит к границе оксид/сплав и соответствует соотношению компонентов в сплаве. Анодные оксиды на сплавах, сформированные до потенциала 20 В имеют в основном аморфную структуру, с преобладанием связей типа ТьО и А1-0. Связи типа Т1-А1 или Т1-А1-0 не обнаружены.

5. Предложена модель, описывающая форму поверхности сплава с воздушным и анодно сформированным оксидом, позволившая определить оптические параметры оксидной пленки, а также зависимость ее толщины от анодного потенциала, которая совпадает с найденной другими методами.

6. Анодные оксидные пленки на исследуемых сплавах представляют собой полупроводники п-типа с шириной запрещенной зоны 3.2-3.6 эВ. Увеличение содержания алюминия в сплаве приводит к значительному снижению абсолютной величины фототока, т.е. к снижению квантового выхода, при практическом сохранении значения ширины запрещенной зоны.

7. Потенциал нарушения пассивности сплавов титан-алюминий анионами хлора и брома имеет различные значения на разных микроучастках одного образца из-за неоднородности свойств как воздушных, так и анодных оксидных пленок. Показано как потенциал активации сплавов зависит от природы активирующих анионов, состава сплава и предварительного оксидирования образцов. В исследуемых сплавах титан является «промотором пассивности», приводящим к увеличению прочности связи

1. Dimiduk D.M., Miracle D.B., Kim Y-W., Mendiratta M.G. Resent Progress on1.termetallic Alloys for Advanced Aerospace Systems.// ISIJ International, 1991,v.31, pp.1223-1234.

2. Ушков С.С., Иголкин А.И. Новые области применения титана и задачи материаловедения на современном этапе. // Вопросы материаловедения, 1995, №1,с.61-73.

3. Поварова К.Б., Марчукова И.Д., Браславская Г.С. К вопросу о формировании оксидных пленок на поверхности y-TiAl на воздухе и при воздействии кислот.// Металлы, 1994, № 5, с. 148-153.

4. Кеше Г. Коррозия металлов.- М.: Металлургия, 1984, 400с.

5. Юнг JI. Анодные оксидные пленки.- JL: Энергия, 1967, 231с.

6. Nageshwara R.,Anjaneyulu Ch., Sastry K.S. Growth Kinetics of Titanium Anodization in 40 % Sulphuric Acid Temperature Effect. // J. Electrochem. Soc. India, 1988, N 10, pp.49-51.

7. Рускол Ю.С. Титановые конструкционные сплавы в химических производствах. М.: Химия, 1989, 445с.

8. Одынец JI.JL, Муждаба В.М., Ханина Е.Я., Чекмасова С.С. Анодные оксидные пленки. Межвузовский сборник.- Петрозаводск, 1978, 204с.

9. Мирзоев Р.А., Давыдов А.Д. Диэлектрические анодные пленки на металлах. Итоги науки и техники. Серия «Коррозия и защита от коррозии», -М.: ВИНИТИ, 1990, т. 16, с.89-137.

10. Piazza S., Biundo G.Lo., Romano M.S., Sunseri C., Quarto F.D. In situ Caracterization of Passive Films on Ti-Al Alloys by Fotocurrent and Impedance Spectroscopy.// Extended Abstracts of 46 Annual Meeting, Xiamen, China, 1995, v. 2,1-7-24.

11. Эллиот Р.П. Структуры двойных сплавов. М.: Металлургия, 1970, т.1, с.82-84.

12. Хансен М., Андерко К. Структуры двойных сплавов. М.: Металлургия. 1973.- 760с.

13. Massalski Т. Binary Alloys Phase Diagrams. American Society for Metals. Metals Park. Ohio. 1988., v. 1,2.

14. Цвиккер У. Титан и его сплавы. Под. Ред. Елютина О.П. и Рогельберга И.Л. М.: Металлургия, 1979,- 510с.

15. Лучинский Г.П. Химия конструкционных материалов. М.: Высшая школа, 1985, -287с.

16. Томашов Н.Д., Альтовский P.M. Коррозия и защита титана. М.: Машиностроение, 1963, -357с.

17. Allen J.Bard, Dekker М. Encyclopedia of Electrochemistry of the Elements. Department of Chemistry University of Texas., 1987, Austin, Texas.

18. Marcel Pourbaix. Atlas D'Equilibres electrochimiques. // Par. M. Pourbaix en collab. Avec N. De Zoubov, J. van Muyl-der, M. Moussard et al.- Paris: Gauthier-Villars, 1963.-4, 644 c.

19. A.Michaelis, J.L.Delplancke, J.W.Schultze. Ellipsometric determination of the density of Ti02 passive films on Ti single crystals: Combination of ellipsometry and coulonometry.// Mater. Science Forum. 1995, v. 185-188, pp.471-480.

20. D.L.Blackwood, R.Greef, L.M.Peter. An Ellipsometric Study of the Growth and Open-Circuit Dissolution of the Anodic Oxide Film on Titanium.// Electrochim. Acta, 1989, v.34, pp.875-880.

21. T.Ohtsuka, M.Masuda, N.Sato. Ellipsometric Study of the Anodic Oxide Films on Titanium in Hydrochloric Acid, Sulphuric Acid, and Phosphate Solution. // J.Electrochem.Soc., 1985, v.132, pp.787-792.

22. D.Laser, M,Yaniv, S.Gottesfeld. Electrochemical and Optical Properties of Thin Oxide Layers Formed on Fresh Titanium Surfaces in Acid Solutions.// J.Electrochem.Soc., 1978, v.125, pp.358-365.

23. C.K.Dyer, J.S.L.Leach. Breakdown and Efficiency of Anodic Oxide Growth on Titanium.// J.Electrochem.Soc., 1978, v.125, pp.1032-1038.

24. C.K.Dyer, J.S.L.Leach. Reversible Optical Changes Within Anodic Oxide Films on Titanium and Niobium.// J.Electrochem. Soc., 1978, v. 125, pp.23-29.

25. Красильникова И.А., Касаткин Э.В., Сафонов B.A., Иофа З.А. Анодные оксидные пленки на титане и кинетика их образования в растворах серной кислоты.// Электрохимия, 1985, т.21, с. 1268-1272.

26. Красильникова И. А., Касаткин Э.В., Иофа З.А., Сафонов В. А. Эллипсометрическое исследование процесса образования анодной оксидной пленки на титане в 5 N КОН.// Электрохимия, 1981, т. 17, с.610-613.

27. Дудин В.И., Колотыркин Я.М. Растворение титана в щелочных растворах.// Защита металлов, 1969, т. 5, с.388-396.

28. J.P.H.Sukamto, W.H.Smyrl, C.S.McMillan, M.R.Kozlowski. Photoelectrochemical Measurements of Thin Oxide Films: Multiply Internal Reflection Effects.//J.Electrochem. Soc., 1992, v. 139, 1033-1043.

29. U.Stimming. Review Article. Photoelectrochemical Studies of Passive Films.// Electrochim. Acta, 1986, v.31, 415-429.

30. K.Leitner, J.W.Schultze, U.Stimming. Photoelectrochemical Investigations of Passive Films on Titanium Electrodes.// J.Electrochem. Soc., 1986, v.133, 15611568.

31. M.Mikula, J.Blecha, M.Ceppan. Photoelectrochemical Properties of Anodic Ti02 Layers Prepared by.Various Current Densities. //J.Electrochem. Soc., 1992, v. 139, pp. 3470-3474.

32. A.Felske, W.A.Bodawy, W.J.Plieth. The Electrochemical and Photoelectrochemical Behavior of Passivated Ti Nitric Acid Solutions. //J.Electrochem. Soc., 1990, v. 137, pp. 1804-1809.

33. Скорчеллетти В.В. Теоретические основы коррозии металлов. JI.'Химия, 1973,217с.

34. Томашов Н.Д. Теория коррозии и защиты металлов. М.: Изд-во АНСССР, 1959, 547с.

35. Улиг Г.Г., Реви Р.У. Коррозия и борьба с ней. Введение в коррозионную науку и технику. Л.:Химия, 1989, 349с.

36. Голубев А.Н. Анодное окисление алюминиевых сплавов. М.: Изд-во АН СССР, 1961, 196с.

37. Сурганов В.Ф., Позняк А.А., Мозалев A.M. Исследование особенностей анодного окисления пленок алюминия в оксалатном электролите при варьировании плотности анодного тока.// Журн. приклад, химии, 1991, № 10, с.2183-2186.

38. Сурганов В.Ф., Горох Г.Г. Формирование ячеистой структуры анодного оксида при анодировании пленок алюминия в лимоннокислом электролите.// Электрохимия, 1994, т.30, с. 110-113.

39. Сурганов В.Ф. Исследование роста анодного оксида на алюминии в щавелево-кислом электролите методом спектроскопии резерфордовского обратного рассеяния.// Электрохимия, 1994, т.30, с.374-377.

40. Сурганов В.Ф. Исследование роста анодного оксида на алюминии в сернокислом электролите методом спектроскопии резерфордовского обратного рассеяния.// Электрохимия, 1996, т.32, с.616-620.

41. Сурганов В.Ф. Оже-электронные профили распределения химических элементов в анодном оксиде алюминия, сформированном в лимоннокислом электролите.//Электрохимия, 1994, т.30, с.817-820.

42. Hurlen Т., Haug А.Т. Corrosion and passive behaviour of aluminium in weakly alkaline solution.// Electrochim. Acta, 1984, v.29, pp.l 133-1138.

43. Hurlen Т., Lian H, Odegard O.S. Corrosion and passive behaviour of aluminium in weakly acid solution.// Electrochim. Acta, 1984, v.29, pp.579-585.

44. Белов В.Т., Зудов А.И., Зудова JI.A. Взаимосвязь концепций структурного аниона, критической плотности тока и отрицательного объемного заряда применительно к анодному оксиду алюминия. // Электрохимия, 1993, т.29, с.1184-1188.

45. Gudic S., Radosevic J., Kliskic M. Impedance and transient study of aluminium barrier-type oxide films.// J. Appl. Electrochem., 1996, v.26, pp. 1027-1035.

46. Dyer C.K., Alwitt R.S. Ellipsometric measurements of the barrier layer in composite aluminium oxide films.// Electrochim. Acta, 1978, v.23, pp.347-354.

47. Егорова Г.А., Потапов Е.В., Раков A.B. Эллипсометрия тонких прозрачных пленок на алюминии.// Оптика и спектроскопия, 1976, т. 41, с.643-647.

48. T.D.Burleigh. Photoelectrochemical Analysis of the Hydroxide Surface Films on Aluminium and its Alloys.// Materials Science Forum., 1995, v. 185-188, pp.447-456.

49. Yi Li, H.Shimada, M.Sakairi, K.Shigyo, H.Takahashi, M.Seo. Formation and Briacdown of Anodic Oxide Films on Aluminium in Boric Acid/Borate Solutions.// J.Electrochem. Soc., 1997, v. 144, 866-876.

50. Справочник. Диаграммы состояния систем тугоплавких оксидов. Вып.5, часть 1. Двойные системы. М:. Химия, 1985, с.264-265.

51. C.Y.Chao, L.F.Lin and D.D.Macdonald. A Point Defect Model for Anodic Passive Films. // J.Electrochem. Soc. 1981, v. 128, pp.1187-1198.

52. D.D.Macdonald, S.R.Biaggio, H.Song. Steady-State Passive Films.// J. Electrochem. Soc., 1992, v.139, pp.170-177.

53. D.D.Macdonald, E.Sikora, J.Sikora. The kinetics of growth of the passive film on tungsten in acidic phosphate solutions.// Electrochim. Acta, 1998, v.43, pp.28512861.

54. L.Zhang, D.D.Macdonald, E.Sikora, J.Sikora. On the Kinetics of Growth of Anodic Oxide Films.// J. Electrochem. Soc., 1998, v. 145, pp.898-905.

55. D.D.Macdonald, M.Ben-Haim, J.Pallix. Segregation of Alloying Elements into Passive Films.// J. Electrochem. Soc., 1989, v. 136 pp.3269-3273.

56. Зарцин И.Д., Самарцев B.M., Маршаков И.К. Кинетика выделения водорода и изменения анодного потенциала алюминия при активации хлорид-ионами // Защита металлов, 1994, т.ЗО, с.45-47.

57. Huppatz W, Wieser D. Electrochemisch.es Verhalten von Aluminum and Moglichkelten des Korrosionsschutzes in der Praxis.// Werkst. And Korros., 1989, v.40, pp.57-62.

58. N.Khalil, J.S.L.Leach. The Anodic Oxidation of Valve Metals-I. Determination of Ionic Transport Numbers by a-spectrometry. // Electrochim. Acta, 1986, v.31, pp.1279-1285.

59. Yi Li, M.Shimada, M. Sakairi, K.Shigyo, M.Takahashi, M.Seo. Formation and Breakdown of Anodic Oxide Films on Aluminium in Boric Acid /Borate Solution.// J.Electrochem Soc., 1997, v. 144, pp.866-875.

60. M.Bojinov, I.Kanazirski, A.Girginov. A Model for Surface Charge-Assisted Barrier Film Growth on Metals in Acidic Solutions Based on Impedance Measurements. // Electrochim. Acta, 1996, v.41, pp.2695-2705.

61. М.Лоренгель, К.Клюгер. Сравнение техники измерения переходных процессов с обычными электрохимическими методиками.// Электрохимия, 1993, т.29, с.89-96.

62. T.Hurlen and S.Hornkjol. Anodic Growth of Passive films on Titanium // Electrochim. Acta, 1991, v.36, pp. 189-195.

63. T.Hurlen, C.Simon, W.Wilhelmsen, S.Hornkjol, E.Gulbrandsen. Model Studies on Passive Metal Electrodes. //Electrochim. Acta, 1989, v.34, pp.519-524.

64. N.Sato and M.Cohen. The Kinetics of Anodic Oxidation of Iron in Neutral Solution. I. Steady Growth Region.// J.Electrochem Soc., 1964, v.l 11, pp.512-519.

65. N.Sato. Physical Concept of Single Electrode Potential.// Materials Science Forum., 1995, v.185-188, pp.397-406.

66. Мирзоев P.A., Давыдов А.Д. Устойчивость фронта анодного растворения «вентильных» металлов в пассивном состоянии.// Электрохимия, 1995, т.31, с.277-285.

67. Одынец JI.JI. Ионный перенос в анодных оксидных пленках в сильных полях.// Журн. прикл. химии, 1990, с. 1040-1043.

68. K.E.Heusler. Fundamental Aspects of the Passivation of Metals and Semiconductors. // Materials Science Forum, 1995, v. 185-188, pp.9-18.

69. Акимов А.Г., Астафьев М.Г. Электромодуляционная спектроскопия систем металл-окисел-электролит.// Итоги науки и техники. Серия «Коррозия и защита от коррозии», М., ВИНИТИ, 1978, с.72-110.

70. R.G.Buchheit, K.R.Zavadil, J.R.Scully, T.O.Knight. The Electrochemical Behaviour of the Al3Ta Intermetallic Compound and Pitting in Two-Phase Al-Ta Alloys.//J.Electrochem. Soc., 1995, v.142, pp.51-58.

71. A.C. Crossland, G.E.Thompson, J.Wan, H.Habazaki, K.Shimizu, P.Skeldon, G.C.Wood. The Composition and Morphology of Anodic Films on Al-Mo Alloys.// J.Electrochem. Soc., 1997, v. 144, pp.847-855.

72. Хабибуллина Ф.В., Малых C.A., Байталов Д.А. Закономерности образования тонких оксидных пленок на титан-алюминиевых сплавах.// Анодное окисление алюминия и его практическое значение. (Анод-88). Тезисы докладов, Казань, 1988, с. 163-165.

73. Великодный JI.H., Шепелин В.А., Касаткин Э.В., Жихарев Ю.В., Павлушина Г.М, Эллипсометрическое изучение влияния компонентов сплавов Ta-Nb на некоторые свойства анодных окислов.//Электрохимия, 1980, т.16, с.727-730.

74. C.C.Streinz, J.Kruger, P.J.Moran. A Microellipsometric Study of Passive Film Formation on Al-Ta Alloys.// J.Electrochem. Soc., 1994, v. 141, pp.1126-1137.

75. Laser D. Marcus H.L. Auger electron spectroscopy depth profile of thin oxide on Ti-Mo alloy.// J.Electrochem Soc., 1980, v. 127, p.763.

76. A.Kudo, M.Steinberg, A.J.Bard, A.Campion, M.A.Fox, T.E.Mallouk, S.E.Webber, J.M.White. Photoelectrochemical Properties of Titanium Dioxide Electrodes Prepared from a Titanium-Aluminium Alloy.// J.Electrochem. Soc., 1990, v.137, pp.3846-3849.

77. PiazzaS.,G.Lo Biundo, M.S.Romano, C.Sunsery., F.D.Quarto. In situ Characterization of Passive Films on Al-Ti Alloys by Fotocurrent and Impedance Spectroscopy.// Corrosion Sci., 1998, v.40, pp. 1087-1108.

78. Акимов А.Г., Розенфельд И.Л. Электрохимическое поведение окислов на сплавах титан-алюминий и титан-ниобий.// Защита металлов, 1974, т. 10, с.33-36.

79. Акимов А.Г., Дагуров В.Г. Исследование состава анодной оксидной пленки на сплаве титан-алюминий. //Электрохимия, 1981, т. 17, с.518-522

80. Борисова Е.А., Бочвар Г.А., Брун М.Я. Титановые сплавы. Металлография титановых сплавов. М. Металлургия, 1980.

81. Акимов А.Г., Розенфельд И.Д., Дагуров В.Г. Исследование окисления титана и сплава ВТ-5 в кислороде и парах воды методом рентгеновской спектроскопии.// Защита металлов, 1979, т. 15, с. 169.

82. Song Ye, Cao Wanzhen. The Chemical Composition and Microstructure of Anidic Oxide Films on Al-Ti Alloys.// J. Xi*An Jiaotong University, 1995, v.29, p.45-51.

83. Маркив В.Я. Фазовые равновесия в системе Ti-Co-Al.// Известия АНСССР. Металлы., 1966, №1, с.156-158.

84. Феттер К. Электрохимическая кинетика. М.:Химия., 1967, 856 с.

85. Одынец Л.Л., Орлов В.М. Анодные оксидные пленки. Л.: Наука, 1990, 200с.

86. Гамбург Д.Ю. Электрохимическая кристаллизация металлов и сплавов. М.: Янус-К.1997, с.282.

87. Boskris J.O., Minevsky L.V. About the Mechanism of the Passivity of Aluminium and its Alloys. // J. Electroanal. Chem., 1993, v.349, pp.375-414.

88. Андреева Л.В., Иконописов С.М. Формирование беспористых анодных пленок на алюминии в водных боратных растворах. II Зависимость плотности ионного тока от напряженности электрического поля и температуры. // Электрохимия 1970, т.6. с. 1070-1073.

89. Lohrengel, S.Russe. Transient Ionic Space Charges in Thin Oxide Films: Determination of Thickness Distribution, Temperature, and Localized Phenomena. Materials Science Forum. 1995, v. 185-188, pp.611-620.

90. Петрова В.В., Савина А.А., Колесникова Г.А. Исследование процесса залечивания микропор в анодных оксидах алюминия с применением метода малоуглового рассеяния рентгеновских лучей. // Электрохимия, 1995, т.31,фс.ЗЗ 1-334.

91. Андреева Л.В., Иконописов С.М., Токарев Д.Д. Образование беспористых анодных пленок на алюминии в водных боратных растворах. IV. Кинетика вольтастатического анодирования. // Электрохимия, 1971, т.7, с. 1698-1702.

92. Мирзоев Р.А. Кинетика анодного образования диэлектрического окисла при постоянном напряжении на ячейке. // Электрохимия, 1975, т.11, с. 1682-1685.

93. Dreiner R. The Temperature Dependence of the Field Coefficient for the Anodization of Tantalum.// J.Electrochem. Soc. 1964, v.l 11, pp.1350-1355.

94. Dignam M.J., D.Goad. The Potentiostatic Method as Applied to the Anodic Oxidation of the Valve Metals, and the Field Dependence of the Tafel Slope for Aluminum. // J.Electrochem. Soc., 1966, v.l 13, pp.381-384.

95. El.Shayeb H.A., Abd El. Wahab E.M., Abd El Meguid E.A. Electrchemical Behaviour of Titaniun in Buffer Solutions. // Bull. Electrochem., 1994, v. 10, pp.246-251.

96. Горшков M.M. Эллипсометрия., M: Советское радио, 1974, 200c.

97. Урывский Ю.И. Эллипсометрия., Воронеж: Изд. Воронежского ун-та, 1971, 131с.

98. Пшеницин В.И., Абаев М.И., Лызлов Н.Ю., Эллипсометрия в физико-химических исследованиях. Ленинград: Химия, 1986, 152с.

99. Brusic V., Genshow М.А., Bockris J.O'M. On the Possible Influence of Surface Roughening on Ellipsometric Data in Electrochemical Studies.// Surface Sci., 1972, v.29, pp.653-662.

100. Fenstermacer C.A., Mc Crachin F.L. Errors Arising from Surface Rougheness in Ellipsometric measurements of the Refractive Index of a Surface. // Surface Sci., 1969, v.16, pp.85-92.

101. Brudzewski K. Ellipsometric Investigations of a Substrate Thin Film System with Rough Boundaries Using the Equivalent Film Theory. // Thin Solid Films, 1979, v.61, pp.183-191.

102. Синельникова B.C., Подергин В.А., Речкин B.H. Алюминиды. Киев: Наукова Думка, 1965, 242с.

103. Бриггс Д., Сих М. Анализ поверхности методами Оже и рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии. М.: Мир, 1987, 203 с.

104. Kelly R., Nghi Q. Lam. The Sputtering of Oxides.// Rad.Eff. 1973, v. 19, pp.3947

105. Бериш P. Распыление твердых тел ионной бомбардировкой М.: Мир, 1984, 302 с.126

106. Ruth R.L. Schwarts N.A. A Rutherford Backscattering Analysis of Anodic Tantalum-Titanium Oxides// J. Electrochem. Soc., 1976, v. 123, pp. 1860-1867.

107. Попик M.B. Кристаллография, 1994, т.39, c.332-336.

108. C.H.Hervoches, P.Lightfood. A Variable-Temperature Powder Neutron Diffraction Study of Ferroelectric Bi4Ti3012. // Chem. Mater., 1999, v.l 1, pp.33593364.

109. Давыдов А.Д., Камкии A.H., Земскова O.B. Влияние окисной пленки на анодную анионную активацию металлов.// Электрохимия, 1982, т. 18, с. 13 671372.

110. Давыдов А.Д., Земскова О.В. Причины анодной активации титана в растворах хлористого натрия.// Электрохимия, 1984, т.20, с.722-726.

111. J.M. Abd El Kader, F.M. Abd El Wahab, H.A. El Shayeb, M.G.A.Khedr. Oxide Film Thickening on Titanium in Aqueous Solutions in Relation to Anion Type and Concentration.//Brist. Corros.J., 1981, v.16, pp.111-114.

112. S.Pressur, U.Stimming, S.Tokunaga. The Wavelength and Dependency of Spatially Resolved Photoelectrochemical Measurements on Ti02.// J.Electrochem.Soc.,1995, v.142, pp. 102-111.

113. Ю.Я.Гуревич, Ю.В.Шесков. Фотоэлектрохимия полупроводников., М.:1. Наука, 1983,312с.

114. Борзенко А.Г., Сафонов В.А., Мойш Ю.В., Ширяев В.И. Учет влиянияшероховатости при определении оптических констант железа. // Электрохимия,1987, т.23, с.1696-1700.

115. M.Janic-Crachar, A.Wolowic, A.Szummer, K.Lublinska, S.Hofmann, K.Kraus.

116. Passivity of Al-Mo Amorphous Alloys and their Electrochemical Breakdown. //

117. Electrocimica Acta, 1998, v.43, pp.875-882.